基板处理装置及基板处理方法制造方法及图纸

技术编号:35288123 阅读:23 留言:0更新日期:2022-10-22 12:33
本发明专利技术涉及基板处理装置及基板处理方法,该基板处理装置的特征在于,包括:吸入喷嘴部,用于在杯形外罩吸入沉淀物;流动管线部,与吸入喷嘴部连接,以使沉淀物和药液流动;吸入罐部,与流动管线部连接,以使沉淀物和药液流入;以及喷射器部,设置在流动管线部,以在吸入喷嘴部和流动管线部形成吸入压力。嘴部和流动管线部形成吸入压力。嘴部和流动管线部形成吸入压力。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及基板处理方法


[0001]本专利技术涉及基板处理装置及基板处理方法,更详细地,涉及可以防止基板被再次污染且可防止流动管线部堵塞的基板处理装置及基板处理方法。

技术介绍

[0002]通常,在半导体工序中进行用于蚀刻晶圆的蚀刻工序、用于将晶圆切割成多个晶粒的切单工序(singulation process)、用于清洗晶圆的清洗工序等。基板处理装置用于晶圆的蚀刻工序或清洗工序。
[0003]基板处理装置包括杯形外罩、旋转卡盘部及喷射喷嘴部,其中,旋转卡盘部以可旋转的方式设置在杯形外罩的内部,且在旋转卡盘部的上部放置基板,喷射喷嘴部用于向基板喷射药液。在旋转卡盘部旋转的状态下,喷射喷嘴部向基板喷射药液。
[0004]但是,以往在完成基板的处理之后,当在基板的表面残存异物时,在后续工序中有可能发生基板不良。
[0005]并且,在基板处理工序结束之后,随着残存在喷射喷嘴部的药液和沉淀物掉落在基板上,基板有可能被再次污染。
[0006]本专利技术的
技术介绍
公开在韩国公开专利公报第2020

0045071号(2020年05月04日公开,专利技术名称:供液喷嘴及基板处理装置)。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的在于,提供基板处理装置及基板处理方法,可以防止基板被再次污染,并且可防止流动管线部堵塞。
[0008]本专利技术的基板处理装置的特征在于,包括:吸入喷嘴部,用于在杯形外罩吸入沉淀物;流动管线部,与所述吸入喷嘴部连接,以使所述沉淀物和药液流动;吸入罐部,与所述流动管线部连接,以使所述沉淀物和所述药液流入;以及喷射器部,设置在所述流动管线部,以在所述吸入喷嘴部和所述流动管线部形成吸入压力。
[0009]所述喷射器部可包括:喷射器主体部,被所述流动管线部吸入的所述沉淀物和所述药液流入所述喷射器主体部中;以及供气部,与所述喷射器主体部连接,以向所述喷射器主体部供给气体。
[0010]所述吸入罐部可包括:吸入罐主体部,与所述流动管线部连接;过滤部,配置在所述吸入罐主体部的内部,以过滤从所述流动管线部排出的所述沉淀物;以及排放部,与所述吸入罐主体部连接,以排出所述过滤部中过滤的所述药液。
[0011]所述过滤部可包括层叠在所述流动管线部与所述排放部之间的多个过滤器,多个所述过滤器具有越朝向所述排放部侧就越小的筛网。
[0012]所述基板处理装置还可包括连接在所述吸入罐主体部和所述排放部的溢流管线部。
[0013]所述溢流管线部可连接在所述吸入罐部中所述过滤部的上侧。
[0014]所述基板处理装置还可包括用于检测所述吸入罐主体部的所述药液流入到所述溢流管线部的溢流检测部。
[0015]所述基板处理装置还可包括排出管线部,该排出管线部与所述吸入罐部连接,以排出所述吸入罐部的药液烟雾和所述气体。
[0016]所述基板处理装置还可包括用于向所述杯形外罩的基板喷射所述药液的喷射喷嘴部,当所述喷射喷嘴部向所述基板喷射所述药液时,所述吸入喷嘴部吸入漂浮在所述药液的所述沉淀物。
[0017]在基板处理工序结束之后,所述喷射器部可在所述吸入喷嘴部和所述流动管线部形成预设时间的吸入压力。
[0018]本专利技术的基板处理方法的特征在于,包括如下步骤:向杯形外罩供给药液,对基板进行处理;喷射器部在吸入喷嘴部和流动管线部产生吸入压力;所述吸入喷嘴部吸入漂浮在所述药液的上侧的沉淀物和所述药液;以及在所述流动管线部中流动的所述沉淀物和所述药液流入到吸入罐部。
[0019]在所述喷射器部在所述吸入喷嘴部和所述流动管线部产生吸入压力的步骤中,所述喷射器部可向所述流动管线部供给气体。
[0020]在所述流动管线部中流动的所述沉淀物和所述药液流入到所述吸入罐部的步骤中,流入到所述吸入罐部的药液可在过滤部中过滤之后通过排放部排出,在所述吸入罐部中产生的药液烟雾和所述气体通过排出管线部排出。
[0021]所述基板处理方法还可包括如下步骤:溢流检测部检测所述药液是否在所述吸入罐部中溢流;以及所述溢流检测部检测到所述药液的溢流时,控制部进行控制,以中断向所述杯形外罩供给所述药液。
[0022]所述基板处理方法还可包括如下的步骤:在结束基板处理工序之后,所述喷射器部在所述吸入喷嘴部和所述流动管线部形成预设时间的吸入压力。
[0023]根据本专利技术,喷射器部设置在流动管线部,因此,吸入喷嘴部可以扩管形成,可以增加喷射器部的尺寸。因此,可以防止吸入喷嘴部和喷射器部被沉淀物堵塞。
[0024]并且,根据本专利技术,在基板处理工序结束后,将喷射器部驱动预设时间,因此,可以防止药液残留在吸入喷嘴部。因此,可以防止基板因残留在吸入喷嘴部的药液而被再次污染。
附图说明
[0025]图1为简要示出本专利技术一实施例的基板处理装置的图。
[0026]图2为简要示出本专利技术一实施例的基板处理装置的吸入罐部的放大图。
[0027]图3为简要示出本专利技术一实施例的基板处理装置中的喷嘴臂的图。
[0028]图4为简要示出本专利技术一实施例的基板处理装置中的喷嘴臂的回旋角度的图。
[0029]图5为简要示出本专利技术一实施例的基板处理装置中的吸入喷嘴部和喷射喷嘴部的图。
[0030]图6为简要示出本专利技术一实施例的基板处理方法的图。
[0031]附图标记说明
[0032]100:基板处理装置;110:旋转卡盘部;112:杯形外罩;120:喷嘴臂;122:驱动部;
125:吸入喷嘴部;126:第一喷射喷嘴部;127:第二喷射喷嘴部;130:流动管线部;140:吸入罐部;141:吸入罐主体部;142:底面部;143:窗口部;144:过滤部;144a:过滤器;145:支撑部;146:排放部;150:喷射器部;151:喷射器主体部;153:供气部;161:溢流管线部;163:溢流检测部;165:提醒部;167:排出管线部;170:控制部;W:基板。
具体实施方式
[0033]下面,参照附图对本专利技术的基板处理装置及基板处理方法的一实施例进行说明。在说明基板处理装置及基板处理方法的过程中,为了说明的明确性及便利性,可以放大示出附图所示的线的厚度或结构要素的尺寸等。并且,后述的术语为考虑到在本专利技术中的功能来定义的术语,这可根据使用人员、应用人员的意图或惯例而不同。因此,对于这种术语的定义应根据本说明书全文内容来定义。
[0034]图1为简要示出本专利技术一实施例的基板处理装置的图,图2为简要示出本专利技术一实施例的基板处理装置的吸入罐部的放大图,图3为简要示出本专利技术一实施例的基板处理装置中的喷嘴臂的图,图4为简要示出本专利技术一实施例的基板处理装置中的喷嘴臂的回旋角度的图,图5为简要示出本专利技术一实施例的基板处理装置中的吸入喷嘴部和喷射喷嘴部的图。
[0035]参照图1至图5,本专利技术一实施例的基板处理装置100包括吸入喷嘴部125、流动管线部130、吸入罐部140及喷射器部150。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置,其特征在于,包括:吸入喷嘴部,用于在杯形外罩吸入沉淀物;流动管线部,与所述吸入喷嘴部连接,以使所述沉淀物和药液流动;吸入罐部,与所述流动管线部连接,以使所述沉淀物和所述药液流入;以及喷射器部,设置在所述流动管线部,以在所述吸入喷嘴部和所述流动管线部形成吸入压力。2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,所述喷射器部包括:喷射器主体部,被所述流动管线部吸入的所述沉淀物和所述药液流入所述喷射器主体部中;以及供气部,与所述喷射器主体部连接,以向所述喷射器主体部供给气体。3.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,所述吸入罐部包括:吸入罐主体部,与所述流动管线部连接;过滤部,配置在所述吸入罐主体部的内部,以过滤从所述流动管线部排出的所述沉淀物;以及排放部,与所述吸入罐主体部连接,以排出所述过滤部中过滤的所述药液。4.根据权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,所述过滤部包括层叠在所述流动管线部与所述排放部之间的多个过滤器,多个所述过滤器具有越朝向所述排放部侧就越小的筛网。5.根据权利要求3所述的基板处理装置,其特征在于,还包括:溢流管线部,连接在所述吸入罐主体部和所述排放部。6.根据权利要求5所述的基板处理装置,其特征在于,所述溢流管线部连接在所述吸入罐部中所述过滤部的上侧。7.根据权利要求5所述的基板处理装置,其特征在于,还包括:溢流检测部,用于检测所述吸入罐主体部的所述药液流入到所述溢流管线部。8.根据权利要求1所述的基板处理装置,其特征在于,还包括:排出管线部,与所述吸入罐部连接,以排出所述吸入罐部的药液烟雾和所述气体。9.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:白承大许金东李强圆孔云
申请(专利权)人:杰宜斯科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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