光刻用工艺液体组合物及利用其的图案形成方法技术

本申请发明专利技术涉及一种在光致抗蚀剂图案工艺中改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷的工艺液体组合物及利用其的图案形成方法。其中，所述光致抗蚀剂图案具有对光致抗蚀剂表面的水的接触角为75

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻用工艺液体组合物及利用其的图案形成方法


[0001]本申请专利技术涉及一种在光致抗蚀剂图案工艺中用于光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷改善的工艺液体组合物及利用其的光致抗蚀剂图案形成方法，其中，所述光致抗蚀剂图案具有对光致抗蚀剂表面的水的接触角为75
°
以上的疏水性。

技术介绍

[0002]通常，半导体是由以193nm、248nm或365nm等波长段的紫外线作为曝光光源的光刻工艺制造，各公司为了减少关键线宽(以下称为CD：Critical Dimension)而展开的竞争激烈。
[0003]因此，为了形成更加微细的图案，需要更小波长段的光源。目前，利用极紫外光(EUV，extreme ultra violet，波长为13.5nm)光源的光刻技术被广泛利用，通过利用其可以实现更加微细的波长。
[0004]然而，极紫外线用光致抗蚀剂的蚀刻(etching)耐性仍然未得到改善，因此持续需要具有大纵横比的光致抗蚀剂图案，因此在显影中容易产生图案裂痕缺陷，从而在制备工艺中发生工艺余裕(process margin)大幅减少的问本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷的工艺液体组合物，所述工艺液体组合物包含表面活性剂，其特征在于，所述工艺液体组合物为在光致抗蚀剂图案工艺中用于改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷工艺液体组合物，其中，所述光致抗蚀剂图案具有对光致抗蚀剂表面的水的接触角为75
°
以上的疏水性，所述工艺液体组合物的表面张力为45mN/m以下，接触角为65
°
以下。2.根据权利要求1所述的用于改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷的工艺液体组合物，其中，所述用于改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷的工艺液体组合物由0.00001至0.1重量％的氟系表面活性剂，0.00001至1.0重量％的选自由三元醇衍生物、四元醇衍生物或它们的混合物所组成的组的物质，以及余量的水组成。3.根据权利要求2所述的用于改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷的工艺液体组合物，其中，所述工艺液体组合物由0.0001至0.1重量％的氟系表面活性剂，0.00001至1.0重量％的选自由三元醇衍生物、四元醇衍生物或它们的混合物所组成的组的物质，以及余量的水组成。4.根据权利要求3所述的用于改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷的工艺液体组合物，其中，所述工艺液体组合物由0.001至0.1重量％的氟系表面活性剂，0.00001至1.0重量％的选自由三元醇衍生物、四元醇衍生物或它们的混合物所组成的组的物质，以及余量的水组成。5.根据权利要求4所述的用于改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷的工艺液体组合物，其中，所述工艺液体组合物由0.001至0.1重量％的氟系表面活性剂，0.0001至1.0重量％的选自由三元醇衍生物、四元醇衍生物或它们的混合物所组成的组的物质，以及余量的水组成。6.根据权利要求5所述的用于改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷的工艺液体组合物，其中，所述工艺液体组合物由0.001至0.1重量％的氟系表面活性剂，0.001至1.0重量％的选自由三元醇衍生物、四元醇衍生物或它们的混合物所组成的组的物质，以及余量的水组成。7.根据权利要求2所述的用于改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷的工艺液体组合物，其特征在于，所述氟系表面活性剂选自由氟代丙烯羧酸酯、氟代烷基醚、氟代亚烷基醚、氟代烷基硫酸酯、氟代烷基磷酸酯、氟代丙烯酸共聚物、氟代共聚物、全氟酸、全氟羧酸盐、全氟磺酸盐或它们的混合物所组成的组。8.根据权利要求2所述的用于改善光致抗蚀剂图案的裂痕缺陷的工艺液体组合物，其特征在于，所述三元醇衍生物及所述四元醇衍生物物质为，由C3～C10组成的三元醇衍生物物质，选自由1,2,3
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丙三醇、1,2,4
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丁三醇、1,1,4
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丁三醇、1,3,5
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戊三醇、1,2,5
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戊三醇、2,3,4
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戊三醇、1,2,3
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己三醇、1,2,6
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己三醇、1,3,4
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己三醇、1,4,5
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己三醇、2,3,4
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己三醇、1,2,3
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庚三醇、1,2,4
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庚三醇、1,2,6
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庚三醇、1,3,5
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庚三醇、1,4,7
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庚三醇、2,3,4
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庚三醇、2,4,6
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庚三醇、1,2,8
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辛三醇、1,3,5
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辛三醇、1,4,7
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辛三醇、丁烷
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1,1,1
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三醇、2
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甲基
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1,2,3
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丙三醇、5

【专利技术属性】
技术研发人员：李秀珍，金起洪，李昇勋，李昇炫，
申请(专利权)人：荣昌化学制品株式会社，
类型：发明
国别省市：