提供了用于运输供处理的掩模版腔室(盒)的系统、设备和方法。在一个示例中，披露了一种用于运输所述盒的系统。所述系统可以包括移动设备、联接到所述移动设备的基部、和从所述基部延伸的夹持环。在一些方面中，所述夹持环夹持从所述盒延伸的凸缘。所述移动设备响应于所述夹持环夹持所述凸缘而移动所述基部。述夹持环夹持所述凸缘而移动所述基部。述夹持环夹持所述凸缘而移动所述基部。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光刻装置的盒输送系统和方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年9月10日递交的美国临时专利申请号63/076,809的优先权，所述美国临时专利申请的全部内容通过引用而被合并入本文中。
[0003]本公开涉及一种夹持器装置，所述夹持器装置被配置成在运输期间保持和传送处于悬挂状态的物体，例如掩模版盒。
技术介绍
[0004]光刻设备是一种将期望的图案施加至衬底(通常是在衬底的目标部分上)上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以是掩模或掩模版的图案形成装置可以被用于产生待在正在形成的IC的单层上形成的电路图案。可以将所述图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或若干个管芯)上。典型地，通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(例如，抗蚀剂)层上进行图案的转印。通常，单个衬底将包含被连续图案化的相邻目标部分的网格。传统的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来照射每个目标部分，在扫描器中，通过在辐射束沿给定方向(扫描方向)扫描图案的同时沿平行于该扫描方向、或沿平行于所述扫描方向且与所述扫描方向相反的方向同步地扫描所述目标部分来照射每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底上。
[0005]极紫外(EUV)光，例如波长为约50纳米(nm)或更小的电磁辐射(有时也称为软x射线)，并且包括波长为约13nm的光，可以被用于光刻设备中或与光刻设备一起使用，以在衬底(诸如例如，硅晶片的)中产生极小的特征。产生EUV光的方法包括但不一定限于将具有发射线在EUV范围内的元素(例如，氙(Xe)、锂(Li)或锡(Sn))的材料转换成等离子体状态。例如，在一种被称为激光产生等离子体(LPP)的方法中，等离子体可以通过利用可以被称为驱动激光器的经放大的光束来照射目标材料而产生，所述目标材料在LPP源的情境中可互换地被称为燃料，例如呈材料的液滴、板、带、流或簇的形式的燃料。对于此过程，等离子体通常在密封容器(例如，真空腔室)中产生，并使用各种类型的量测装备来监测。
[0006]光刻设备可以包括用于衬底的供应链和传送机构。通用盒(例如，掩模版盒或前开口均匀盒即前开式晶片传送盒(FOUP))可以被用于传送所述衬底。掩模版盒可以是专门的外壳或封壳，其被设计用于在受控环境中牢固且安全地保持掩模版或衬底。掩模版盒允许掩模版在光刻机内被转印以供进行处理和/或测量。国际半导体设备与材料产业协会(SEMI)E100和SEMI E152标准中可以定义用于盒(诸如EUV盒)的机械特征的规范。FOUP可以具有可拆卸的即可移除的盒子，所述盒子具有用于将衬底保持在适当的位置的翅片、和允许机器人输送机构直接从FOUP接近衬底的前开口。满载即经完全装载的掩模版盒可以重约9千克，使得使用自动化材料输送系统。此外，由于光刻设备的新设计、大小和实施方式，对
于操作者来说，手动地将这些盒装载到这些机器的装载端口上可能不再可行，这些装载端口可能在光刻机的内部。
技术实现思路
[0007]需要一种运输系统来安全且牢固地或可靠地运输用于加工的容器。
[0008]本公开描述了在极紫外(EUV)辐射系统中提供光学量测和各种其它操作的系统、设备和方法的各方面。更具体地，本公开描述了一种用于输送掩模版盒的输送系统和方法，以允许对于供处理的盒的运输、装载和卸载，以及对掩模版的检查。
[0009]根据一些实施例，披露了一种用于运输所述盒的系统。所述系统可以包括移动设备、联接到所述移动设备的基部、以及从所述基部延伸的夹持环。在一些方面中，所述夹持环夹持从所述盒延伸的凸缘。所述移动设备响应于所述夹持环夹持所述凸缘而移动所述基部。
[0010]根据另一实施例，披露了一种光刻设备，包括用于运输所述盒的系统。所述系统可以包括移动设备、联接到所述移动设备的基部、以及从所述基部延伸的夹持环。在一些方面中，所述夹持环夹持从所述盒延伸的凸缘。所述移动设备响应于所述夹持环夹持所述凸缘而移动所述基部。
[0011]根据另一实施例，披露了一种被配置成夹持盒的凸缘的夹持环，其中所述盒被配置成保持掩模版。所述环壁可以包括限定开口的环壁，其中所述开口具有与所述凸缘的形状相对应的形状。所述夹持环可以包括环唇，其中所述环唇是由所述环壁限定的凹部。所述环唇的内部轮廓可以与所述凸缘的外部轮廓相对应。
[0012]在下文中参考随附附图详细地描述另外的特征、以及各个方面的结构和操作。应注意，本公开不限于本文描述或图示的具体方面。本文仅出于说明性的目的来呈现这些方面。基于本专利技术中所包含的教导，额外的方面将对于相关领域技术人员是显而易见的。
附图说明
[0013]被合并入本文中并且形成说明书的一部分的随附附图图示出本公开，并且与描述一起进一步用于解释本公开的各方面的原理并且使相关领域的技术人员能够完成并且使用本公开的各方面。
[0014]图1A是根据一些实施例的示例反射型光刻设备的示意图。
[0015]图1B是根据本公开的一些方面的示例透射型光刻设备的示意图。
[0016]图2A、图2B和图3示出根据一些实施例的反射型光刻设备的更详细示意图。
[0017]图4是根据一些实施例的用于示例反射型光刻设备的示例辐射源的示意图。
[0018]图5A至图5C图示出根据一些实施例的输送系统。
[0019]图6A至图6D图示出根据一些实施例的输送系统。
[0020]图7A至图7C图示出根据一些实施例的输送系统的操作和位置。
[0021]图8A至图8C图示出根据一些实施例的输送系统的操作和位置。
[0022]图9A至图9C图示出根据一些实施例的输送系统的操作和位置。
[0023]图10图示出根据一些实施例的示出运输方法的示例的流程图。
[0024]根据以下阐明的详细描述，当与附图结合时，本公开的特征和优点将变得更加显
而易见，其中在整个本文中相同的附图标记标识相对应的元件。在附图中，除非另有明确说明，否则相似的附图标记通常指示相同的、功能上类似的、和/或结构上类似的元件。另外，通常，附图标记的最左边的数字标识其中所述附图标记第一次出现的附图。除非另有陈述，否则遍及本公开所提供的附图不应被解释为成比例的附图。
具体实施方式
[0025]本说明书披露了包含本公开的特征的一个或更多个实施例。所公开的实施例仅描述本公开。本公开的范围不限于所公开的实施例。本公开的广度和范围由所附权利要求及其等同物来限定。
[0026]所描述的实施例以及在说明书中提到的“一个实施例”、“实施例”、“示例实施例”、“示例性实施例”等指示所描述的实施例可以包括具体的特征、结构或特性，但是每个实施例可以不一定包括所述具体的特征、结构或特性。此外，这样的短语不一定指同一实施例。另外，当结合实施例来描述具体的特征、结构或特性时，本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种系统，包括，移动设备，所述移动设备包括：基部，所述基部联接到所述移动设备；和夹持环，所述夹持环从所述基部延伸，其中，所述夹持环被配置成夹持从盒延伸的凸缘，并且其中，所述移动设备被配置成响应于所述夹持环夹持所述凸缘而移动所述基部。2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述夹持环包括环壁和环唇；所述环壁包括安装组件，所述安装组件被配置成将所述夹持环连接到所述基部；且所述环唇是由所述环壁限定的凹部。3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述夹持环限定具有与所述凸缘的形状相对应的形状的开口；和/或所述基部被配置成将所述夹持环旋转到所述凸缘的边缘与所述环唇的环唇边缘对准的位置。4.根据权利要求1所述的系统，包括：对准传感器，所述对准传感器被配置成检测所述夹持环相对于所述凸缘的对准状态。5.根据权利要求4所述的系统，其中，所述对准传感器被配置成通过检测所述凸缘上的标记来检测所述对准状态。6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述标记是快速响应(QR)码标记。7.根据权利要求6所述的系统，其中，所述移动设备包括处理器；并且所述处理器被配置成响应于所述对准传感器检测到所述QR码来确定对所述盒的识别标志；和/或所述对准传感器被配置成将所述QR码中继转送至处理器。8.根据权利要求7所述的系统，其中，对所述盒的所述识别标志包括所述盒的装载信息。9.根据权利要求7所述的系统，其中：对所述盒的所述识别标志包括对装载端口的识别标志；并且所述处理器被配置成响应于确定对所述盒的所述识别标志而指示所述移动设备将所述盒移动到所述装载端口。10.根据权利要求1所述的系统，包括：接近传感器，所述接近传感器被配置成检测所述夹持环与所述凸缘之间的距离，其中所述基部被配置成响应于所述夹持环与所述凸缘之间的距离是阈值距...
【专利技术属性】
技术研发人员：B，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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