本发明专利技术提供一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台，包括一反应腔体、一承载盘、一遮挡装置及至少两个光传感器，其中承载盘及部分的遮挡装置位于反应腔体的容置空间内。遮挡装置包括两个遮挡单元及至少一驱动装置，其中驱动装置连接并驱动两个遮挡单元朝相反方向摆动，使得两个遮挡单元操作在开启状态及遮挡状态。两个遮挡单元的上表面皆设置一遮挡凸部及一感测区，其中感测区与遮挡凸部相邻，用以阻隔污染物沉积在感测区，以提高光传感器感测遮挡单元位置的准确性。的准确性。的准确性。
【技术实现步骤摘要】
遮挡装置及具有遮挡装置的薄膜沉积机台
[0001]本专利技术有关于一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台，主要于遮挡单元上设置一遮挡凸部及一感测区，其中感测区与遮挡凸部相邻，用以阻隔污染物沉积在感测区，以提高光传感器感测遮挡单元位置的准确性。
技术介绍
[0002]化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)及原子层沉积(ALD)皆是常用的薄膜沉积机台，并普遍被使用在集成电路、发光二极管及显示器等制程中。
[0003]沉积设备主要包括一腔体及一晶圆承载盘，其中晶圆承载盘位于腔体内，并用以承载至少一晶圆。以物理气相沉积为例，腔体内需要设置一靶材，其中靶材面对晶圆承载盘上的晶圆。在进行物理气相沉积时，可将惰性气体及/或反应气体输送至腔体内，分别对靶材及晶圆承载盘施加偏压，并透过晶圆承载盘加热承载的晶圆。
[0004]腔体内的惰性气体因为高压电场的作用，形成离子化的惰性气体，离子化的惰性气体会受到靶材上的偏压吸引而轰击靶材。从靶材溅出的靶材原子或分子受到晶圆承载盘上的偏压吸引，并沉积在加热的晶圆的表面，以在晶圆的表面形成薄膜。
[0005]在经过一段时间的使用后，腔体的内表面会形成沉积薄膜，因此需要周期性的清洁腔体，以避免沉积薄膜在制程中掉落，进而污染晶圆。此外靶材的表面亦可能形成氧化物或其他污染物，因此同样需要周期性的清洁靶材。一般而言，通常会透过预烧(burn
‑
in)制程，以电浆离子撞击腔体内的靶材，以去除靶材表面的氧化物或其他污染物。
[0006]在进行上述清洁腔体及靶材时，需要将腔体内的晶圆承载盘及晶圆取出，或者隔离晶圆承载盘，以避免清洁过程中污染晶圆承载盘及晶圆。
技术实现思路
[0007]一般而言，薄膜沉积机台在经过一段时间的使用后，通常需要进行清洁，以去除腔室内沉积的薄膜及靶材上的氧化物或氮化物。在清洁的过程中产生的微粒会污染承载盘，因此需要隔离承载盘及污染物。本专利技术提出一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台，主要透过驱动装置带动两个遮挡板朝相反方向摆动，使得两个遮挡板操作在一开启状态及一遮挡状态。
[0008]两个遮挡板的上表面分别设置一遮挡凸部及一感测区，其中感测区与遮挡凸部相邻，并位于遮挡凸部的外侧或内部。在清洁反应腔体时，驱动装置会带动两个遮挡单元以摆动的方式相互靠近，使得两个遮挡单元相靠近并遮挡容置空间内的承载盘，以避免清洁过程中使用的电浆或产生的污染接触承载盘及/或其承载的基板。在进行沉积制程时，驱动装置带动两个遮挡单元以摆动的方式相互远离，并对反应腔体内的基板进行薄膜沉积。
[0009]本专利技术的薄膜沉积腔体包括至少两个光传感器，用以将一感测光束投射在遮挡板的感测区，以确认两个遮挡板确实操作在开启状态。然而在清洁腔体的过程中，往往会在遮挡板的感测区表面沉积薄膜，进而影响光传感器感测遮挡板位置的准确度。为此本专利技术进
一步提出透过遮挡凸部遮挡感测区，以减少感测区在清洁过程中形成薄膜，而有利于光传感器感测遮挡板的操作状态。
[0010]本专利技术的一目的，在于提供一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台，主要包括一反应腔体、一承载盘及一遮挡装置。遮挡装置包括至少一驱动装置、两个遮挡单元及两个距离感测单元，其中驱动装置连接并驱动两个遮挡单元分别朝相反方向摆动，使得两个遮挡单元操作在一开启状态或一遮挡状态。
[0011]两个遮挡单元上皆设置一反射面，当两个遮挡单元操作在遮挡状态时，两个距离感测单元产生的感测光束会分别投射在两个遮挡单元的反射面上，并量测两个距离感测单元与两个遮挡单元之间的距离，以判断两个遮挡单元是否操作在遮挡状态。
[0012]为了达到上述的目的，本专利技术提出一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台，包括：一反应腔体，包括一容置空间；一承载盘，位于容置空间内，并包括一承载面用以承载至少一基板；一遮挡装置，包括：一第一遮挡单元，位于容置空间内，并包括一第一遮挡凸部及一第一感测区，其中第一遮挡凸部及第一感测区位于第一遮挡单元未朝向承载盘的表面，且第一遮挡凸部与第一感测区相邻；一第二遮挡单元，位于容置空间内，并包括一第二遮挡凸部及一第二感测区，其中第二遮挡凸部及第二感测区位于第二遮挡单元未朝向承载盘的表面，且第二遮挡凸部与第二感测区相邻；至少一驱动装置，连接第一遮挡单元及第二遮挡单元，并分别驱动第一遮挡单元及第二遮挡单元朝相反的方向摆动，使得第一遮挡单元及第二遮挡单元在一开启状态及一遮挡状态之间切换，其中遮挡状态的第一遮挡单元及第二遮挡单元相互靠近，并用以遮挡承载盘，而开启状态的第一遮挡单元及第二遮挡单元之间则形成一间隔空间；及至少两个光传感器，设置在反应腔体，并分别用以感测第一遮挡单元的第一感测区及第二遮挡单元的第二感测区，以判断第一遮挡单元及第二遮挡单元是否确实操作在开启状态。
[0013]本专利技术提供一遮挡装置，包括：一第一遮挡板，包括一第一遮挡凸部及一第一感测区，其中第一遮挡凸部及第一感测区设置在第一遮挡板的一第一上表面，且第一遮挡凸部与第一感测区相邻；一第一连接臂，用以承载第一遮挡板；一第二遮挡板，包括一第二遮挡凸部及一第二感测区，其中第二遮挡凸部及第二感测区设置在第二遮挡单元的一第二上表面，且第二遮挡凸部与第二感测区相邻；一第二连接臂，用以承载第二遮挡板；及至少一驱动装置，经由第一连接臂及第二连接臂分别驱动第一遮挡板及第二遮挡板朝相反的方向摆动，使得第一遮挡板及第二遮挡板在一开启状态及一遮挡状态之间切换，其中遮挡状态的第一遮挡板及第二遮挡板相互靠近，而开启状态的第一遮挡板及第二遮挡板之间则形成一间隔空间。
[0014]所述的具有遮挡装置的薄膜沉积机台，其中第一遮挡单元包括一第一连接臂及一第一遮挡板，驱动装置经由第一连接臂连接第一遮挡板，第一遮挡凸部及第一感测区位于第一遮挡板上，其中第二遮挡单元包括一第二连接臂及一第二遮挡板，驱动装置经由第二连接臂连接第二遮挡板，第二遮挡凸部及第二感测区位于第二遮挡板上。
[0015]所述的具有遮挡装置的薄膜沉积机台，包括一靶材，面对承载盘的承载面，其中第一遮挡凸部及第一感测区位于朝向靶材的第一遮挡板的一第一上表面，而第二遮挡凸部及第二感测区则位于朝向靶材的第二遮挡板的一第二上表面。
[0016]所述的具有遮挡装置的薄膜沉积机台或遮挡装置，其中遮挡状态的第一遮挡凸部
及第二遮挡凸部形成一环状遮挡凸部，而第一感测区及第二感测区则形成一环状感测区，环状感测区位于环状遮挡凸部的外侧。
[0017]所述的具有遮挡装置的薄膜沉积机台或遮挡装置，其中第一遮挡凸部及第二遮挡凸部为封闭形状的管状凸起。
[0018]所述的具有遮挡装置的薄膜沉积机台，包括：一第一反射面，设置在第一连接臂上；一第二反射面，设置在第二连接臂上；一第一距离感测单元，设置在反应腔体上，并用以将一第一感测光束投射至操作在遮挡状态的第一连接臂的第一反射面；及一第二距离感测单元，设置在反应腔体上，并用以将一第二感测光束投射至操作在遮挡状态的第二连接臂的第二反射面。
[0019]所述的具有遮挡装置的薄膜沉本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台，其特征在于，包括：一反应腔体，包括一容置空间；一承载盘，位于该容置空间内，并包括一承载面用以承载至少一基板；一第一遮挡单元，位于该容置空间内，并包括一第一遮挡凸部及一第一感测区，其中该第一遮挡凸部及该第一感测区位于该第一遮挡单元未朝向该承载盘的表面，且该第一遮挡凸部与该第一感测区相邻；一第二遮挡单元，位于该容置空间内，并包括一第二遮挡凸部及一第二感测区，其中该第二遮挡凸部及该第二感测区位于该第二遮挡单元未朝向该承载盘的表面，且该第二遮挡凸部与该第二感测区相邻；至少一驱动装置，连接该第一遮挡单元及该第二遮挡单元，并分别驱动该第一遮挡单元及该第二遮挡单元朝相反的方向摆动，使得该第一遮挡单元及该第二遮挡单元在一开启状态及一遮挡状态之间切换，其中该遮挡状态的该第一遮挡单元及该第二遮挡单元相互靠近，并用以遮挡该承载盘，而该开启状态的该第一遮挡单元及该第二遮挡单元之间则形成一间隔空间；及至少两个光传感器，设置在该反应腔体，分别用以感测该第一遮挡单元的该第一感测区及该第二遮挡单元的该第二感测区，以判断该第一遮挡单元及该第二遮挡单元是否确实操作在该开启状态。2.根据权利要求1所述的具有遮挡装置的薄膜沉积机台，其特征在于，其中该第一遮挡单元包括一第一连接臂及一第一遮挡板，该驱动装置经由该第一连接臂连接该第一遮挡板，该第一遮挡凸部及该第一感测区位于该第一遮挡板上，其中该第二遮挡单元包括一第二连接臂及一第二遮挡板，该驱动装置经由该第二连接臂连接该第二遮挡板，该第二遮挡凸部及该第二感测区位于该第二遮挡板上。3.根据权利要求2所述的具有遮挡装置的薄膜沉积机台，其特征在于，包括一靶材，面对该承载盘的该承载面，其中该第一遮挡凸部及该第一感测区位于朝向该靶材的该第一遮挡板的一第一上表面，而该第二遮挡凸部及该第二感测区则位于朝向该靶材的该第二遮挡板的一第二上表面。4.根据权利要求3所述的具有遮挡装置的薄膜沉积机台，其特征在于，其中该遮挡状态的该第一遮挡凸部及该第二遮挡凸部形成一环状遮挡凸部，而该第一感测区及该第二感测区则形成一环状感测区，...
【专利技术属性】
技术研发人员：林俊成，
申请(专利权)人：天虹科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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