【技术实现步骤摘要】
半导体处理设备及其晶圆托盘组件
[0001]本技术涉及一种半导体处理设备及其晶圆托盘组件。
技术介绍
[0002]目前的薄膜沉积设备中,反应腔内设置可承载一片或多片晶圆的晶圆托盘,晶圆托盘的底部与托盘旋转机构连接,反应腔的底部设置驱动器,托盘旋转机构在驱动器的驱动下带动晶圆托盘旋转,反应腔内通入反应气体,对晶圆进行沉积操作,在晶圆托盘的下方设置有加热装置,用于在半导体制程中加热晶圆托盘,以控制晶圆的制程温度。晶圆托盘的内侧和外侧之间存在温度差,容易导致晶圆托盘内侧出现热应力过大或升降温过程的热冲击而出现裂痕。托盘旋转机构中采用拉杆实现对晶圆托盘的固定和拉紧,拉杆只能从反应腔底部进行拆卸,不便于安装维护,且容易破坏密封性能,造成腔体泄露。另外,驱动器通常采用磁流体驱动电机,反应腔内较高的温度容易传导至磁流体驱动电机,导致磁流体失效,造成漏磁泄露。
[0003]这里的陈述仅提供与本技术有关的
技术介绍
,而并不必然地构成现有技术。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种半导体处理设备及其晶圆托盘组件,减小晶圆托盘中心和边缘的温度差,降低晶圆托盘边缘的温度梯度,减少晶圆托盘边缘的热冲击,降低裂盘风险。
[0005]为了达到上述目的,本技术提供一种晶圆托盘组件,其设置在半导体处理设备的反应腔内,所述反应腔内设置托盘旋转机构,所述晶圆托盘组件设置在所述托盘旋转机构的顶部,可跟随所述托盘旋转机构旋转,所述晶圆托盘组件包含:
[0006]托盘,其设置在所述托盘旋转机构的顶部;
[ ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种晶圆托盘组件,其设置在半导体处理设备的反应腔内,所述反应腔内设置托盘旋转机构,所述晶圆托盘组件设置在所述托盘旋转机构的顶部,可跟随所述托盘旋转机构旋转,其特征在于,所述晶圆托盘组件包含:托盘,其设置在所述托盘旋转机构的顶部;多个晶圆基座,所述晶圆基座分布在所述托盘的上表面,所述晶圆基座内用于容纳待处理晶圆;压紧盖板,其设置在所述托盘上,位于所述托盘的中心区域;托盘盖板,其设置在所述托盘上,所述托盘盖板围绕所述压紧盖板;隔热环,其设置在所述托盘上,所述隔热环位于所述托盘盖板和所述压紧盖板之间。2.如权利要求1所述的晶圆托盘组件,其特征在于,所述隔热环靠近所述托盘的中心孔。3.如权利要求1或2所述的晶圆托盘组件,其特征在于,所述托盘盖板与所述隔热环相邻的边缘具有第一延展部,所述第一延展部延展至所述隔热环顶部,所述压紧盖板与所述隔热环相邻的边缘具有第二延展部,所述第二延展部延展至所述隔热环顶部。4.如权利要求3所述的晶圆托盘组件,其特征在于,所述隔热环的材料采用耐高温非金属材料。5.如权利要求1所述的晶圆托盘组件,其特征在于,所述托盘的上表面设置若干基座放置区,所述晶圆基座设置在所述基座放置区内。6.如权利要求1所述的晶圆托盘组件,其特征在于,所述托盘盖板具有中心孔和多个晶圆通孔,所述压紧盖板位于所述中心孔中,所述晶圆基座位于所述晶圆通孔中。7.一种半导体处理设备,其特征在于,包含:反应腔;托盘旋转驱动机构,其设置在所述反应腔内,用于驱动所述托盘旋转机构旋转;如权利要求1
‑
6中任意一项所述的晶圆托盘组件,其设置在所述托盘旋转驱动机构上,可跟随所述托盘旋转驱动机构旋转,所述晶圆托盘组件用于承载一片或多片晶圆;进气装置,其设置在所述反应腔的顶部;抽气装置,其设置在所述反应腔的底部;加热装置,其设置在所述晶圆托盘组件的下方,用于加热所述晶圆托盘组件。8.如权利要求7所述的半导体处理设备,其特征在于,所述托盘旋转驱动机构包含:驱动器,其设置在所述反应腔底部,用于提供驱动力;分气座,其连接所述驱动器,所述分气座在所述驱动器输出的驱动力的驱动下发生旋转;支撑套筒,其设置在所述分气座上,所述支撑套筒包围形成旋转机构内腔区域;分气转接环,其设置在所述支撑套筒顶部,所述晶圆托盘组件设置在所述分气转接环上;拉杆组件,其一端与所述分气座固定连接,另一端穿过并连接所述晶圆托盘组件;所述驱动器内设置水冷通道,所述水冷通道位于所述拉杆组件下方,所述水冷通道内通入循环冷却水。9.如权利要求8所述的半导体处理设备,其特征在于,所述拉杆组件包含:
拉杆,所述拉杆的顶端穿过所述晶圆托盘组件并与所述晶圆托盘组件柔性固定连接,所述拉杆的底端通过柔性固定组件与所述分气座柔性固定连接,所述拉杆用于压紧所述晶圆托盘组件;套筒,其套设在所述拉杆外部,所述套筒的顶端与所述分气转接环连接,所述套筒的底端通过柔性固定组件与所述分气座柔性固定连接。10.如权利要求9所述的半导体处理设备,...
【专利技术属性】
技术研发人员:汪国元,罗稼昊,郑振宇,张昭,
申请(专利权)人:中微半导体设备上海股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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