温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种真空处理装置(Pc)的清洁方法。其包含在向真空气氛的真空室内导入根据附着在真空室(1)内的局部上的附着物选择的清洁气体，激励清洁气体而产生等离子体，使等离子体中的离子、自由基与附着物发生反应成为反应生成气体，通过真空泵(Pu)...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。