本发明专利技术涉及着色层形成用放射线敏感性组合物、滤色片和彩色液晶显示元件，并提供与基板的密合性优异、可以形成具有高精细且优异的图案形状的像素和黑色矩阵的放射线敏感性组合物。着色层形成用放射线敏感性组合物，其特征在于：含有（Ａ）着色剂、（Ｂ）碱溶性树脂、（Ｃ）具有２个以上的自由基聚合性不饱和键的单体、（Ｄ）放射线敏感性自由基发生剂、以及（Ｅ）特定的酚式化合物。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及着色层形成用放射线敏感性组合物、滤色片和液晶显示元件，更详细而言，涉及用于形成在用于透射型或反射型彩色液晶显示装置、彩色摄像管元件等的滤色片中有用的着色层的放射线敏感性组合物、具备使用该放射线敏感性组合物而形成的着色层的滤色片、以及具备该滤色片的彩色液晶显示元件。
技术介绍
作为使用着色放射线敏感性组合物形成滤色片的方法，已知有在基板上或在预先形成有所需图案的遮光层的基板上，形成着色放射线敏感性组合物的涂膜，经由具有规定图案的光掩模照射放射线(以下，称为“曝光”)，再进行显影以溶解除去未曝光部分，之后进行后烘，由此得到各色像素的方法(例如参照专利文献1和2)。 而且，近年来希望通过将放射线敏感性组合物用于监视器或电视而得到明亮且色彩重现性良好的画面，在提高背光亮度的同时，必需提高放射线敏感性组合物中所含的着色剂、特别是颜料的含量(非专利文献1)。并且，有如下倾向将液晶监视器画面或液晶电视画面进一步高精细化，画面上每单位面积的像素数增加。因此，要求放射线敏感性组合物在用于形成黑色矩阵、形成像素的同时，可以形成更微细的图案。 针对上述要求，例如专利文献3中公开了通过在放射线敏感性组合物中含有具特定结构的碱溶性树脂，可以形成具有高分辨率的图案。但是，在所谓负型放射线敏感性组合物中，由于接近式曝光时的衍射光的影响，所形成的图案的线宽较光掩模的设计尺寸宽，因此存在着无法得到具有所需线宽的微细图案的问题。 另一方面，作为消除上述负型放射线敏感性组合物的图案线宽变宽的方法，已知有下述方法例如减少曝光量、强化显影条件、减少放射线敏感性组合物中放射线敏感性聚合引发剂的含量或在放射线敏感性组合物中含有聚合抑制剂等方法。但是，采用任一种方法，显影时仍然有易于产生图案的缺损或脱落、底切的倾向，特别是放射线敏感性组合物中所含的着色剂含量变高时，上述方法终究还是无法适用。 专利文献1日本特开平2-144502号公报 专利文献2日本特开平3-53201号公报 专利文献3日本特开2004-205862号公报 非专利文献1村上匡计著“LCD用フロント·バツクライトの新展开(LCD用面/背光的新进展)”、第1版、(株)東レリサ一チセンタ一、2002年9月发行
技术实现思路
专利技术所要解决的课题 本专利技术的目的在于提供着色层形成用放射线敏感性组合物，该组合物即使在放射线敏感性组合物中所含的着色剂含量高的情况下，与基板的密合性也优异，可以形成具有高精细且优异的图案形状的像素和黑色矩阵，并且在接近式曝光中图案线宽也不会变宽。 本专利技术的目的还在于提供具备由所述着色层形成用放射线敏感性组合物形成的着色层的滤色片、以及具备该滤色片的彩色液晶显示元件。 解决课题的方法 鉴于上述实际情况，本专利技术人等进行深入研究时发现通过在着色层形成用放射线敏感性组合物中含有具有特定结构的酚式化合物，可以解决上述课题，从而完成了本专利技术。 即，本专利技术提供着色层形成用放射线敏感性组合物，其特征在于含有(A)着色剂、(B)碱溶性树脂、(C)含有2个以上自由基聚合性不饱和键的单体、(D)放射线敏感性自由基发生剂、以及(E)选自下述式(1)-(5)所表示的化合物、具有黄烷骨架的酚式化合物、具有螺双茚满骨架的酚式化合物和具有螺双茚骨架的酚式化合物的至少一种化合物 化学式1 [式(1)中，R1表示氢原子、碳原子数为4以下的烷基、碳原子数为4以下的烷氧基、苯基、萘基或-(CH2)x-COOZ基，存在的多个R1彼此可以相同也可以不同；Z表示烷氧基烷基、环式醚基、乙烯基氧基烷基或叔烷氧基羰基烷基，存在的多个Z彼此可以相同也可以不同；x为0-4的整数；A表示单键、-S-基、-O-基、-CO-基、-COO-基、-SO-基、-SO2-基、-C(R2)(R3)-基或 化学式2 基团(其中，k为04的整数。)；R2和R3彼此可以相同也可以不同，表示氢原子、碳原子数为6以下的烷基、碳原子数为6以下的酰基、苯基、萘基或-(CH2)x-COOZ基；m、n、p和q为0以上的整数，满足m+n≤5、p+q≤5、n+q≥1的关系。] 化学式3 化学式4 化学式5 化学式6 。 本专利技术还提供具有使用所述着色层形成用放射线敏感性组合物而形成的着色层的滤色片、以及具备该滤色片的彩色液晶显示元件。 专利技术效果 通过使用本专利技术的含有(E)成分的放射线敏感性组合物，即使在放射线敏感性组合物中所含的着色剂含量高的情况下，与基板的密合性也优异，可以形成具有高精细且优异的图案形状的像素和黑色矩阵，并且在接近式曝光中图案线宽也不会变宽。 因此，本专利技术的滤色片例如在透射型或反射型的彩色液晶显示装置、彩色摄像管元件、彩色传感器等中有用。 实施专利技术的最佳方式 (着色层形成用放射线敏感性组合物) 本专利技术的着色层形成用放射线敏感性组合物(以下，有时仅称为“放射线敏感性组合物”)中的“着色层”是指由用于滤色片的像素和/或黑色矩阵所形成的层。 以下，对本专利技术的着色层形成用放射线敏感性组合物的构成成分进行说明。 -(A)着色剂- 本专利技术中的(A)着色剂没有特别限定，可以是有机颜料也可以是无机颜料。 有机颜料可以列举例如染料索引(C.I.；The Society of Dyers andColourists社发行)中分类为颜料的化合物，本专利技术中的(A)着色剂没有特别限定，可以列举分类为有机颜料的化合物，具体有下述带有染料索引(C.I.)编号的化合物。 C.I.颜料黄12、C.I.颜料黄13、C.I.颜料黄14、C.I.颜料黄17、C.I.颜料黄20、C.I.颜料黄24、C.I.颜料黄31、C.I.颜料黄55、C.I.颜料黄83、C.I.颜料黄93、C.I.颜料黄109、C.I.颜料黄110、C.I.颜料黄138、C.I.颜料黄139、C.I.颜料黄150、C.I.颜料黄153、C.I.颜料黄154、C.I.颜料黄155、C.I.颜料黄166、C.I.颜料黄168、C.I.颜料黄211； C.I.颜料橙5、C.I.颜料橙13、C.I.颜料橙14、C.I.颜料橙24、C.I.颜料橙34、C.I.颜料橙36、C.I.颜料橙38、C.I.颜料橙40、C.I.颜料橙43、C.I.颜料橙46、C.I.颜料橙49、C.I.颜料橙61、C.I.颜料橙64、C.I.颜料橙68、C.I.颜料橙70、C.I.颜料橙71、C.I.颜料橙72、C.I.颜料橙73、C.I.颜料橙74； C.I.颜料红1、C.I.颜料红2、C.I.颜料红5、C.I.颜料红17、C.I.颜料红31、C.I.颜料红32、C.I.颜料红41、C.I.颜料红122、C.I.颜料红123、C.I.颜料红144、C.I.颜料红149、C.I.颜料红166、C.I.颜料红168、C.I.颜料红170、C.I.颜料红171、C.I.颜料红175、C.I.颜料红176、C.I.颜料红177、C.I.颜料红178、C.I.颜料红179、C.I.颜料红180、C.I.颜料红185、C.I.颜料红187、C.I.颜本文档来自技高网...
【技术保护点】
着色层形成用放射线敏感性组合物，其特征在于：含有（Ａ）着色剂、（Ｂ）碱溶性树脂、（Ｃ）具有２个以上的自由基聚合性不饱和键的单体、（Ｄ）放射线敏感性自由基发生剂、以及（Ｅ）选自下述式（１）－（５）表示的化合物、具有黄烷骨架的酚式化合物、具有螺双茚满骨架的酚式化合物和具有螺双茚骨架的酚式化合物的至少一种化合物： 【化学式１】 ＊＊＊ （１） 式（１）中，Ｒ↑［１］表示氢原子、碳原子数为４以下的烷基、碳原子数为４以下的烷氧基、苯基、萘基或－（ＣＨ↓［２］）↓［ｘ ］－ＣＯＯＺ基，存在的多个Ｒ↑［１］彼此可以相同也可以不同；Ｚ表示烷氧基烷基、环式醚基、乙烯基氧基烷基或叔烷氧基羰基烷基，存在的多个Ｚ彼此可以相同也可以不同，ｘ为０－４的整数；Ａ表示单键、－Ｓ－基、－Ｏ－基、－ＣＯ－基、－ＣＯＯ－基、－ＳＯ－基、－ＳＯ↓［２］－基、－Ｃ（Ｒ↑［２］）（Ｒ↑［３］）－基或 【化学式２】 ＊＊＊ 基团，其中，ｋ为０－４的整数；Ｒ↑［２］和Ｒ↑［３］彼此可以相同也可以不同，表示氢原子、碳原子数为６以下的烷基、碳原子数为６以下的酰基 、苯基、萘基或－（ＣＨ↓［２］）↓［ｘ］－ＣＯＯＺ基；ｍ、ｎ、ｐ和ｑ为０以上的整数，满足ｍ＋ｎ≤５、ｐ＋ｑ≤５、ｎ＋ｑ≥１的关系； 【化学式３】 ＊＊＊ （２） 式（２）中，Ｒ↑［１］表示与式（１）的Ｒ↑［１］相同的基团 ；Ｒ↑［４］表示与式（１）的Ｒ↑［２］相同的基团；ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ和ｓ为０以上的整数，满足ｍ＋ｎ≤５、ｐ＋ｑ≤５、ｒ＋ｓ≤５、ｎ＋ｑ＋ｓ≥１的关系； 【化学式４】 ＊＊＊ （３） 式（３）中，Ｒ↑［１］表示与式（１）的 Ｒ↑［１］相同的基团；Ｒ↑［４］表示与式（１）的Ｒ↑［２］相同的基团，２个Ｒ↑［４］彼此可以相同也可以不同；Ａ表示与式（１）的Ａ相同的基团；ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ和ｕ为０以上的整数，满足ｍ＋ｎ≤５、ｐ＋ｑ≤５、ｒ＋ｓ≤５、ｔ＋ｕ≤５、ｎ＋ｑ＋ｓ＋ｕ≥１的关系； 【化学式５】 ＊＊＊ （４） 式（４）中，Ｒ↑［１］表示与式（１）的Ｒ↑［１］相同的基团；Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］分别表示与式（１）的Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和式（２）的Ｒ↑［４］相同的 基团；ｍ、ｎ、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ和ｕ为０以上的整数，满足ｍ＋ｎ≤５、ｐ＋ｑ≤５、ｒ＋ｓ≤５、ｔ＋ｕ≤４、ｎ＋ｑ＋ｓ＋ｕ≥１的关...
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：的场拓巳，蓑轮贵树，小出利幸，成濑秀则，
申请(专利权)人：JSR株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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