基于双光源多级次的对准系统及其对准方法技术方案

本发明专利技术提供了一种基于双光源多级次的对准系统及其对准方法。基于双光源多级次对准系统的对准方法，包括：将对准栅格分工艺处理以获得不同级次衍射光位置信息，根据所述位置信息确定权重因数；所述权重因数结合不同级次衍射光的所处位置信息，获得对准位置。对准系统及其对准方法不但可以增强基底上栅格对工艺的适应性，获得更精确的对准位置，而且可减小栅格在各种工艺变形情况下产生的误差对对准位置的影响，将工艺对栅格的影响降至最低。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种基于双光源多级次对准系统的对准方法，包括：将对准栅格分工艺处理以获得不同级次衍射光位置信息，根据所述位置信息确定权重因数；所述权重因数结合不同级次衍射光的所处位置信息，获得对准位置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：韩悦，李运锋，赵新，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]