本发明专利技术提供流体喷射喷嘴清洗装置及流体喷射喷嘴清洗方法。流体喷射喷嘴清洗装置具备：杯，具有内部空间、上侧开口和下侧开口，所述上侧开口开放以使流体喷射喷嘴进入内部空间，所述下侧开口供清洗液从内部空间排出到外部；清洗液喷射部，在流体喷射喷嘴位于杯的内部空间时向流体喷射喷嘴喷射清洗液；以及干燥气体喷射部，在清洗液的喷射结束后，喷射用于干燥流体喷射喷嘴的干燥气体。干燥流体喷射喷嘴的干燥气体。干燥流体喷射喷嘴的干燥气体。
【技术实现步骤摘要】
流体喷射喷嘴清洗装置及流体喷射喷嘴清洗方法
[0001]本专利技术涉及一种对喷射用于基板表面处理的流体的流体喷射装置的流体喷射喷嘴进行清洗的装置和清洗流体喷射喷嘴的方法。
技术介绍
[0002]半导体工序通常包括：蚀刻基板即晶片(wafer)的蚀刻工序；将晶片截断成多个晶粒的切单工序；以及对晶片进行清洗的清洗工序等。在晶片蚀刻工序或清洗工序中使用的基板处理装置具备将晶片以能够旋转的方式支撑的旋转卡盘(chuck)和向旋转的晶片喷射处理流体的流体喷射装置。
[0003]流体喷射装置在末端部具备喷射处理流体的流体喷射喷嘴(nozzle)。可是，在喷射处理流体的过程中或处理流体的喷射停止期间，会从流体喷射喷嘴释放污染工艺腔(chamber)或晶片的烟雾(fume)。
[0004]另外，在流体喷射喷嘴上，会有未能落到晶片而残留的处理流体像水滴一样聚集在其上，或者会有从晶片溅射的污染物质附着在其上。如此残留或附着于流体喷射喷嘴的处理流体或污染物质凝集并干燥固化，从而落到晶片上而导致晶片质量不良，或者会堵塞流体喷射喷嘴的开口而妨碍处理流体的喷射。
[0005]本专利技术的
技术介绍
在韩国公开专利公报第10
‑
2005
‑
0097380号(2005.10.07.公开，专利技术名称：喷嘴清洗装置)中公开。
技术实现思路
[0006]本专利技术是为了改善如上所述的问题而提出的，提供一种清洗并干燥流体喷射喷嘴的装置及其方法，以向基板喷射处理流体的流体喷射装置的流体喷射喷嘴中去除污染物质。
[0007]本专利技术的流体喷射喷嘴清洗装置包括：杯，所述杯具有上侧开口和下侧开口，所述上侧开口开放以使流体喷射喷嘴进入内部空间，所述下侧开口供清洗液从所述内部空间排出到外部；清洗液喷射部，所述清洗液喷射部在所述流体喷射喷嘴位于所述杯的所述内部空间时向所述流体喷射喷嘴喷射清洗液；以及干燥气体喷射部，所述干燥气体喷射部在所述清洗液的喷射结束后，喷射用于干燥所述流体喷射喷嘴的干燥气体。
[0008]在本专利技术中，所述清洗液喷射部可以从所述杯的所述上侧开口和所述下侧开口之间的侧壁向内侧喷射所述清洗液，所述干燥气体喷射部可以在所述杯的所述侧壁，从比喷射所述清洗液的地点高的地点向内侧喷射所述干燥气体。
[0009]在本专利技术中，所述清洗液喷射部可以包括：环形流路部，所述环形流路部以围绕所述杯的方式与所述杯结合；连接流路部，所述连接流路部从所述环形流路部向径向凸出，并以流体能够流动的方式与所述环形流路部连接；清洗液供应管，所述清洗液供应管的一侧以流体能够流动的方式连接于清洗液箱，另一侧以流体能够流动的方式连接于所述连接流路部；以及清洗液供应泵，所述清洗液供应泵对所述清洗液进行加压以使所述清洗液从所
述清洗液箱向所述杯的内侧喷射。
[0010]在本专利技术中，可以配备有多个所述干燥气体喷射部，所述多个干燥气体喷射部中由位于相对较高地点的所述干燥气体喷射部喷射的干燥气体所朝向的地点的高度，可以高于由位于相对较低地点的所述干燥气体喷射部喷射的干燥气体所朝向的地点的高度。
[0011]在本专利技术中，所述干燥气体喷射部可以包括：环形流路部，以围绕所述杯的方式与所述杯结合，并在所述环形流路部的内部具备所述干燥气体能够流动的环形流路；连接流路部，所述连接流路部从所述环形流路部向径向凸出，并以流体能够流动的方式与所述环形流路连接；干燥气体供应管，所述干燥气体供应管的一侧以流体能够流动的方式连接于干燥气体箱，另一侧以流体能够流动的方式连接于所述连接流路部；以及干燥气体供应泵，所述干燥气体供应泵对所述干燥气体进行加压以使所述干燥气体从所述干燥气体箱向所述杯的内侧喷射。
[0012]在本专利技术中，可以配备有多个所述流体喷射喷嘴，所述多个流体喷射喷嘴可以彼此相邻地配置并且一同沿水平和竖直方向移动，所述清洗液喷射部可以同时向位于所述杯的所述内部空间的多个流体喷射喷嘴喷射所述清洗液，所述干燥气体喷射部可以在所述清洗液喷射结束后，同时向所述多个流体喷射喷嘴喷射所述干燥气体。
[0013]在本专利技术中，所述清洗液喷射部可以将所述清洗液以0.3升/分钟至3.0升/分钟(liter/minute)的流量向所述杯的所述内部空间喷射，所述清洗液的喷射时间可以为10秒至2分钟。
[0014]在本专利技术中，所述干燥气体喷射部可以将所述干燥气体以30升/分钟至100升/分钟(liter/minute)的流量向所述杯的所述内部空间喷射，所述干燥气体的喷射时间可以为30秒至5分钟。
[0015]在本专利技术中，所述清洗液可以为去离子水(deionized water)，所述干燥气体可以为氮气(N2)。
[0016]本专利技术的流体喷射喷嘴清洗装置可以还包括：排气部，从所述杯的所述内部空间吸入气体并排出到所述杯的外部，以使所述气体不通过所述上侧开口排出，所述气体为在所述清洗液喷射部和所述干燥气体喷射部的运行期间积聚在所述杯的所述内部空间的气体。
[0017]在本专利技术中，所述排气部可以包括：环形流路部，所述环形流路部以围绕所述杯的方式与所述杯结合；连接流路部，所述连接流路部从所述环形流路部向径向凸出，并以流体能够流动的方式与所述环形流路部连接；以及排气管，所述排气管的一侧以流体能够流动的方式连接于排气泵，另一侧以流体能够流动的方式连接于所述连接流路部。
[0018]本专利技术的流体喷射喷嘴清洗方法包括：喷嘴定位步骤，使所述流体喷射喷嘴通过杯的上侧开口进入所述杯的所述内部空间，以使所述流体喷射喷嘴位于所述杯的内部空间；清洗液喷射步骤，喷射清洗液以清洗所述流体喷射喷嘴；以及干燥步骤，所述清洗液喷射步骤结束后，喷射干燥气体以干燥所述流体喷射喷嘴的表面。
[0019]在本专利技术中，所述杯可以位于所述流体喷射喷嘴向基板喷射流体而处理所述基板的作业结束后回归的地点，在所述喷嘴定位步骤的开始时间点与所述干燥步骤的结束时间点之间，被喷射所述流体而被处理的基板被更换为未被喷射所述流体的基板。
[0020]在所述喷嘴定位步骤之前，本专利技术的流体喷射喷嘴清洗方法还可以包括：处理流
体喷射步骤，通过所述流体喷射喷嘴向基板喷射处理流体以处理所述基板。
[0021]本专利技术的流体喷射喷嘴清洗方法还可以包括：排气步骤，从所述杯的所述内部空间吸入气体并排出到所述杯的外部，以使所述气体不通过所述上侧开口向所述杯的外部排出，所述气体为在所述清洗液喷射步骤和所述干燥步骤期间积聚在所述杯的所述内部空间的气体。
[0022]根据本专利技术，在喷射处理流体后，流体喷射喷嘴得到清洗，因而流体喷射喷嘴的末端不释放烟雾(fume)，防止因残留在流体喷射喷嘴的处理流体或污染物质导致的工艺腔或基板被污染。
[0023]根据本专利技术，可以设计成在流体喷射喷嘴的周边多个地点同时向流体喷射喷嘴喷射清洗液以清洗污染物质，从而可以防止流体喷射喷嘴局部清洗不到位，即使在配备有多个流体喷射喷嘴的情况下也能够干净地清洗而残留清洗不到位的部分。
[本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种流体喷射喷嘴清洗装置，其特征在于，包括：杯，具有上侧开口和下侧开口，所述上侧开口开放以使流体喷射喷嘴进入内部空间，所述下侧开口供清洗液从所述内部空间排出到外部；清洗液喷射部，在所述流体喷射喷嘴位于所述杯的所述内部空间时，向所述流体喷射喷嘴喷射清洗液；以及干燥气体喷射部，在所述清洗液的喷射结束后，喷射用于干燥所述流体喷射喷嘴的干燥气体。2.根据权利要求1所述的流体喷射喷嘴清洗装置，其特征在于，所述清洗液喷射部从所述杯的所述上侧开口和所述下侧开口之间的侧壁向内侧喷射所述清洗液，所述干燥气体喷射部在所述杯的所述侧壁的从比喷射所述清洗液的地点高的地点向内侧喷射所述干燥气体。3.根据权利要求2所述的流体喷射喷嘴清洗装置，其特征在于，所述清洗液喷射部包括：环形流路部，以围绕所述杯的方式与所述杯结合；连接流路部，从所述环形流路部向径向凸出，并以流体能够流动的方式与所述环形流路部连接；清洗液供应管，所述清洗液供应管的一侧以流体能够流动的方式连接于清洗液箱，所述清洗液供应管的另一侧以流体能够流动的方式连接于所述连接流路部；以及清洗液供应泵，对所述清洗液进行加压以使所述清洗液从所述清洗液箱向所述杯的内侧喷射。4.根据权利要求2所述的流体喷射喷嘴清洗装置，其特征在于，所述流体喷射喷嘴清洗装置配备有多个所述干燥气体喷射部，多个所述干燥气体喷射部中由位于相对较高地点的所述干燥气体喷射部喷射的干燥气体所朝向的地点的高度比由位于相对较低地点的所述干燥气体喷射部喷射的干燥气体所朝向的地点的高度高。5.根据权利要求4所述的流体喷射喷嘴清洗装置，其特征在于，所述干燥气体喷射部包括：环形流路部，以围绕所述杯的方式与所述杯结合，并在所述环形流路部的内部具备所述干燥气体能够流动的环形流路；连接流路部，从所述环形流路部向径向凸出，并以流体能够流动的方式与所述环形流路连接；干燥气体供应管，所述干燥气体供应管的一侧以流体能够流动的方式连接于干燥气体箱，所述干燥气体供应管的另一侧以流体能够流动的方式连接于所述连接流路部；以及干燥气体供应泵，对所述干燥气体进行加压以使所述干燥气体从所述干燥气体箱向所述杯的内侧喷射。6.根据权利要求1所述的流体喷射喷嘴清洗装置，其特征在于，所述流体喷射喷嘴清洗装置配备有多个所述流体喷射喷嘴，多个所述流体喷射喷嘴彼此相邻地配置并且一同沿水平和竖直方向移动，
所述清洗液喷射部同时向位于所述杯的所述内部空间的多个流体喷射喷嘴喷射所述清洗液，在所述清洗液喷射结束后，所述干燥气体喷射部同时向多个所述流体喷射喷嘴喷射所述干燥气体。7.根据权利...
【专利技术属性】
技术研发人员：白承大，金康元，金建亨，千宰昊，
申请(专利权)人：杰宜斯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。