一种抛光液滴液装置制造方法及图纸

本申请涉及抛光技术领域，尤其是涉及一种抛光液滴液装置，用于对抛光盘进行补充抛光液，包括：滴液机构，所述滴液机构具有多组，每组所述滴液机构均具有滴液部，每个所述滴液部位于所述抛光盘的上方，多个所述滴液部关于所述抛光盘的圆心呈中心对称分布，所述滴液部用于向下对抛光盘进行滴抛光液。解决了抛光液滴液不均匀的技术问题，达到抛光液滴液均匀化的技术效果。技术效果。技术效果。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光液滴液装置


[0001]本申请涉及抛光
，尤其是涉及一种抛光液滴液装置。

技术介绍

[0002]在硅片的制造过程中，一般需要经过粗抛、精抛等抛光工序。其中抛光液的供给对于硅片抛光后的最终形貌质量有较大的影响，因此为硅片抛光系统设计合理有效的抛光液滴液装置具有重要的意义。
[0003]现有技术中，在市场抛光液滴液装置中主要采用抛光盘中心滴液方式实现向抛光盘添加抛光液，抛光盘中心滴液方式是指滴液装置从抛光盘的中心位置的上方向下补充抛光液，随着抛头旋转从而将抛光液带动至抛光盘的其他位置，如此，抛光盘中心滴液方式存在抛光液滞留于抛光盘中心而导致抛光液利用率较低的问题，从而降低硅片的抛光品质。
[0004]因此，现有技术的技术问题在于：抛光液滴液不均匀。

技术实现思路

[0005]本申请提供一种抛光液滴液装置，解决了抛光液滴液不均匀的技术问题，达到抛光液滴液均匀化的技术效果。
[0006]本申请提供的一种抛光液滴液装置，采用如下的技术方案：
[0007]一种抛光液滴液装置，用于对抛光盘进行补充抛光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光液滴液装置，用于对抛光盘(100)进行补充抛光液，其特征在于，包括：滴液机构(200)，所述滴液机构(200)具有多组，每组所述滴液机构(200)均具有滴液部(231)，每个所述滴液部(231)位于所述抛光盘(100)的上方，多个所述滴液部(231)关于所述抛光盘(100)的圆心呈中心对称分布，所述滴液部(231)用于向下对抛光盘(100)进行滴抛光液。2.根据权利要求1所述的一种抛光液滴液装置，其特征在于，每个所述滴液机构(200)均包括：座体(210)，所述座体(210)位于所述抛光盘(100)所在的竖直空间的外侧；悬臂(220)，所述悬臂(220)转动连接于所述座体(210)，所述悬臂(220)上具有管路(230)，所述管路(230)用于流通抛光液，所述管路(230)远离所述座体(210)的一端具有所述滴液部(231)；所述滴液部(231)随所述悬臂(220)旋转而形成有第一工位(240)和第二工位(250)：所述第一工位(240)位于所述抛光盘(100)上方，所述滴液部(231)用于在所述第一工位(240)上向下滴抛光液；所述第二工位(250)位于所述抛光盘(100)所在的竖直空间的外侧，所述滴液部(231)在所述第二工位(250)上无动作执行。3.根据权利要求2所述的一种抛光液滴液装置，其特征在于，所述滴液机构(200)还包括定位组件(260)，所述定位组件(260)包括：检测件(261)，所述检测件(261)连接于所述座体(210)上；定位件(262)，所述定位件(262)连接于所述悬臂(220)上，使得所述定位件(262)具有与所述悬臂(220)同步旋转的转动自由度；其中，所述检测件(261)用于检测所述定位件(262)的位置，所述检测件(261)检测到所述定位件(262)时，所述滴液部(231)位于所述第一工位(240)上。4.根据权利要求3所述的一种抛光液滴液装置，其特征在于，所述定位件(262)包括：定位螺钉，所述定位螺钉固定连接于所述悬臂(220)的底部，使得所述定位螺钉具有与所述悬臂(220)同步旋转的转动自由度，所述定位螺钉用于与所述检测件(261)配合。5.根据权利要求4所述的一种抛光液滴液装置，其特征在于，所述滴液机构(2...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱亮，曹建伟，李阳健，郑猛，韩鹏飞，黄金涛，
申请(专利权)人：浙江晶盛创芯半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：