喷嘴以及包括其的基板处理装置、基板处理设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种喷嘴以及包括其的基板处理装置、基板处理设备。处理液供应喷嘴可以包括：喷嘴主体；喷嘴尖端部件，与所述喷嘴主体的下方连接；以及连结部件，配置于所述喷嘴主体与所述喷嘴尖端部件之间以用于连接所述喷嘴主体与所述喷嘴尖端部件，并使空气流入所述喷嘴主体以及所述喷嘴尖端部件内部。嘴主体以及所述喷嘴尖端部件内部。嘴主体以及所述喷嘴尖端部件内部。

【技术实现步骤摘要】
喷嘴以及包括其的基板处理装置、基板处理设备


[0001]本专利技术涉及一种用于向基板供应处理液的喷嘴以及包括其的基板处理装置。

技术介绍

[0002]通常，半导体元件的制造工艺实现为以晶圆等的基板为对象反复执行薄膜蒸镀工艺、蚀刻工艺、清洗工艺、光刻工艺等的各种单元工艺。其中，湿式清洗工艺、湿式蚀刻工艺、涂敷工艺等一部分工艺具备用于将处理液供应于基板的处理液供应单元。
[0003]处理液供应单元调节处理液的浓度以及温度而将适合各处理工艺的处理液提供于基板。包括这样的处理液供应单元的基板处理装置可以具备安置基板的旋转头以及将处理液喷出于安置于旋转头的基板的喷嘴。喷嘴与存储有处理液的存储罐通过供应线连接，供应线从存储罐接收处理液并将处理液提供于喷嘴。在供应线上可以设置调节供应于喷嘴的处理液的量的调节阀以及倒吸(suck
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back)残留于喷嘴的处理液而去除残留于喷嘴的处理液的倒吸阀。在调节阀关闭(off)而阻断供应于喷嘴的处理液的情况下，倒吸阀倒吸残留于喷嘴的处理液而防止残留于喷嘴的处理液流出至外部。
[0004]但是，最近为了增加处理液喷出量，在喷嘴喷出口的口径增大的同时，处理液滴落(drop)现象显著增加，在表面活性成分的处理液或粘度低的处理液(例：液相的有机溶剂(IPA)、包含臭氧的溶液等)的情况下，表面张力显著减小，因此即使进行倒吸，供应线内的处理液也容易通过重力向喷嘴侧流入而泄漏至外部。尤其是，在有外部冲击的情况下，发生残留的处理液在喷嘴的流路(path)上的与喷出口接近的地方处间歇性地滴落的现象。
[0005]另外，根据作业线的环境、作业人员的熟练度等，倒吸水平可以不同地设定。由于随着设定倒吸水平而发生气穴现象、处理液凝结现象(例：泰勒锥(Taylor cone)现象)等，可能作用为处理液滴落的原因。
[0006]因此，会有需要以上的处理液污染、损坏基板，若反复这样的过程，则结果难以生产期望品质的基板。不仅如此，在使用多个喷嘴清洗基板的情况下，不期望的异类处理液滴落的情况，可能产生基板或旋转头污染而清洗效率降低的问题。即，处理液的滴落最终会导致基板的生产性恶化的问题。

技术实现思路

[0007]本专利技术用于解决上述问题，预要提供一种可以防止处理液滴落现象的喷嘴以及包括其的基板处理装置。
[0008]另外，本专利技术预要提供一种在处理液供应中断时形成稳定的弯液面(meniscus)的喷嘴以及包括其的基板处理装置。
[0009]要解决的课题不限于此，只要是通常的技术人员，则可以从以下的记载明确地理解未提及的其它课题。
[0010]根据本专利技术的一实施例，可以提供一种用于朝向基板供应处理液以用于基板处理的喷嘴。可以是，所述喷嘴包括：喷嘴主体；喷嘴尖端部件，与所述喷嘴主体的下方连接；以
及连结部件，配置于所述喷嘴主体与所述喷嘴尖端部件之间以用于连接所述喷嘴主体与所述喷嘴尖端部件，并使空气流入所述喷嘴主体以及所述喷嘴尖端部件内部。
[0011]在一实施例中，可以是，所述连结部件包括：内侧管形部件，包括两端的第一连结部和第二连结部以及所述两端之间的形成于相同高度的一个以上的空气流入口；以及空气流入部，形成围绕所述内侧管形部件的形式的空气流入流路。
[0012]在一实施例中，可以是，所述第一连结部以及所述第二连结部的面积以及位置根据需要来变更。
[0013]在一实施例中，可以是，所述空气流入口的数量、形状、尺寸、位置、配置等根据需要来调节。另外，可以是，所述空气流入口提供为能够开闭。
[0014]在一实施例中，可以是，所述空气流入部提供为上面开放且下面封闭的形式，所述下面在所述内侧管形部件的下面与所述空气流入口之间与所述内侧管形部件的外侧面连接。
[0015]在一实施例中，可以是，通过所述空气流入部的开放的所述上面流入的空气通过所述空气流入口流入所述内侧管形部件内部，流入所述内侧管形部件内部的空气在所述处理液的供应被阻断时在所述空气流入口上方形成稳定的弯液面(meniscus)。
[0016]在一实施例中，可以是，所述空气流入部的下面具有随着前往下方变窄的形式。
[0017]在一实施例中，可以是，在所述内侧管形部件的内侧面形成有通过所述第一连结部和所述第二连结部形成的台阶。
[0018]在一实施例中，可以是，所述第一连结部与所述喷嘴主体的外侧面接触，所述第二连结部与所述喷嘴尖端部件的外侧面接触。
[0019]根据本专利技术的一实施例，可以提供一种基板处理装置，所述基板处理装置包括：基板支承单元，在支承基板的同时使所述基板旋转；处理液供应单元，具有向所述基板上供应处理液的喷嘴和向所述喷嘴供应处理液的处理液供应部，所述喷嘴包括：喷嘴主体；喷嘴尖端部件，与所述喷嘴主体的下方连接；以及连结部件，配置于所述喷嘴主体与所述喷嘴尖端部件之间以用于连接所述喷嘴主体与所述喷嘴尖端部件，并使空气流入所述喷嘴主体以及所述喷嘴尖端部件内部。
[0020]根据本专利技术的一实施例，可以提供一种通过在喷嘴内部形成稳定的弯液面(meniscus)而能够防止处理液从处理液供应被阻断的喷嘴滴落的现象以及泰勒锥现象等的基板处理设备。可以是，所述基板处理设备包括：装载端口，安置容纳有基板的载物舱；索引腔室，在内部提供有从安置于所述装载端口的载物舱搬送所述基板的索引机械手；以及工艺处理部，包括针对所述基板执行液处理工艺的液处理装置。可以是，所述液处理装置包括：基板支承单元，在支承所述基板的同时使所述基板旋转；处理液供应单元，具有向所述基板上供应处理液的喷嘴以及向所述喷嘴供应处理液的处理液供应部，所述喷嘴包括：喷嘴主体；喷嘴尖端部件，与所述喷嘴主体的下方连接；以及连结部件，配置于所述喷嘴主体与所述喷嘴尖端部件之间以用于连接所述喷嘴主体与所述喷嘴尖端部件，并通过使空气流入所述喷嘴主体以及所述喷嘴尖端部件内部而防止供应中断的所述处理液从所述喷嘴尖端部件滴落。
[0021]根据本专利技术，在处理液供应中断时，通过使空气流入喷嘴内部而瞬间分离处理液，可以倒吸处理液。尤其是，通过形成稳定的弯液面，可以防止处理液滴落现象、泰勒锥
(Talyor Cone)现象以及气穴(air pocket)现象等。
[0022]另外，根据本专利技术，仅通过不变更其它构成要件而只更换喷嘴尖端，就可以实现上述的效果。可以与制造线的环境、作业人员的熟练度等无关而实现相同的效果。
[0023]专利技术的效果不限于此，只要是通常的技术人员，则可以从本说明书以及所附的附图明确地理解未提及的其它效果。
附图说明
[0024]图1示出根据本专利技术的实施例的基板处理设备的例子。
[0025]图2示出根据本专利技术的实施例的基板处理装置的例子。
[0026]图3是简要示出根据本专利技术的实施例的喷嘴的截面图。
[0027]图4是简要示出根据本专利技术的实施例的喷嘴的分解截面图。
[0028]图5是简要示出根据本专利技术的实施例的喷嘴所具备的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种喷嘴，用于朝向基板供应处理液以用于基板处理，其中，所述喷嘴包括：喷嘴主体；喷嘴尖端部件，与所述喷嘴主体的下方连接；以及连结部件，配置于所述喷嘴主体与所述喷嘴尖端部件之间以用于连接所述喷嘴主体与所述喷嘴尖端部件，并使空气流入所述喷嘴主体以及所述喷嘴尖端部件内部。2.根据权利要求1所述的喷嘴，其中，所述连结部件包括：内侧管形部件，包括两端的第一连结部和第二连结部以及所述两端之间的形成于相同高度的一个以上的空气流入口；以及空气流入部，形成围绕所述内侧管形部件的形式的空气流入流路。3.根据权利要求2所述的喷嘴，其中，所述空气流入部提供为上面开放且下面封闭的形式，所述下面在所述内侧管形部件的下面与所述空气流入口之间与所述内侧管形部件的外侧面连接。4.根据权利要求3所述的喷嘴，其中，通过所述空气流入部的开放的所述上面流入的空气通过所述空气流入口流入所述内侧管形部件内部，流入所述内侧管形部件内部的空气在所述处理液的供应被阻断时在所述空气流入口上方形成稳定的弯液面。5.根据权利要求3所述的喷嘴，其中，所述空气流入部的下面具有随着前往下方变窄的形式。6.根据权利要求2所述的喷嘴，其中，在所述内侧管形部件的内侧面形成有通过所述第一连结部和所述第二连结部形成的台阶。7.根据权利要求6所述的喷嘴，其中，所述第一连结部与所述喷嘴主体的外侧面接触，所述第二连结部与所述喷嘴尖端部件的外侧面接触。8.一种基板处理装置，包括：基板支承单元，在支承基板的同时使所述基板旋转；以及处理液供应单元，具有向所述基板上供应处理液的喷嘴和向所述喷嘴供应处理液的处理液供应部，所述喷嘴包括：喷嘴主体；喷嘴尖端部件，与所述喷嘴主体的下方连接；以及连结部件，配置于所述喷嘴主体与所述喷嘴尖端部件之间以用于连接所述喷嘴主体与所述喷嘴尖端部件，并使空气流入所述喷嘴主体以及所述喷嘴尖端部件内部。9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中，所述连结部件包括：
内侧管形部件，包括两端的第一连结部和第二连结部以及所述两端之间的形成于相同高度的一个以上的空气流入口；以及空气流入部，形成围绕所述内侧管形部件的形式的空气流入流路。10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中，所述空气流入部形成为上面开放且下面封闭的形式，所述下面在所述内侧管形部件的下面与所述空气流入口之间与所述内侧管形部件的外侧面连接。11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中，通过所述空气流入部...

【专利技术属性】
技术研发人员：金载烈，申哲榕，张震宇，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：