【技术实现步骤摘要】
本技术属于硅片生产，具体涉及一种硅片抛光用陶瓷盘清洁装置。
技术介绍
1、在硅片加工制造过程中，为改善硅片加工过程中留下的缺陷，同时使硅片表面足够平整，会对硅片进行抛光处理，而抛光机为抛光处理的专用机台。抛光机运行时的主要步骤为：取片、涂蜡、洗边、贴片、抛光、卸片等。陶瓷盘在涂蜡前需要进行清洗，保证涂蜡均匀，然后进行洗边、贴片、抛光及卸片，卸片后进行清洗及再次涂蜡，进行下一流程生产。
2、其中涂蜡是一个比较重要的步骤，涂蜡的主要目的是在陶瓷盘上表面涂上均匀的蜡层，便于后续与硅片贴合在一起，在陶瓷盘上涂蜡之前需要对其表面进行清洁，清洁时使陶瓷盘一直处于旋转状态，侧边喷头往陶瓷盘上表面喷洒化学液，同时清洁装置的毛刷先被气缸顶起后移动至陶瓷盘中心，再下降从陶瓷盘的中心向外移动将陶瓷盘清洁干净。
3、在实际生产加工的过程中，一块经过卸片的陶瓷盘在进行下次抛光生产前需先放置在蜡锅内进行清洁，由于陶瓷盘在涂蜡后会加热使其便于与硅片贴合，但也使蜡变的不易清洁。在清洁装置的毛刷对陶瓷盘表面进行清洁时，由于现有清洁装置的毛刷无法调整高度，即毛刷与陶瓷盘之间的距离无法调节，导致在毛刷的刷毛出现磨损接触不到陶瓷盘时只能更换新的毛刷(顶起气缸行程是固定的，只能顶起毛刷置于固定高度，在毛刷出现磨损时，刷毛长度下降从而无法与陶瓷盘接触)，这样会造成毛刷的浪费和成本的增加，同时更换毛刷也会增加机台停机时间。
4、另外，由于现有清洁装置的毛刷刷头尺寸偏小，清洁效果不好会有蜡残留，再次涂蜡时会造成涂蜡不均匀，导致抛光后的硅片出
5、因此对清洁装置进行进一步的改进，使清洁装置的毛刷高度可以调整及陶瓷盘的蜡可以清洁干净，对于后续提高硅片加工品质、降低成本、提高稼动率等具有重要的技术价值。
技术实现思路
1、本技术的目的就在于为解决现有技术的不足而提供一种硅片抛光用陶瓷盘清洁装置。
2、本技术的目的是以下述技术方案实现的：
3、一种硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，包括清洗机构以及升降机构；
4、所述清洗机构包括毛刷、支撑杆和位于所述支撑杆上的第一驱动装置；所述第一驱动装置与所述毛刷连接，且能够带动毛刷沿所述支撑杆水平往复移动；
5、所述升降机构包括分别位于所述支撑杆两端下方的主升降机构和辅升降机构；所述主升降机构由下至上包括第二驱动装置、调节块和第一连接板；所述第一连接板的上端与所述支撑杆端部固定连接，下端与所述调节块的上端活动连接；所述第二驱动装置包括固定端和伸缩端，所述调节块的下端高度可调地连接于所述伸缩端，并在所述第二驱动装置的作用下能够带动所述第一连接板、与所述第一连接板相连的所述支撑杆一端、以及位于所述支撑杆上的所述第一驱动装置、所述毛刷上下往复移动，通过调节所述调节块与所述伸缩端的连接高度，实现对毛刷高度的进一步调节；所述辅升降机构包括与所述支撑杆另一端连接的第二连接板、以及与所述第二连接板的下端活动连接的支撑板，当所述调节块高度调整进而带动所述第一连接板、以及所述支撑杆的一端上下移动时，所述第二连接板通过围绕所述支撑板转动一定角度以适应所述调节块的高度调整。
6、优选的，还包括底板，所述第二驱动装置和所述支撑板固定连接于所述底板上。
7、优选的，所述伸缩端上设有外螺纹，调节块上设有供所述外螺纹穿过的螺纹孔，紧固螺母穿过所述外螺纹将所述伸缩端和所述调节块紧固连接，当调节所述调节块的连接高度时，松开所述紧固螺母，然后旋转所述伸缩端直至到达目标高度位置，再拧紧所述紧固螺母。
8、优选的，所述底板上设有内部中空的固定座，所述第二驱动装置的固定端位于所述固定座内部，所述伸缩端穿过所述固定座的表面与所述调节块连接。
9、优选的，所述第一连接板和所述第二连接板之间还设有与所述支撑杆平行的辅助杆，所述第一驱动装置穿过所述辅助杆，所述辅助杆用于在所述第一驱动装置沿所述支撑杆移动时辅助支撑所述第一驱动装置。
10、优选的，所述第一连接板和所述第二连接板的上部均设有感应器，用于感应所述第一驱动装置的位置。
11、优选的，所述第一驱动装置与所述毛刷之间设有毛刷杆，所述毛刷杆的端部设有长条形调节孔，所述毛刷通过穿过所述长条形调节孔的调节螺丝固定于所述毛刷杆上，通过调节所述调节螺丝于所述长条形调节孔的位置能够调节所述毛刷于所述毛刷杆上的位置。
12、优选的，所述毛刷和所述第一连接板位于所述支撑杆的同一端方向。
13、优选的，所述毛刷杆与所述第一驱动装置之间设有固定块。
14、优选的，所述毛刷的底面为正方形。
15、本申请可以通过调整调节块来调节毛刷的高度，避免了因刷毛磨损不能调整而更换毛刷的成本浪费。因此对后续加工的稳定性和硅片的品质有很大的提升效果，因此本申请所提供的陶瓷盘清洁装置在半导体硅片加工制造中具有较好的实用价值和技术改进意义。
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1.一种硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，包括清洗机构以及升降机构；
2.如权利要求1所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，
3.如权利要求1所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，
4.如权利要求2所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，
5.如权利要求1所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，
6.如权利要求1所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，
7.如权利要求1所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，
8.如权利要求7所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，
9.如权利要求7所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，
10.如权利要求1所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，
【技术特征摘要】
1.一种硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，包括清洗机构以及升降机构；
2.如权利要求1所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，
3.如权利要求1所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，
4.如权利要求2所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，
5.如权利要求1所述的硅片抛光用陶瓷盘清洁装置，其特征在于，<...
【专利技术属性】
技术研发人员：吴泓明，钟佑生，陈志刚，周军磊，李常存，
申请(专利权)人：郑州合晶硅材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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