本发明专利技术提供一种真空处理装置(Pc)的清洁方法。其包含在向真空气氛的真空室内导入根据附着在真空室(1)内的局部上的附着物选择的清洁气体，激励清洁气体而产生等离子体，使等离子体中的离子、自由基与附着物发生反应成为反应生成气体，通过真空泵(Pu)进行真空排气的期间，检测清洁的终点的工序。测量着随等离子体中的离子、自由基和附着物之间的反应而变化的真空室内的状态量，以每单位时间测量的状态量作为第一样本(Y)，根据该第一样本分别求出回归直线(Rl)，以依次求出的回归直线的斜率(a)作为第二样本，当该第二样本的各斜率满足预先设置的终点检测条件时，判断为清洁终点。此时，以皮拉尼真空计的压力指示值作为状态量。以皮拉尼真空计的压力指示值作为状态量。以皮拉尼真空计的压力指示值作为状态量。
【技术实现步骤摘要】
真空处理装置的清洁方法
[0001]本专利技术涉及真空处理装置的清洁方法，更具体而言，涉及可不使清洁时长超过或不足地检测清洁的终点的方法。
技术介绍
[0002]例如，在热CVD装置、等离子体CVD装置、蚀刻装置和灰化装置这类真空处理装置中，如果重复在真空室内对被处理物的真空处理(尤其是使用等离子体的成膜处理、蚀刻处理等)的话，则反应生成物和副反应物(下称“附着物)也会在包括被处理物以外的防附着板、台架或簇射极板这类位于真空室内的部件表面在内的真空室内的局部上附着、堆积。这样的附着物例如由于可能会成为粒子的发生源而阻碍良好的真空处理，因此通常会在真空气氛中实施去除附着物的清洁。作为清洁方法，向真空气氛的真空室内导入根据附着物而选择的清洁气体，并激励清洁气体从而产生等离子体。然后，通常是使等离子体中的离子和自由基与附着物发生反应而成为反应生成气体，通过真空泵进行真空排气，从真空室内去除。
[0003]此处，因为出于暂停真空处理(生产)而恢复到真空室内的最佳处理环境的目的而周期性地实施上述清洁，所以对生产效率影响很大。假设清洁时长比需要的短的话，则附着物的去除还没有达到真空室内的处理环境恢复的程度，有时会阻碍之后良好的真空处理。而如果清洁时长比需要的长的话，则不但生产率会恶化，而且由于清洁时使用的气体种类，有时会对真空室内的部件产生腐蚀，导致过早劣化。因此，需要不使清洁时长超过或不足地检测清洁的终点。
[0004]以往，检测清洁的终点的方法例如在专利文献1中已知。其中，在真空室内安装：第一真空计，其无论清洁气体种类如何都没有灵敏度变化；以及第二真空计(皮拉尼真空计)，其灵敏度根据气体种类而变化；在第一真空计的测量值固定的状态下，通过第二真空计检出伴随清洁的处理室内的气体成分的变化，基于检出的气体成分的变化检测清洁的终点。具体而言，基于以往的清洁时的实际成果数据和预先实验性地求出的第二真空计的指示值的变化数据，确定作为清洁终点的基准的指标即绝对值，基于该绝对值和各真空计测量出的实际测量值而检测清洁的终点。
[0005]在上述终点检测方法中，例如，在开始使用真空处理装置的最初期间内，要不使清洁时长不足地检测其终点，会存在不得不将充分考虑了清洁的扰动量后的时间点作为终点的问题。这是由于例如在新的真空室内没有进行充分次数的真空处理的话，要在真空室内要去除的反应生成物和清洁时长的关联性，即作为清洁终点的基准的绝对值和实际测量值的关联性未必一致。再有，当真空处理装置的使用者采用变更气体种类等当初设想的清洁以外的方法(即改变清洁条件)实施清洁时，清洁终点的绝对值也会改变，因此会有采用上述以往例的方法已经无法应对的问题。
[0006]现有技术
[0007]专利文献
[0008]【专利文献1】日本专利公开2003
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303777号公报
技术实现思路
[0009]专利技术要解决的技术问题
[0010]鉴于以上情况，本专利技术的技术问题是提供一种真空处理装置的清洁方法，其可不设定作为清洁终点的基准的绝对值且可不使清洁时长过长或不足地检测清洁的终点。
[0011]解决技术问题的手段
[0012]为解决上述技术问题，本专利技术的真空处理装置的清洁方法，其包含在下述期间，即在向真空气氛的真空室内以固定的流量连续导入根据附着在真空室内的局部上的附着物选择的清洁气体，激励清洁气体而产生等离子体，使等离子体中的离子、自由基与附着物发生反应成为反应生成气体，通过真空泵以固定的排气速度连续地对该反应生成气体进行真空排气的期间，检测清洁的终点的工序，其特征在于：测量伴随等离子体中的离子、自由基和附着物之间的反应而变化的真空室内的状态量，将真空室内设置的皮拉尼真空计的压力指示值作为该状态量，以每单位时间测量的状态量作为第一样本，根据该第一样本分别求出回归直线，以依次求出的回归直线的斜率作为第二样本，当该第二样本的各斜率满足预先设置的终点检测条件时，判断为清洁终点，终点检测条件中包括：示出朝向清洁的终点的倾向的斜率条件；只要对斜率条件检测规定次数就可判断为清洁的终点的次数条件；以及直到判断清洁的终点为止的状态量的变动幅度。
[0013]采用上述方式，在真空泵的排气速度保持固定的状态下，以规定流量导入清洁气体开始真空室的清洁。其最初，例如皮拉尼真空计的压力指示值是大致固定的，之后，随着反应生成气体的真空排气的进行，压力指示值会持续下降。并且，当将反应生成气体大致排出时，不久会在比清洁开始时低的规定压力下大致呈固定。此时，由于并不像上述以往例那样在清洁的终点的检测中使用绝对值，而是采用根据回归直线的斜率，即作为状态量的压力指示值的变化的倾向来判断清洁的终点的结构，因此无论要清洁的真空室内的使用状況(从使用开始起的期间等)或清洁条件如何，都可不使清洁时长过长或不足地检测清洁的终点。而且，可使用作为真空处理装置中本来就设置的设备的皮拉尼真空计检测清洁的终点，因此具有可实现降低成本的优点。
[0014]在本专利技术中，也可以采用在所述终点检测条件中包括：示出朝向清洁的终点的倾向的斜率条件；以及只要对斜率条件检测规定次数就可判断为清洁的终点的次数条件，至少可对次数条件任意地进行设置变更的结构，或采用在所述终点检测条件中包括从判断出了所述清洁的终点的时间点起的追加时间，以达到了追加时间的时间点为限检测为清洁的终点，可对追加时间任意地进行设置变更的结构。由此，要实施清洁的真空处理装置的使用者例如可根据真空处理装置的使用状況和清洁条件等，考虑清洁的扰动量将检测清洁终点的条件优化，是有利的。
[0015]此处，在像本申请专利技术这样以皮拉尼真空计的压力指示值作为清洁终点的检测中使用的“状态量”的情况下，皮拉尼真空计是根据气体种类变化而灵敏度会变化的装置，通常会在根据要测量的气体种类而进行校正后使用，其测量范围是0.4Pa～2,000Pa。另一方面，在清洁过程中，不但是和附着物反应的生成气体被释放出来，成膜时带到附着物中的氮、氧和水蒸气这类的气体等也会被依次释放出来。因此，如根据下文所述的实验也可知的
是，皮拉尼真空计的压力指示值只在清洁终点附近反复上下变动。因此，像上述现有技术那样，以“指示值显示固定值的状态持续规定时间”作为清洁终点判断条件的方法，可能会导致清洁时长比需要的长，反而使生产率下降等问题。与之相比，在本申请专利技术中，在使用单一的皮拉尼真空计的压力指示值作为清洁终点的检测中使用的“状态量”的情况下，在清洁的终点的检测中不使用绝对值，而是通过根据回归直线的斜率，即根据压力变化的倾向判断清洁的终点，无论要清洁的真空室内的使用状況(从使用开始起的期间等)或清洁条件如何，此外，不管是否是所述状态量显示固定值的状态，都可不使清洁时长过长或不足地检测清洁的终点，例如在斜率条件(回归直线的斜率)暂时减小后，进而斜率条件再次增大这样的环境下也可不使清洁时长过长或不足地检测清洁的终点。
[0016]此外，在真空处理装置例如是等离子体CVD装置时，有时真空处理装置的真空室的附着物会是多孔的。这种情况下，可本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种真空处理装置的清洁方法，其包含在下述期间，即在向真空气氛的真空室内以固定的流量连续导入根据附着在真空室内的局部上的附着物选择的清洁气体，激励清洁气体而产生等离子体，使等离子体中的离子、自由基与附着物发生反应成为反应生成气体，通过真空泵以固定的排气速度连续地对该反应生成气体进行真空排气的期间，检测清洁的终点的工序，其特征在于：测量随着等离子体中的离子、自由基和附着物之间的反应而变化的真空室内的状态量，将真空室内设置的皮拉尼真空计的压力指示值作为该状态量，以每单位时间测量的状态量作为第一样本，根据该第一样本分别求出回归直线，以依次求出的回归直线的斜率作为第二...
【专利技术属性】
技术研发人员：田中美和，筱田正明，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：
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