用于改善中心-边缘之间的台阶差和LER的I-线用负性光致抗蚀剂组合物、及用于改善工艺余裕的I-线用负性光致抗蚀剂组合物制造技术

本发明专利技术的目的在于提供一种相比于现有的I

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于改善中心
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边缘之间的台阶差和LER的I
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线用负性光致抗蚀剂组合物、及用于改善工艺余裕的I
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线用负性光致抗蚀剂组合物


[0001]本专利技术涉及一种工艺余裕(process margin)优异的I
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线用负性光致抗蚀剂组合物。更详细地说，涉及一种在工艺余裕中用于改善中心
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边缘(Center
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Edge)之间的台阶差和LER(Line and Edge Roughness：线边缘粗糙度)的I
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线用负性光致抗蚀剂组合物。

技术介绍

[0002]近来，随着半导体制造工艺技术的发展，需要半导体器件的小型化和高集成化，因此需要实现具有数十nm以下的线宽的超微细图案的技术。用于形成这种超微细图案的技术的进步，已经通过具有更小波长的光源、根据光源的工艺技术的开发、适合于光源的光致抗蚀剂(Photoresist)的开发等实现。
[0003]在用于形成各种图案的光刻工艺(Photholithography)中使用光致抗本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种在半导体工艺的图案形成工艺中用于改善中心
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边缘之间的台阶差和LER的I
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线用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述I
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线用负性光致抗蚀剂组合物为由1)聚合物树脂；2)由下述化学式1表示的化合物；3)交联剂；4)光致产酸剂；5)酸扩散抑制剂；及6)溶剂；组成的组合物，[化学式1]在上述式中，R可以彼此相同或不同，各自独立地选自由丙烯酰基(Acryloyl)、烯丙基(Allyl)、3
‑
乙氧基丙烯酰基(3
‑
Etoxyacryloyl)、二甲基硅烷烯丙基(Dimethylsilaneallyl)、甲基丙烯酸基(Methylacryl)、反式
‑3‑
(苯甲酰基)丙烯酸基(trans
‑3‑
(Benzoyl)acryl)、3
‑
(2
‑
呋喃基)丙烯酸基(3
‑
(2furyl)acryl)、4
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(苄氧基)苄基((4
‑
benzyloxy)benzyl)及1,4
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二丙烯酰基哌嗪(1,4
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bisacryloylpiperazine)所组成的组中的任意一种。2.根据权利要求1所述的用于改善中心
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边缘之间的台阶差和LER的I
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线用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述组合物由100重量份的聚合物树脂、5至100重量份的由化学式1表示的化合物、7至13重量份的交联剂、1至7重量份的光致产酸剂、0.3至0.9重量份的酸扩散抑制剂及700至1000重量份的溶剂组成。3.根据权利要求2所述的用于改善中心
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边缘之间的台阶差和LER的I
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线用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，由所述化学式1表示的化合物是对1,1,1
‑
三(4
‑
羟基苯基)
‑1‑
乙基
‑4‑
异丙基苯(1,1,1
‑
Tris(4
‑
hydroxyphenyl)
‑1‑
ethyl
‑4‑
isopropylbenzene)进行单体取代反应得到的化合物。4.根据权利要求2所述的用于改善中心
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边缘之间的台阶差和LER的I
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线用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，由所述化学式1表示的化合物的重均分子量为550至600。5.根据权利要求2所述的用于改善中心
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边缘之间的台阶差和LER的I
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线用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述聚合物树脂选自由具有羟基的苯酚聚合物树脂及甲酚聚合物树脂所组成的组中的一种以上，其中，所述苯酚聚合物树脂的重均分子量为2,000至25,000，所述甲酚聚合物
树脂的重均分子量为2,000至25,000。6.根据权利要求5所述的用于改善中心
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边缘之间的台阶差和LER的I
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线用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述苯酚聚合物树脂的单体选自由4
‑
羟基
‑3‑
甲基苯甲酸(4
‑
Hydroxy
‑3‑
methyl benzoic acid)、4
‑
羟基
‑2‑
甲基苯甲酸(4
‑
Hydroxy
‑2‑
methyl benzoic acid)、5
‑
羟基
‑2‑
甲基苯甲酸(5
‑
Hydroxy
‑2‑
methyl benzoic acid)、3,5
‑
二叔丁基
‑4‑
羟基苯甲酸(3,5
‑
Di
‑
tert
‑
butyl
‑4‑
hydroxy benzoic acid)、4
‑
羟基
‑
3,5
‑
二甲基苯甲酸(4
‑
Hydroxy
‑
3,5
‑
dimethyl benzoic acid)、4
‑
羟基间苯二甲酸(4
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Hydroxy isophthalic acid)、2,4,6
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羟基甲苯(2,4,6
‑
Hydroxy toluene)、2,4,6
‑
三羟基苯甲酸一水合物(2,4,6
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Trihydroxy benzoic acid monohydrate)及2,4,6
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三羟基苯甲醛(2,4,6
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Trihydroxy benzaldehyde)所组成的组中的一种以上，甲酚聚合物树脂的单体选自由邻甲酚(o
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cresol)、对甲酚(p
‑
cresol)、间甲酚(m
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cresol)、环氧邻甲酚(Epoxy o
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cresol)、环氧对甲酚(Epoxy p
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cresol)及环氧间甲酚(Epoxy m
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cresol)所组成的组中的一种以上。7.根据权利要求2所述的用于改善中心
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边缘之间的台阶差和LER的I
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线用负性光致抗蚀剂组合物，其特征在于，所述交联剂包括选自由三(2,3
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环氧丙基)异氰脲酸酯(Tris(2,3
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epoxypropyl)isocyanurate)、三羟甲基甲烷三缩水甘油醚(Trimethylolmethanetriglycidylether)、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚(Trimethylol...

【专利技术属性】
技术研发人员：李秀珍，崔映喆，李昇炫，李昇勋，
申请(专利权)人：荣昌化学制品株式会社，
类型：发明
国别省市：