石墨镜面研磨机制造技术

本申请涉及一种石墨镜面研磨机，包括箱体以及安装于箱体内的驱动组件和喷淋组件，所述箱体上设有工作台，所述工作台上设有容置腔，所述容置腔的底部设有研磨板，所述驱动组件连接于所述研磨板且所述驱动组件能够带动所述研磨板转动，所述研磨板上铺设抛光片，所述工作台上安装限定组件，产品放置于所述抛光片上，所述产品外侧套设有保护罩，所述限定组件用于保护罩的定位，且所述保护罩和产品能够相对于所述限定组件进行转动，所述喷淋组件用于向所述产品上喷洒研磨液。本研磨机通过选择合适的研磨液粒度，并通过产品的自转和抛光片的转动，对产品进行研磨抛光，达到了高标准的表面粗糙度和平面度的要求。面粗糙度和平面度的要求。面粗糙度和平面度的要求。

【技术实现步骤摘要】
石墨镜面研磨机


[0001]本申请涉及研磨机，具体涉及一种石墨镜面研磨机。

技术介绍

[0002]目前，在石墨加工
中，一般有精度要求的表面粗糙度和平面度的石墨零件基本上都采用磨床加工，虽然磨床加工可以达到很高的表面粗糙度和平面度，但要做到石墨件表面超精密加工和镜面效果，用磨床是无法达到的，而且磨床加工时间长、效率低、成本高。

技术实现思路

[0003]为了克服上述缺陷，本申请提供一种石墨镜面研磨机，该研磨机通过选择合适的研磨液粒度，并通过产品的自转和抛光片的转动，对产品进行研磨抛光，达到了高标准的表面粗糙度和平面度的要求。
[0004]本申请为了解决其技术问题所采用的技术方案是：
[0005]一种石墨镜面研磨机，包括箱体以及安装于箱体内的驱动组件和喷淋组件，所述箱体上设有工作台，所述工作台上设有容置腔，所述容置腔的底部设有研磨板，所述驱动组件连接于所述研磨板且所述驱动组件能够带动所述研磨板转动，所述研磨板上铺设抛光片，所述工作台上安装限定组件，产品放置于所述抛光片上，所述产品外侧套设有保护罩，所述限定组件用于保护罩的定位，且所述保护罩和产品能够相对于所述限定组件进行转动，所述喷淋组件用于向所述产品上喷洒研磨液。
[0006]优选地，所述抛光片为耐水砂纸为基体制备而成的抛光片，所述抛光片的上表面涂覆一层刚玉耐磨层，所述抛光片的下表面通过胶水粘贴于所述研磨板上。
[0007]优选地，所述产品上压合压块，所述压块为砝码。
[0008]优选地，所述限定组件包括限定架和滚轮，所述限定架固定安装于所述工作台上，所述限定架上设有弧形面，且所述弧形面两端的限定架上各设有一滚轮，所述滚轮可转动地安装于所述限定架上，且所述滚轮突出于所述弧形面。
[0009]优选地，所述保护罩呈内部中空的圆柱体结构，且所述保护罩的下端设有若干均匀布置的缺口，所述保护罩的外侧壁贴合于所述滚轮。
[0010]优选地，所述缺口呈方形、半圆形、半椭圆形、倒U形或倒V形。
[0011]优选地，所述驱动组件包括伺服电机和减速机，所述减速机的转轴连接于所述研磨板。
[0012]优选地，所述喷淋组件包括储液槽、循环泵和出液管，所述循环泵的一端通过管路连通于所述储液槽，所述循环泵的另一端连接于所述出液管的一端，所述储液管伸出所述工作台且所述储液管伸于所述产品的上方。
[0013]本申请的有益效果是：本申请包括研磨板、抛光片、驱动组件、限定组件、保护罩和喷淋组件，带研磨的石墨产品置于保护罩内，限位组件用于定位保护罩，驱动组件用于控制
研磨板的转动，喷淋组件用于向产品表面喷洒研磨液；当驱动组件驱动抛光片转动时，产品在抛光片和限定组件共同的作用下，产品在原位进行自转，自转的产品与转动的抛光片作相对运转产生摩擦，能够精确地控制产品的研磨尺寸和并能够达到平面镜面效果，同时喷淋组件向产品喷洒所需粒度的研磨液而起到乳化、润滑和冷却的作用，进一步提高了产品研磨的效果。本研磨机在选择合理的研磨液粒度的情况下，研磨的产品能够达到表面粗糙度Ra0.02、平面度0.005mm，因此可以满足平面零件对几何精度和表面粗糙度等指标高精度的要求。
附图说明
[0014]图1为本申请的结构示意图之一；
[0015]图2为本申请的结构示意图之二；
[0016]图3为本申请的结构示意图之三；
[0017]图4为本申请中抛光片的结构示意图；
[0018]图5为本申请中保护罩的结构示意图；
[0019]图6为本申请中压块的结构示意图；
[0020]图中：10
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箱体，11
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工作台，12
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容置腔，13
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研磨板，14
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操作面板，15
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电气柜，16
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产品，20
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抛光片，30
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限定组件，31
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限定架，32
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滚轮，40
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保护罩，41
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缺口，42
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压块，50
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喷淋组件。
具体实施方式
[0021]下面将结合本申请实施例，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0022]需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及下述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以使这里描述的本申请的实施方式例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
[0023]为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在
……
之上”、“在
……
上方”、“在
……
上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在
……
上方”可以包括“在
……
上方”和“在
……
下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。
[0024]实施例：如图1
‑
3所示，一种石墨镜面研磨机，包括箱体10以及安装于箱体1O内的驱动组件和喷淋组件50，所述箱体10上设有工作台11，所述工作台11上设有容置腔12，所述容置腔12的底部设有研磨板13，所述驱动组件连接于所述研磨板13且所述驱动组件能够带动所述研磨板13转动，所述研磨板13上铺设抛光片20，所述工作台11上安装限定组件30，产品16放置于所述抛光片20上，所述产品16外侧套设有保护罩40，所述限定组件30用于保护罩40的定位，且所述保护罩40和产品16能够相对于所述限定组件30进行转动，所述喷淋组件50用于向所述产品16上喷洒研磨液。
[0025]其中，箱体10的上表面为工作台11，工作台11的中部具有容置腔12，容置腔12的底部设有研磨板13，研磨板13上固定铺设一种抛光片20，研磨板13下方的箱体10内设有驱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种石墨镜面研磨机，其特征在于：包括箱体(10)以及安装于箱体(10)内的驱动组件和喷淋组件(50)，所述箱体(10)上设有工作台(11)，所述工作台(11)上设有容置腔(12)，所述容置腔(12)的底部设有研磨板(13)，所述驱动组件连接于所述研磨板(13)且所述驱动组件能够带动所述研磨板(13)转动，所述研磨板(13)上铺设抛光片(20)，所述工作台(11)上安装限定组件(30)，产品(16)放置于所述抛光片(20)上，所述产品(16)外侧套设有保护罩(40)，所述限定组件(30)用于保护罩(40)的定位，且所述保护罩(40)和产品(16)能够相对于所述限定组件(30)进行转动，所述喷淋组件(50)用于向所述产品(16)上喷洒研磨液。2.根据权利要求1所述的石墨镜面研磨机，其特征在于：所述抛光片(20)为耐水砂纸为基体制备而成的抛光片，所述抛光片(20)的上表面涂覆一层刚玉耐磨层，所述抛光片(20)的下表面通过胶水粘贴于所述研磨板(13)上。3.根据权利要求1所述的石墨镜面研磨机，其特征在于：所述产品(16)上压合压块(42)，所述压块(42)为砝码。4.根据权利要求1所述的石墨镜面研...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘春城，
申请(专利权)人：美尔森先进石墨昆山有限公司，
类型：新型
国别省市：