遮挡装置及具有遮挡装置的薄膜沉积机台制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台，包括一反应腔体、一承载盘、一遮挡装置及至少两个光传感器，其中承载盘及部分的遮挡装置位于反应腔体的容置空间内。遮挡装置包括两个遮挡单元及至少一驱动装置，其中驱动装置连接并驱动两个遮挡单元朝相反方向摆动，使得两个遮挡单元操作在开启状态及遮挡状态。两个遮挡单元的上表面皆设置一遮挡凸部及一感测区，其中感测区与遮挡凸部相邻，用以阻隔污染物沉积在感测区，以提高光传感器感测遮挡单元位置的准确性。的准确性。的准确性。

【技术实现步骤摘要】
遮挡装置及具有遮挡装置的薄膜沉积机台


[0001]本专利技术有关于一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台，主要于遮挡单元上设置一遮挡凸部及一感测区，其中感测区与遮挡凸部相邻，用以阻隔污染物沉积在感测区，以提高光传感器感测遮挡单元位置的准确性。

技术介绍

[0002]化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)及原子层沉积(ALD)皆是常用的薄膜沉积机台，并普遍被使用在集成电路、发光二极管及显示器等制程中。
[0003]沉积设备主要包括一腔体及一晶圆承载盘，其中晶圆承载盘位于腔体内，并用以承载至少一晶圆。以物理气相沉积为例，腔体内需要设置一靶材，其中靶材面对晶圆承载盘上的晶圆。在进行物理气相沉积时，可将惰性气体及/或反应气体输送至腔体内，分别对靶材及晶圆承载盘施加偏压，并透过晶圆承载盘加热承载的晶圆。
[0004]腔体内的惰性气体因为高压电场的作用，形成离子化的惰性气体，离子化的惰性气体会受到靶材上的偏压吸引而轰击靶材。从靶材溅出的靶材原子或分子受到晶圆承载盘上的偏压吸引，并沉积在加热的晶圆的表面，以在晶圆的表面形成薄膜。
[0本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台，其特征在于，包括：一反应腔体，包括一容置空间；一承载盘，位于该容置空间内，并包括一承载面用以承载至少一基板；一第一遮挡单元，位于该容置空间内，并包括一第一遮挡凸部及一第一感测区，其中该第一遮挡凸部及该第一感测区位于该第一遮挡单元未朝向该承载盘的表面，且该第一遮挡凸部与该第一感测区相邻；一第二遮挡单元，位于该容置空间内，并包括一第二遮挡凸部及一第二感测区，其中该第二遮挡凸部及该第二感测区位于该第二遮挡单元未朝向该承载盘的表面，且该第二遮挡凸部与该第二感测区相邻；至少一驱动装置，连接该第一遮挡单元及该第二遮挡单元，并分别驱动该第一遮挡单元及该第二遮挡单元朝相反的方向摆动，使得该第一遮挡单元及该第二遮挡单元在一开启状态及一遮挡状态之间切换，其中该遮挡状态的该第一遮挡单元及该第二遮挡单元相互靠近，并用以遮挡该承载盘，而该开启状态的该第一遮挡单元及该第二遮挡单元之间则形成一间隔空间；及至少两个光传感器，设置在该反应腔体，分别用以感测该第一遮挡单元的该第一感测区及该第二遮挡单元的该第二感测区，以判断该第一遮挡单元及该第二遮挡单元是否确实操作在该开启状态。2.根据权利要求1所述的具有遮挡装置的薄膜沉积机台，其特征在于，其中该第一遮挡单元包括一第一连接臂及一第一遮挡板，该驱动装置经由该第一连接臂连接该第一遮挡板，该第一遮挡凸部及该第一感测区位于该第一遮挡板上，其中该第二遮挡单元包括一第二连接臂及一第二遮挡板，该驱动装置经由该第二连接臂连接该第二遮挡板，该第二遮挡凸部及该第二感测区位于该第二遮挡板上。3.根据权利要求2所述的具有遮挡装置的薄膜沉积机台，其特征在于，包括一靶材，面对该承载盘的该承载面，其中该第一遮挡凸部及该第一感测区位于朝向该靶材的该第一遮挡板的一第一上表面，而该第二遮挡凸部及该第二感测区则位于朝向该靶材的该第二遮挡板的一第二上表面。4.根据权利要求3所述的具有遮挡装置的薄膜沉积机台，其特征在于，其中该遮挡状态的该第一遮挡凸部及该第二遮挡凸部形成一环状遮挡凸部，而该第一感测区及该第二感测区则形成一环状感测区，...

【专利技术属性】
技术研发人员：林俊成，
申请(专利权)人：天虹科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：