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本发明提供一种具有遮挡装置的薄膜沉积机台，包括一反应腔体、一承载盘、一遮挡装置及至少两个光传感器，其中承载盘及部分的遮挡装置位于反应腔体的容置空间内。遮挡装置包括两个遮挡单元及至少一驱动装置，其中驱动装置连接并驱动两个遮挡单元朝相反方向摆动...
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