掩模版的对位校准方法、装置、设备及存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种掩模版的对位校准方法、装置、设备及存储介质，所述掩模版的对位校准方法应用于控制系统，所述控制系统与联动对位校准装置连接，所述联动对位校准装置包括：载具和掩模台，所述掩模台包括：联动支撑调整装置；当掩模版上版至所述载具时，控制所述载具针对所述掩模版的位置进行调整，并记录调整数据；将所述调整数据的电信号发送给所述联动支撑调整装置，以控制所述联动支撑调整装置根据所述电信号进行调整；将所述掩模版移送至所述掩模台以将所述掩模版放置在调整后的联动支撑调整装置上。从而，本发明专利技术能够减少掩模版在曝光前进行定位的时长，进而提高光刻机的生产效率。效率。效率。

【技术实现步骤摘要】
掩模版的对位校准方法、装置、设备及存储介质


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种变掩模版的对位校准方法、装置、终端设备以及计算机存储介质。

技术介绍

[0002]随着科技的发展，掩模版是一种由表面记载着图形、文字等信息的金属层薄膜或光阻层薄膜，和，材质为高纯度融石英或其它材质的玻璃载板组合而成的广泛用于IC、FPD(Flat Panel Display,平板显示器)、MEMS（Micro
‑
Electro
‑
Mechanical System,微机电系统）和光学器件的模具。
[0003]现有技术中针对掩模版进行居中精度的定位时，通过机械手臂将掩模版移动至掩模台上，工作人员将光刻机的镜头下移进行气聚焦，利用激光或者探针进行探边定位，然而，传统的对位校准方法在光刻机曝光前进行定位校准操作的时间长，进而导致光刻机的生产效率非常低。

技术实现思路

[0004]本专利技术的主要目的在于提供一种掩模版的对位校准方法、终端设备以及计算机存储介质，旨在实现减少掩模版在曝光前进行定位的时长，进而提高光刻机的生产效率。
[0005]为实现上述目的，本专利技术提供一种掩模版的对位校准方法，所述掩模版的对位校准方法应用于控制系统，所述控制系统与联动对位校准装置连接，所述联动对位校准装置包括：载具和掩模台，所述掩模台包括：联动支撑调整装置；当掩模版上版至所述载具时，控制所述载具针对所述掩模版的位置进行调整，并记录调整数据；将所述调整数据的电信号发送给所述联动支撑调整装置，以控制所述联动支撑调整装置根据所述电信号进行调整；将所述掩模版移送至所述掩模台以将所述掩模版放置在调整后的联动支撑调整装置上。
[0006]可选地，所述载具包括：支撑调整装置、光源和信号接收装置，所述当掩模版上版至所述载具时，控制所述载具针对所述掩模版的位置进行调整的步骤，包括：当掩模版上版至所述支撑调整装置时，开启所述光源以将所述掩模版的标志信号的标志光信号投射在所述信号接收装置；调整所述支撑调整装置，直至将所述标志光信号与所述信号接收装置的目标区域对应。
[0007]可选地，所述调整所述支撑调整装置，直至将所述标志光信号与所述信号接收装置的目标区域对应的步骤，包括：各自调整所述支撑调整装置的多个第一位置调整装置，直至将所述标志光信号与所述信号接收装置的目标区域对应。
[0008]可选地，多个所述第一位置调整装置至少包括：第一水平方向调整装置、第二水平方向调整装置和第一垂直方向调整装置，所述分别调整多个所述第一位置调整装置的数据直至将所述标志光信号与所述信号接收装置的目标区域对应的步骤，包括：调整所述第一水平方向调整装置和所述第二水平方向调整装置，直至所述标志光信号的基准点与所述信号接收装置中目标区域的目标基准点对应；调整所述第一水平方向调整装置和所述第二水平方向调整装置，直至所述基准点的线段与所述目标基准点的目标线段对应；调整所述第一垂直方向调整装置，直至将所述标志光信号的面积与所述目标区域的目标面积对应。
[0009]可选地，所述调整所述支撑调整装置，直至将所述标志光信号与所述信号接收装置的目标区域对应的步骤之前，所述方法还包括：确认所述标志光信号与所述信号接收装置的目标区域是否对应；若是，则记录当前的支撑调整装置数据，并将所述支撑调整装置数据的电信号发送给所述联动支撑调整装置，以控制所述联动支撑调整装置根据所述电信号进行调整。
[0010]可选地，所述联动支撑调整装置包括：多个第二位置调整装置，所述将所述调整数据的电信号发送给所述联动支撑调整装置，以控制所述联动支撑调整装置根据所述电信号进行调整的步骤，包括：将所述电信号发送至所述联动支撑调整装置，以分别控制多个所述第二位置调整装置根据所述电信号进行调整。
[0011]可选地，多个所述第二位置调整装置至少包括：第三水平方向调整装置、第四水平方向调整装置和第二垂直方向调整装置，所述将所述电信号发送至所述联动支撑调整装置，以分别控制多个所述第二位置调整装置根据所述电信号进行调整的步骤，包括：将所述电信号发送至所述联动支撑调整装置，以分别控制所述第三水平方向调整装置、所述第四水平方向调整装置和所述第二垂直方向调整装置根据所述电信号进行调整。
[0012]此外，为实现上述目的，本专利技术还提供一种掩模版的对位校准装置，所述掩模版的对位校准装置应用于控制系统，所述控制系统与联动对位校准装置连接，所述联动对位校准装置包括：载具和掩模台，所述掩模台包括：联动支撑调整装置，所述掩模版的对位校准装置包括：调整模块，用于当掩模版上版至所述载具时，控制所述载具针对所述掩模版的位置进行调整，并记录调整数据；发送模块，用于将所述调整数据的电信号发送给所述联动支撑调整装置，以控制所述联动支撑调整装置根据所述电信号进行调整；移送模块，用于将所述掩模版移送至所述掩模台以将所述掩模版放置在调整后的联动支撑调整装置上。
[0013]此外，为实现上述目的，本专利技术还提供一种终端设备，所述终端设备包括：存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的掩模版的对位校准程序，所述掩模版的对位校准程序被所述处理器执行时实现如上述中的掩模版的对位校准方法的步骤。
[0014]此外，为实现上述目的，本专利技术还提供一种计算机存储介质，所述计算机存储介质
上存储有掩模版的对位校准程序，所述掩模版的对位校准程序被处理器执行时实现如上所述的掩模版的对位校准方法的步骤。
[0015]本专利技术提出的掩模版的对位校准方法、装置、终端设备以及计算机可读存储介质，所述掩模版的对位校准方法应用于控制系统，所述控制系统与联动对位校准装置连接，所述联动对位校准装置包括：载具和掩模台，所述掩模台包括：联动支撑调整装置；当掩模版上版至所述载具时，控制所述载具针对所述掩模版的位置进行调整，并记录调整数据；将所述调整数据的电信号发送给所述联动支撑调整装置，以控制所述联动支撑调整装置根据所述电信号进行调整；将所述掩模版移送至所述掩模台以将所述掩模版放置在调整后的联动支撑调整装置上。
[0016]本专利技术通过控制系统控制机械手臂将掩模版上版至载具，控制载具针对掩模版的位置进行调整，并记录调整数据，然后，将调整数据以电信号的形式发送至掩模台的联动支撑调整装置，联动支撑调整装置根据该电信号中的调整数据进行调整，将掩模版移送至掩模台以将掩模版放置在调整后的联动支撑调整装置上即可完成掩模版的对位校准。
[0017]相比于传统的通过手动操作进行探边定位的方式，本专利技术通过在载具上提前进行掩模版的预定位，将预定位的电信号发送给掩模台，该掩模台根据电信号中的调整数据进行掩模版放置位置调整，即，将掩模版放置位置进行固定，然后将该掩模版直接移动至掩模台上，从而，不需要通过镜头扫描将光刻机的镜头下移进行聚焦，利用激光或者探光进行探边定位，并且，在通过光刻机针对当前掩模版进行曝光时，在载具上进行下一个掩模版的预定位，在当前掩模版的掩模版完成曝光时，直接进行下一个掩模版的曝光，从而，极大程本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模版的对位校准方法，其特征在于，所述掩模版的对位校准方法应用于控制系统，所述控制系统与联动对位校准装置连接，所述联动对位校准装置包括：载具和掩模台，所述掩模台包括：联动支撑调整装置；当掩模版上版至所述载具时，控制所述载具针对所述掩模版的位置进行调整，并记录调整数据；将所述调整数据的电信号发送给所述联动支撑调整装置，以控制所述联动支撑调整装置根据所述电信号进行调整；将所述掩模版移送至所述掩模台以将所述掩模版放置在调整后的联动支撑调整装置上。2.如权利要求1所述的掩模版的对位校准方法，其特征在于，所述载具包括：支撑调整装置、光源和信号接收装置，所述当掩模版上版至所述载具时，控制所述载具针对所述掩模版的位置进行调整的步骤，包括：当掩模版上版至所述支撑调整装置时，开启所述光源以将所述掩模版的标志信号的标志光信号投射在所述信号接收装置；调整所述支撑调整装置，直至将所述标志光信号与所述信号接收装置的目标区域对应。3.如权利要求2所述的掩模版的对位校准方法，其特征在于，所述支撑调整装置包括：多个第一位置调整装置，直至将所述标志光信号与所述信号接收装置的目标区域对应的步骤，包括：分别调整所述支撑调整装置的多个所述第一位置调整装置，直至将所述标志光信号与所述信号接收装置的目标区域对应。4.如权利要求3所述的掩模版的对位校准方法，其特征在于，多个所述第一位置调整装置至少包括：第一水平方向调整装置、第二水平方向调整装置和第一垂直方向调整装置，所述分别调整多个所述第一位置调整装置的数据直至将所述标志光信号与所述信号接收装置的目标区域对应的步骤，包括：调整所述第一水平方向调整装置和所述第二水平方向调整装置，直至所述标志光信号的基准点与所述信号接收装置中目标区域的目标基准点对应；调整所述第一水平方向调整装置和所述第二水平方向调整装置，直至所述基准点的线段与所述目标基准点的目标线段对应；调整所述第一垂直方向调整装置，直至将所述标志光信号的面积与所述目标区域的目标面积对应。5.如权利要求2所述的掩模版的对位校准方法，其特征在于，所述调整所述支撑调整装置，直至将所述标志光信号与所述信号接收装置的目标区域对应的步骤之前，所述方法还包括：确认所述标志光信号与所述信号接收...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄执祥，谢超，孙世强，雷健，崔嘉豪，
申请(专利权)人：深圳市龙图光罩股份有限公司，
类型：发明
国别省市：