成像对准系统技术方案

本发明专利技术公开了一种成像对准系统，包括：光源、波长选择单元、偏振调节单元、探测器，以及信号处理与控制单元；光源提供照明光束，所述照明光束依次通过用于选择特定波长的光束的波长选择单元、用于实现照明光束偏振方向的调节的偏振调节单元，再经基片上方的第一透镜后投射到基片的对准标记上，产生反射光或衍射光再经第一透镜收集后，由探测器接收；所述信号处理与控制单元用于图像的采集和处理，并进行所述波长选择单元、偏振调节单元的状态控制。本发明专利技术增加了波长选择单元，可针对不同工艺特性的测试对象，实现波长、偏振的最优配置，增加标记图像的对比度，提高对准系统的对准成功率和测量精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及集成电路制造领域，特别涉及一种成像对准系统。
技术介绍
对准系统是半导体光刻设备中的一个核也分系统，其对准精度往往直接决定半导 体光刻设备所能达到的套刻精度。半导体光刻设备将描绘在掩模版上的电路图形通过光学 投影的方法投影在涂有感光材料的曝光对象例如娃片的表面。然后通过刻蚀等工艺实现掩 模版和曝光对象之间的图形转移。由于芯片是由多层电路组成的，集成电路芯片通常需要 多次曝光完成。为保证不同电路层之间的精确位置关系，在投影曝光过程中，必须通过对准 系统实现掩模、曝光对象之间的精确对准。 机器视觉对准系统W其结构简单、速度快、精度高等特点在光刻设备中得到了广 泛应用。例如，美国的一种晶圆标记与基底标记的位置测量(对准）装置。该装置通过照 明系统和光学成像系统，将晶圆标记与基底台标记依次成像到图像捕获单元（CCD，化arge Coupled Device 或CMOS, Complementary Metal Oxide Semiconductor Transistor),从而 获得对准标记的数字图像。然后采用信号处理和图像分析的方法，确定标记图像在图像坐 标系中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成像对准系统，包括：光源、偏振调节单元、探测器，以及信号处理与控制单元；其特征在于，还包括沿光传播方向设置的波长选择单元，所述光源提供照明光束，所述照明光束依次通过用于选择特定波长的光束的所述波长选择单元、用于实现照明光束偏振方向的调节的所述偏振调节单元，再经基片上方的第一透镜后投射到所述基片的对准标记上，产生反射光或衍射光再经所述第一透镜收集后，由所述探测器接收；所述信号处理与控制单元用于从所述探测器处采集图像并处理，并对所述波长选择单元和所述偏振调节单元的状态进行控制。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张鹏黎，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31