X线分析装置及X线分析方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供使测定者能够判断具有凹凸的试料中不能分析的区域的Ｘ线分析装置及Ｘ线分析方法。具备：对试料（Ｓ）上的任意照射点（Ｐ）照射放射线的Ｘ射线管（１１）；检测从试料（Ｓ）释放出的特性Ｘ线及散射Ｘ线并输出包含该特性Ｘ线及散射Ｘ线的能量信息的信号的Ｘ线检测器（１２）；对试料（Ｓ）出射照明光进行照明的狭域照明机构（１３Ａ）及广域照明机构（１３Ｂ）；以及取得照明光照明的试料（Ｓ）的照明图像作为图像数据的狭域观察机构（１４Ａ）及广域观察机构（１４Ｂ）。该观察机构具有在与连接检测时的照射点（Ｐ）和Ｘ线检测器（１２）的方向相同的方向上设定为使照明时的照明光的光轴朝向照射点（Ｐ）的狭域倾斜照明部（１９）及广域倾斜照明部（２１）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及适合例如能量分散型荧光X线分析等的X线分析装置及x线分析方法。
技术介绍
荧光x线分析时，对试料照射x线源出射的x线，并通过由x线检测器检测从试料释放出的特性X线即荧光X线，来从该能量取得频谱，进行试料的定性分析或定量分析。该荧光x线分析可以非破坏 方式迅速分析试料，因此广泛用于工程、品质管理等。近年，实现高 精度化及高灵壽文化而能够进行;徵量测定，尤其期待作为纟企测包含在诸 如材料或复合电子部件的有害物质的分析手法的普及。作为该荧光X线分析的分析手法，有利用分光晶体来对荧光X线进行分光，测定x线的波长与强度的波长分散方式，或者不进行分光而用半导体检测元件进行检测，用脉冲幅度分析器测定X线的能量与强度的能量分散方式等。以前，例如在专利文献l (日本特开2007-292476号公报)中公 开了这样一种X线分析装置，即具备照射X线的X线源和观察试料 的分析点的光学显微镜，通过切换X线源和光学显微镜，使X线源和 光学显微镜具有同一光轴。在该X线分析装置中，将试料承载于试料 载物台上的状态下，能够通过光学显微镜光学观察试料，来特定分析 位置或者进行形状测量。但是上述的传统技术留下了以下的i果题。即，在传统X线分析装置中，对于具有凹凸的试料，用针尖(pin point)进行分析的场合，如图4所示，存在这样的不好方面，即，若在从放射线源1照射原侧的激励X线(原X线)或激励电子束等放射线X0的照射点(即，分析点)P和X线检测器2之间存在试料S的 凸部Sl,则在照射点P发生的X线X2被凸部Si吸收，无法到达X 线检测器2。因此，在该照射点P的区域上无法进行X线分析。此外， 在传统X线分析装置中，从上方通过光学显《鼓镜等观察试料载物台上 的试料，^f旦由于观察方向与X线源同样，难以特定因凹凸等而不能分 析的区域。
技术实现思路
本专利技术鉴于上述课题构思而成，其目的在于提供使测定者能够判 断具有凹凸的试料中不能分析的区域的X线分析装置及X线分析方法。为了解决上述课题，本专利技术采用以下的构成。即，本专利技术的x线分析装置的特征在于具备对试料上的任意照射点照射放射线的放射 线源；检测从所述试料释放出的特性X线及散射X线并输出包含该特 性X线及散射X线的能量信息的信号的X线检测器；对所述试料出 射照明光进行照明的照明机构；以及取得所述照明光照明的所述试料 的照明图像作为图像数据的观察机构，所述照明机构具有凹凸用照明 部，该凹凸用照明部在与连接所述检测时的所述照射点和所述X线检 测器的方向相同的方向上设定为使所述照明时的所述照明光的光轴 朝向所述照射点。此外，本专利技术的X线分析方法是/Ai文射线源向试料上的任意照射 点照射放射线，用X线检测器检测从所述试料释放出的特性X线及散 射X线并输出包含该特性X线及散射X线的能量信息的信号的X线 检测方法，其特征在于包括在进行所述放射线的照射之前，用照明 机构来对所述试料出射照明光进行照明的步骤；以及用观察机构取得 所述照明光照明的所述试料的照明图像作为图像数据的步骤，在所述 照明的步骤中，通过所述照明机构所具备的凹凸用照明部，在与连接所述4企测时的所述照射点和所述X线检测器的方向相同的方向上设 定为使所述照明时的所述照明光的光轴朝向所述照射点，并进行所述 照明。该中，照明机构具有在与连接检测 时的照射点和X线冲企测器的方向相同的方向上设定为使照明时的照明光的光轴朝向所述照射点的凹凸用照明部，因此通过凹凸用照明部 的照明，发生与试料的凹凸对应的影部，并能够作为不能分析的区域加以明示。即，该影部大致相等于4企测时在照射点发生的X线因凹凸而无法到达x线检测器的不能分析的区域，通过以可见光像方式将该影部提供给测定者，能够明示不能分析的区域。此外，能够通过明示不能分析的区域来使测定者容易判断因试料的凹凸而X线检测不准 确的情况下会得到X线信号量下降导致的不准确的测定结果的情形，可防止错误的判定。此外，本专利技术的X线分析装置的特征在于所述M^察机构具备影 部明示处理部，该影部明示处理部将纟皮所述凹凸用照明部的照明光照 明的所述试料的照明图傳_作为凹凸用图像记录，并将由所述凹凸用照 明部的所述照明光产生的影部，通过图像处理来从所述凹凸用图#4争 定不能分析的区域并将该位置作为不能分析的区域信息输出。即，在 该X线分析装置中，影部明示处理部通过图像处理从凹凸用图像将由 照明光产生的影部特定不能分析的区域并将该位置作为不能分析的 区域信息输出，从而可以通过图像处理来图像识别影部，可以自动特 定并明示。此外，基于输出的不能分析的区域信息，可进行各种分析 处理或分析:澡作。而且，本专利技术的X线分析装置的特征在于所述照明机构具有基 准用照明部，该基准用照明部在与所述检测时的所述j丈射线的照射方 向相同的方向上设定为使所述照明时的所述照明光的光轴朝向所述 照射点，所述观察机构将所述基准用照明部的照明光照明的所述试料 的照明图像作为基准图像记录，所述影部明示处理部通过比较所述凹凸用图像和所述基准图像的图像处理来特定所述不能分析的区域。 即，在该X线分析装置中，影部明示处理部通过图像处理，例如比较 来自彼此不同方向的照明即基于凹凸用照明部的凹凸用图像和基于 基准用照明部的基准图像的差分处理，来特定不能分析的区域，因此 可更准确地特定不能分析的区域。此外，本专利技术的X线分析装置的特征在于将所述照射点设定在 所述不能分析的区域时，具备所述警告机构。即，在该X线分析装置 中，想要在不能分析的区域设定照射点进行测定时，警告机构基于不 能分析的区域信息进行警告显示或发出警告音，因此令测定者避开对 不能分析的区域的无用分析作业而能够有效率地完成分析作业。此 外，对于进行警告显示或发出警告音的不能分析的区域，还可以采取 变更对试料的朝向等再次设定后再进行测定的对策。此外，本专利技术的X线分析装置的特征在于具备移动机构和检测 方向控制部，所迷移动机构可使所述试料与所述凹凸用照明的位置相 对移动，所述检测方向控制部在所述照射点设定为所述不能分析的区 域时，基于所述不能分析的区域信息控制所述移动机构，将所述X线 检测器对所述试料的检测方向变更为所述照射点不会成为所述影部 的方向。即，在该X线分析装置中，检测方向控制部基于不能分析的 区域信息控制移动机构，朝着照射点不会成为影部的方向变更试料与 X线检测器的相对位置关系，因此形成影部的点也可通过变更试料与 X线检测器的位置关系来自动测定。依据本专利技术，得到如下效果。即，依据本专利技术的X线分析装置及X线分析方法，照明机构具有 在与连接检测时的照射点和X线检测器的方向相同的方向上设定为 4吏照明时的照明光的光轴朝向照射点的凹凸用照明部，因此能够通过 来自凹凸用照明部的照明发生与试料的凹凸对应的影部，可以明示为 不能分析的区域。因而，令测定者能够容易地判断不能分析的区域， 可提高分析结果的可靠性并可防止重做分析等。附图说明图1是表示本专利技术的x线分析装置及x线分析方法的一个实施方 式的概略整体结构图。图2是表示在本实施方式中由广域倾斜照明部的照明产生的影部 的说明图。图3是表示在本实施方式中由广域倾斜照明部的照明取得的凹凸 用图^f象的示例的和克念图。图4是表示与本专利技术相关的X线分析装置及X线分析方本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种Ｘ线分析装置，其特征在于具有：　对试料上的任意照射点照射放射线的放射线源；　检测从所述试料释放出的特性Ｘ线及散射Ｘ线并输出包含该特性Ｘ线及散射Ｘ线的能量信息的信号的Ｘ线检测器；　对所述试料出射照明光进行照明的照明机构； 以及　取得所述照明光照明的所述试料的照明图像作为图像数据的观察机构，　所述照明机构具有凹凸用照明部，该凹凸用照明部在与连接所述检测时的所述照射点和所述Ｘ线检测器的方向相同的方向上设定为使所述照明时的所述照明光的光轴朝向所述照射点 。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：的场吉毅，
申请(专利权)人：精工电子纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]