气体输运沉积装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种气体输运沉积装置。它具有结构简单，使用方便，使用寿命长，加热均匀，能有效防止沉积源气体受到污染等优点。其结构为：一个封闭的石墨管式加热器，石墨管式加热器两端分别与气体运输左通道和气体运输右通道连通。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种气体输运沉积装置，特别涉及一种针对碲化镉薄膜太阳电池吸收层的气 体输运沉积装置。
技术介绍
碲化镉薄膜太阳电池的吸收层有多种实验室制作方法，典型的有真空蒸发沉积、溅射沉 积、分子束外延沉积、丝网印刷、电镀、气相外延、近空间升华、气体输运沉积等，其中的 近空间升华、气体输运沉积技术从实验室发展成产业化， 一些与生产效率、产品性能密切相 关的关键技术，正在进行着广泛而深入的研究。气体输运沉积碲化镉薄膜太阳电池，由于沉积源结构比较复杂，该工艺实验室研究资料 相当匮乏，目前成功采用该技术的厂家也只有美国一家工厂。按照它1999年公布的专利 《APPARATUS AND METHOD FOR DEPOSITING A MATERIAL ON A SUBSTRATE》(专利号 US5945163 )和2000年公布的专利《APPARATUS AND METHOD FOR DEPOSITING A SEMICONDUCTOR MATERIAL》(专利号US6037241),其结构形式有如下几方面缺点1. 加热效率很低。由于它采用的是电阻丝加热方式，需要进行绝缘保护，而且不能直本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种气体输运沉积装置，其特征是，它包括一个封闭的石墨管式加热器，石墨管式加热器两端分别与气体运输左通道和气体运输右通道连通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王步峰，李青海，王景义，
申请(专利权)人：山东润峰集团有限公司，
类型：发明
国别省市：37[中国|山东]