Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用。本发明专利技术具体公开了一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物由下述原料制得，所述的原料包括下列以重量份计的组分：80～150份的树脂A、5～20份的树脂B、5～15份的树脂C、3～10份的光酸产生剂、2～10份的交联剂、0.5～2.5份的酸扩散抑制剂和500～2000份的溶剂；其中，所述树脂A和所述树脂C的重量份数的比例为20:3～20:1，所述树脂B和所述树脂C的重量份数的比例为1:2～2:1；所述树脂A为取代苯乙烯树脂，由结构单元组成，其中，m为1或2；R1为H、乙酰基或丙酰基；树脂A的重均分子量为4000～10000，分子量分布指数为1.2～3.0。数为1.2～3.0。

【技术实现步骤摘要】
Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及一种Krf薄膜光刻用负性光致抗蚀剂组合物及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]近来，随着半导体制造工艺技术的发展，需要半导体器件的小型化和高集成度，因此需要一种用于实现线宽为数十纳米或更小的超精细图案的技术。已经通过开发具有更小波长的光源、光源的工艺技术、适合于光源的光致抗蚀剂(Photoresist)，带来用于形成这种超精细图案的技术进步。
[0003]在用于形成各种图案的光刻工艺(Photholithography)中使用光致抗蚀剂。光致抗蚀剂是指能够通过光的作用改变对显影液的溶解度以获得对应于曝光图案的图像的光敏树脂，作为所述光刻胶图案形成方法有使用负色调显影液(NTD，Negative ToneDevelopment)和正色调显影液(PTD，Positive Tone Development)的图案形成方法。所述使用负性显影液的图案形成方法是通过用负色调显影液选择性地溶解以及去除非曝光区域来形成图案；使用正性显影液的图案形成方法是通过用正色调本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抗蚀剂组合物，其特征在于，其由下述原料制得，所述的原料包括下列以重量份计的组分：80～150份的树脂A、5～20份的树脂B、5～15份的树脂C、3～10份的光酸产生剂、2～10份的交联剂、0.5～2.5份的酸扩散抑制剂和500～2000份的溶剂；其中，所述树脂A和所述树脂C的重量份数的比例为20:3～20:1，所述树脂B和所述树脂C的重量份数的比例为1:2～2:1；所述树脂A为取代苯乙烯树脂，由结构单元组成；其中，m为1或2；R1为H、乙酰基或丙酰基；所述树脂A的重均分子量为4000～10000，分子量分布指数为1.2～3.0；所述树脂B的结构为：所述树脂C的结构为：
2.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述的光酸产生剂为全氟丁基磺酸三苯基锍盐；和/或，所述的交联剂为四甲氧甲基甘脲；和/或，所述的酸扩散抑制剂为三丁基胺；和/或，所述的溶剂为乳酸乙酯和丙二醇甲醚醋酸酯的组合；和/或，所述树脂A和所述树脂B的重量份数的比例为5:1～20:1；和/或，所述树脂B和树脂C的重量份数的比例为1:2、2:3、1:1或2:1；和/或，所述树脂A和树脂C的重量份数的比例为20:3、8:1、10:1、15:1或20:1；和/或，所述的重均分子量和分子量分布指数由凝胶渗透色谱法测得。3.如权利要求2所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述树脂A和所述树脂B的重量份数的比例为5:1、8:1、10:1、15:1或20:1；和/或，所述的乳酸乙酯和丙二醇甲醚醋酸酯的组合中，所述的乳酸乙酯和所述的丙二醇甲醚醋酸酯质量比为3:14。4.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述的树脂A以重量份计的份数为80份、100份或150份；和/或，所述的树脂B以重量份计的份数为5份、10份或20份；和/或，所述的树脂C以重量份计的份数优选5份、10份或15份；和/或，所述的光酸产生剂以重量份计的份数为3份、6份或10份；和/或，所述的交联剂以重量份计的份数为2份、5份或10份；和/或，所述的酸扩散抑制剂以重量份计的份数为0.5份、1份或2.5份；和/或，所述的溶剂以重量份计的份数为500份、850份或2000份。5.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述树脂A中，m为1；和/或，所述的树脂A的重均分子量为4600～9300；和/或，所述的树脂A的分子量分布指数为1.2～2.9。6.如权利要求5所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述树脂A的结构单元为和/或，所述的树脂A的重均分子量为4608、4658、5428、6295、7521、7828或9238；和/或，所述的树脂A的分子量分布指数为1.2、1.8、2.5、2.7或2.9。7.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述树脂A选自以下任一方案：方案1：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；
方案2：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为5846以及分子量分布指数为2；方案3：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为9798以及分子量分布指数为2；方案4：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为8726以及分子量分布指数为1.8；方案5：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为5753以及分子量分布指数为2.6；方案6：树脂A中，结构单元为R1为乙酰基、重均分子量为5399以及分子量分布指数为2.2；方案7：树脂A中，结构单元为R1为丙酰基、重均分子量为7828以及分子量分布指数为2.9；
方案8：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；方案9：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；方案10：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；方案11：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；方案12：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；方案13：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；
方案14：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；方案15：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；方案16：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；方案17：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；方案18：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；方案19：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；
方案20：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8；方案21：树脂A中，结构单元为R1为H、重均分子量为7828以及分子量分布指数为1.8。8.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，其由下述原料制得，所述的原料由下列以重量份计的组分组成：80～150份的所述树脂A、5～20份的所述树脂B、5～15份的所述树脂C、3～10份的所述光酸产生剂、2～10份的所述交联剂、0.5～2.5份的所述酸扩散抑制剂和500～2000份的所述溶剂；其中，所述树脂A和所述树脂B的重量份数的比例为20:3～20:1，所述树脂B和所述树脂C的重量份数的比例为1:2～2:1。9.如权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述抗蚀剂组合物的原料包括下列任一方案所示的以重量份计的原料，或由下列任一方案所示的以重量份计的原料组成：方案1：100份的树脂A、10份的树脂B、10份的树脂C、6份的全氟丁基磺酸三苯基锍盐、5份的...

【专利技术属性】
技术研发人员：方书农，王溯，耿志月，崔中越，
申请(专利权)人：上海芯刻微材料技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：