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一种铝熔体提纯金属硅的方法技术

技术编号:3748696 阅读:235 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种铝熔体提纯金属硅方法,包括如下步骤:首先将金属硅去油、洗净得到洗净后的金属硅;再将铝熔体倒入洗净后的金属硅中,让洗净后的金属硅表面附着一层铝熔体,冷却凝固;将冷却凝固的的产物在惰性气氛中加热、保温,冷却至室温后用盐酸和氢氟酸混合溶液浸泡数小时,用去离子水清洗干净。本发明专利技术利用了硅中铝吸杂的原理,对金属硅中的杂质进行初步的吸杂处理,得到较纯的硅材料,以用于后续的提纯工艺,是一种低成本、低能耗、简便易行的物理法提纯制备太阳能级硅的方法,能将金属硅纯度初步提纯到99.99%~99.999%(4~5N),可以作为太阳能电池用硅材料或进一步提纯的原料。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种金属硅的提纯方法,尤其涉及。
技术介绍
太阳能分布广泛,是一种用之不竭的清洁能源。太阳能电池能将太阳能转化为电能,但目前太阳能电池的价格比较高,尤其是作为光伏市场主体的晶硅电池成本依然很高,这严重影响了太阳能的推广和使用。 目前光伏市场由晶体硅太阳电池主导。而近年来,硅材料成本占到总成本的25%以上,成为制约太阳能电池进一步发展的瓶颈。在高纯多晶硅提纯技术中,改良西门子法、硅烷法占据了绝大部分的份额。但是,利用这些方法得到的硅原料纯度可达9N,远高于太阳能级硅的7N要求,且成本难以降低。低成本的物理冶金法可以直接将金属硅提纯至太阳能级的要求,因此有望取代西门子法而大幅降低材料成本。 一般认为,大多金属杂质在硅中的分凝系数都很小,可用定向凝固方法去除,但是,当金属杂质浓度很高(大于1ppmw,ppmw是指按质量计的百万分之一,即指在每克硅中有1微克的金属杂质)时,金属杂质不能通过定向凝固的办法去除。在对金属硅进行提纯之前,必须先大幅降低金属杂质浓度至1ppmw以下,使得定向凝固能够发挥最大的作用。
技术实现思路
本专利技术提供一种低成本、属于物理法提纯范畴的金属硅的提纯方法。通过本方法制备高级金属硅,可以作为太阳能电池用硅材料或进一步提纯的原料。 一种铝熔体提纯金属硅方法,包括如下步骤 1)将金属硅去油、洗净得到洗净后的金属硅; 2)将铝熔体倒入洗净后的金属硅中,让洗净后的金属硅表面附着一层铝熔体,冷却使铝熔体凝固; 3)将步骤2)的产物(洗净后的金属硅附着一层铝熔体并凝固)在惰性气氛中加热至600~950℃,保温2~10h,冷却至室温; 4)将步骤3)的产物(冷却到室温的金属硅)取出,用盐酸和氢氟酸的混合溶液浸泡1~5个小时后,用去离子水清洗干净; 所述的盐酸的质量百分比浓度为5%~20%; 所述的氢氟酸的质量百分比浓度为1%~10%; 所述的盐酸与氢氟酸的体积比1∶1。 所述的金属硅的粒径大小为0.05mm~10mm。 作为进一步优选,将步骤2)的产物在惰性气氛(如氩气或氮气)中加热至600~750℃,保温2~5h,冷却至室温; 作为进一步优选,步骤3)中所述的盐酸的质量百分比浓度为5%~9%;所述的氢氟酸的质量百分比浓度为1%~5%。 本专利技术利用了硅中铝吸杂的原理,在金属硅表面人为形成均匀的铝膜,然后在高温下热处理,使铝膜和硅合金化,形成AlSi合金,同时铝向晶体硅体内扩散,在靠近AlSi合金层处形成一高铝浓度掺杂的p型层。在铝合金化或后续热处理中,硅中的杂质会扩散到AlSi合金层或者高铝浓度掺杂层沉淀,从而导致体内杂质浓度大幅度减小。然后,在化学溶液中将硅片表面的AlSi层、高铝掺杂层除去,从而达到去除杂质的目的。以此,利用铝吸杂对金属硅中的杂质进行初步的吸杂处理,得到较纯的硅材料,以用于后续的提纯工艺。 本专利技术的目的是创造一种低成本、低能耗、简便易行的一种物理法提纯制备太阳能级硅的方法,能将金属硅纯度初步提纯到99.99%~99.999%(4~5N),可以作为太阳能电池用硅材料或进一步提纯的原料。 具体实施例方式 实施例1 1)将粒径大小为0.05mm的金属硅在丙酮中超声去油、洗净得到洗净后的金属硅; 2)将铝熔体倒入放有洗净后的金属硅的坩埚中,搅拌,待洗净后的金属硅表面均匀附着一层铝熔体后,置于室温下待铝熔体完全凝固; 3)将步骤2)的产物放入退火炉中,在惰性气氛中加热至600℃,保温2h,随炉冷却至室温; 4)将步骤3)的产物取出,用质量百分比浓度为5%的盐酸和质量分数1%的氢氟酸按体积比1∶1浸泡1个小时后,用去离子水清洗干净。可以得到纯度为4.5N的高级金属硅材料。(杂质含量经过ICPMS测试,具体见下表,ppmw是指按质量计的百万分之一,即指在每克硅中有1微克的金属杂质) 实施例2 1)将粒径大小为1mm的金属硅在丙酮中超声去油、洗净得到洗净后的金属硅; 2)将铝熔体倒入放有洗净后的金属硅的坩埚中,搅拌,待洗净后的金属硅表面均匀附着一层铝熔体后,置于室温下待其完全凝固; 3)将步骤2)的产物放入退火炉中,在惰性气氛中加热至750℃,保温5h,随炉冷却至室温; 4)将步骤3)的产物取出,用质量分数10%的盐酸和质量分数3%的氢氟酸按体积比1∶1浸泡3个小时后,用去离子水清洗干净。可以得到纯度为4N的高级金属硅材料。(杂质含量经过ICPMS测试,具体见下表) 实施例3 1)将粒径大小为10mm的金属硅在丙酮中超声去油、洗净得到洗净后的金属硅; 2)将铝熔体倒入放有洗净后的金属硅的坩埚中,搅拌,待洗净后的金属硅表面均匀附着一层铝熔体后,置于室温下待其完全凝固; 3)将步骤2)的产物放入退火炉中,在惰性气氛中加热至950℃,保温10h,随炉冷却至室温; 4)将步骤3)的产物取出,用质量分数20%的盐酸和质量分数10%的氢氟酸按体积比1∶1浸泡5个小时后,用去离子水清洗干净。可以得到纯度为4N的高级金属硅材料。(杂质含量经过ICPMS测试,具体见下表) 权利要求1.一种铝熔体提纯金属硅方法,其特征在于包括如下步骤1)将金属硅去油、洗净得到洗净后的金属硅;2)将铝熔体倒入洗净后的金属硅中,让洗净后的金属硅表面附着一层铝熔体,冷却使铝熔体凝固;3)将步骤2)的产物在惰性气氛中加热至600~950℃,保温2~10h,冷却至室温;4)将步骤3)的产物取出,用质量百分比浓度为5%~20%的盐酸和质量百分比浓度为1%~10%的氢氟酸按体积比1∶1浸泡1~5个小时,用去离子水清洗干净。2.如权利要求1所述的铝熔体提纯金属硅方法,其特征在于所述的金属硅的粒径大小为0.05mm~10mm。3.如权利要求1所述的铝熔体提纯金属硅方法,其特征在于将步骤2)的产物在惰性气氛中加热至600~750℃,保温2~5h,冷却至室温。4.如权利要求1所述的铝熔体提纯金属硅方法,其特征在于将步骤3)的产物取出,用质量百分比浓度为5%~9%的盐酸和质量百分比浓度为1%~5%的氢氟酸按体积比1∶1浸泡1~5个小时,用去离子水清洗干净。全文摘要本专利技术公开了一种铝熔体提纯金属硅方法,包括如下步骤首先将金属硅去油、洗净得到洗净后的金属硅;再将铝熔体倒入洗净后的金属硅中,让洗净后的金属硅表面附着一层铝熔体,冷却凝固;将冷却凝固的的产物在惰性气氛中加热、保温,冷却至室温后用盐酸和氢氟酸混合溶液浸泡数小时,用去离子水清洗干净。本专利技术利用了硅中铝吸杂的原理,对金属硅中的杂质进行初步的吸杂处理,得到较纯的硅材料,以用于后续的提纯工艺,是一种低成本、低能耗、简便易行的物理法提纯制备太阳能级硅的方法,能将金属硅纯度初步提纯到99.99%~99.999%(4~5N),可以作为太阳能电池用硅材料或进一步提纯的原料。文档编号C01B33/037GK101759188SQ20101004005公开日2010年6月30日 申请日期2010年1月19日 优先权日2010年1月19日专利技术者杨德仁, 顾鑫, 余学功 申请人:浙江大学本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种铝熔体提纯金属硅方法,其特征在于:包括如下步骤:  1)将金属硅去油、洗净得到洗净后的金属硅;  2)将铝熔体倒入洗净后的金属硅中,让洗净后的金属硅表面附着一层铝熔体,冷却使铝熔体凝固;  3)将步骤2)的产物在惰性气氛中加热至600~950℃,保温2~10h,冷却至室温;  4)将步骤3)的产物取出,用质量百分比浓度为5%~20%的盐酸和质量百分比浓度为1%~10%的氢氟酸按体积比1∶1浸泡1~5个小时,用去离子水清洗干净。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:杨德仁顾鑫余学功
申请(专利权)人:浙江大学
类型:发明
国别省市:86[中国|杭州]

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