本实用新型专利技术公开了一种离子研磨抛光仪的气氛保护装置，该装置包括：外舱体、保护舱、弹势形变体、密封圈、单向气阀、节流阀、样品座等组成。当需要离子研磨或抛光的样品在受惰性气体保护的手套箱内完成放置后，关闭保护舱，保护样品在进入离子抛光仪前不受外界气氛污染。当离子抛光仪开始抽取设备腔体内的空气后，弹势形变体将保护舱向上推出，达到离子枪的工作高度，即可在离子抛光仪内对样品进行相应研磨或抛光作业。或抛光作业。或抛光作业。
【技术实现步骤摘要】
一种离子研磨抛光仪的气氛保护装置
[0001]本技术涉及气氛保护舱领域，特别涉及一种离子研磨抛光仪的气氛保护装置。
技术介绍
[0002]离子研磨抛光仪是一种用于材料科学领域的仪器。离子研磨抛光是利用通过电场加速过的离子轰击样品表面，在样品表面产生溅射效应，利用离子束对样品进行抛光，获得表面平滑的样品，而不会对样品造成机械损害，在许多科学领域得到了广泛应用。但是由于某些对空气敏感的样品，在从手套转移到离子研磨抛光仪的过程中，易受到空气的污染，或完成研磨抛光后，从仪器中取出不能与大气接触。限制离子研磨抛光仪在某些领域的应用，特别在新能源锂电、生物制药、工业催化等领域，而这些领域近些年的快速发展，对能够实现研磨抛光全过程气氛保护的要求越来越多，因此本申请文件提供了一种新的离子研磨抛光仪的气氛保护装置。
技术实现思路
[0003]本技术要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种离子研磨抛光仪的气氛保护装置。
[0004]本技术提供了如下的技术方案：
[0005]本技术提供一种离子研磨抛光仪的气氛保护装置，包括外舱体、高度调节螺栓、弹势形变体、限位螺钉、外舱密封圈、保护舱密封圈、样品座、保护舱、单向气阀、节流阀，所述高度调节螺栓安装于外舱体的底部，所述弹势形变体安装于外舱体和保护舱之间，所述外舱体的两侧内壁设置有限位螺钉，所述外舱体的内部安装有外舱密封圈用于隔离外界大气与外舱体内空间，所述保护舱的顶端部两侧分别安装有单向气阀和节流阀；
[0006]所述弹势形变体安装于外舱体和保护舱之间，限位螺钉为限位机构，设置于外舱体的内壁两侧处，用于防止弹势形变体将保护舱推出外舱体的限位位置。
[0007]作为本技术的一种优选技术方案，所述保护舱的顶端边缘处套接有保护舱密封圈。
[0008]作为本技术的一种优选技术方案，所述单向气阀和节流阀均插接于保护舱上，所述弹势形变体为弹簧管结构，所述单向气阀和节流阀的底端部均和弹势形变体相连接。
[0009]作为本技术的一种优选技术方案，所述保护舱的内部为两侧相通的镂空结构，其镂空槽处用于放置样品座。
[0010]作为本技术的一种优选技术方案，所述外舱体、保护舱为硬质金属或非金属材料，如铜合金、铝镁合金、钢材、氧化铝陶瓷材料，本结构中采用铜合金材料。
[0011]作为本技术的一种优选技术方案，所述外舱密封圈和保护舱密封圈为氯丁橡胶、丁腈橡胶、聚四氟乙烯、全氟戊酮橡胶、全氟醚橡胶材质，本结构中采用优选全氟醚橡胶
制成。
[0012]作为本技术的一种优选技术方案，所述弹势形变体为不锈钢材质弹簧、碳素弹簧钢、合金制弹簧等，橡胶制弹性体等，本结构中采用合金制弹簧。
[0013]与现有技术相比，本技术的有益效果如下：
[0014]1.通过在气氛保护的手套箱内，将待处理样品放置于保护舱样品台上，下压关闭保护舱后，将保护装置放入离子研磨抛光仪的内。当离子研磨抛光仪开启真空后，弹势形变体将保护舱向上推出，达到离子枪的工作高度。确保了待处理样品在研磨抛光前不受空气污染；
[0015]2.装置利用压力差值完成保护舱的推出，可在空间狭小的离子研磨抛光仪实现自动开启，无需外接电机驱动装置或电源，方便了操作人员；
[0016]3.本装置的保护舱为两侧相通的结构，可同时使用两只离子束枪对样品进行研磨抛光处理，大大提高了样品的处理效率；
[0017]4、当离子研磨抛光仪完成对样品的处理后，向离子研磨抛光仪内注入惰性气体，卸除离子研磨抛光仪内的真空，此时保护舱受外界气体压力影响，自动向下运动完成对处理样品的封闭。
附图说明
[0018]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：
[0019]图1是本技术的爆炸图；
[0020]图2是本技术关闭状态下的示意图；
[0021]图3是本技术打开状态下的示意图；
[0022]图4是本技术的样品通过离子束枪加工示意图；
[0023]图中：101、外舱体；102、高度调节螺栓；200、弹势形变体；300、限位螺钉；401、外舱密封圈；402、保护舱密封圈；500、样品座；600、保护舱；700、单向气阀；800、节流阀。
具体实施方式
[0024]以下结合附图对本技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本技术，并不用于限定本技术。其中附图中相同的标号全部指的是相同的部件。
[0025]此外，如果已知技术的详细描述对于示出本技术的特征是不必要的，则将其省略。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
[0026]实施例1
[0027]如图1
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4，本技术提供一种离子研磨抛光仪的气氛保护装置，用于待处理样品在向离子研磨抛光仪放置时，进行气氛保护，并在离子研磨抛光仪工作时，能够自动开启，将样品升至离子研磨抛光仪的离子束枪的工作高度。
[0028]首先，高度调节螺栓102安装于外舱体101的底部，高度调节螺栓102可与离子研磨抛光仪的安装旋转孔相连接(该离子研磨抛光仪为高度调节螺栓102底端部外接设备)，起
到固定气氛保护装置的作用。同时通过调节高度调节螺栓102的高度，可将不同高度的样品调整到离子束枪的最佳工作高度。
[0029]弹势形变体200安装于外舱体101和保护舱600之间，限位螺钉300为限位机构，主要起到防止弹势形变体200将保护舱600推出外舱体101的限位位置。外舱密封圈401用于隔离外界大气与外舱体101内空间，当锁紧节流阀800，再将保护舱600向下压时，保护舱600将外舱体101内气体通过单向气阀700排出，外舱体101内形成负压，外界压力大于外舱体101内的压力，外界气压将外舱体101和弹势形变体200牢牢挤压(如图2所示)。而保护舱密封圈402则将外界气体和保护舱600内的空间隔离开，保护了放置于样品座500上的样品不受外界气体的污染。
[0030]当离子研磨抛光仪工作时，离子研磨抛光仪内的气体被抽走，真空度降低，气氛保护装置的外界压力减小，弹势形变体200将保护舱600推出外舱体101下部，将安装于保护舱600上的样品座500升高至离子束枪的工作高度(如图3所示)，以方便离子束枪对样品进行研磨抛光处理。保护舱600为两侧相通的结构，因此，样品两端的离子束枪可以同时对样品座500上的样品进行工作(如图4所示，黑色线为离子束)；
[0031]当离子研磨抛光仪完成对样品的处理后，向离子研磨抛光仪内注入惰性气体，卸除离子研磨抛光仪内的真空，此时保护舱受外界气体压力影响，自动向下运动完成对处本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种离子研磨抛光仪的气氛保护装置，其特征在于，包括外舱体(101)、高度调节螺栓(102)、弹势形变体(200)、限位螺钉(300)、外舱密封圈(401)、保护舱密封圈(402)、样品座(500)、保护舱(600)、单向气阀(700)、节流阀(800)，所述高度调节螺栓(102)安装于外舱体(101)的底部，所述弹势形变体(200)安装于外舱体(101)和保护舱(600)之间，所述外舱体(101)的两侧内壁设置有限位螺钉(300)，所述外舱体(101)的内部安装有外舱密封圈(401)用于隔离外界大气与外舱体(101)内空间，所述保护舱(600)的顶端部两侧分别安装有单向气阀(700)和节流阀(800)；所述弹势形变体(200)安装于外舱体(101)和保护舱(600)之间，限位螺钉(300)为限位机构，设置于外舱体(101)的内壁两侧处，用于防止弹势形变体(200)将保护舱(600)推出外舱体(101)的限位位置。2.根据权利要求1所述的一种离子研磨抛光仪的气氛保护装置，其特征在于，所述保护舱(600)的顶端边缘处套接有保护舱密封圈(402)。3.根据权利要求1所述的一...
【专利技术属性】
技术研发人员：何亚军，
申请(专利权)人：上海耐默光电技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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