【技术实现步骤摘要】
芯片封装结构及其制作方法
[0001]本专利技术涉及半导体封装
,尤其涉及一种芯片封装结构及其制作方法。
技术介绍
[0002]现代社会发展迅速,在传感器领域对分辨率的要求越来越高,摩尔定律数据屡次被刷新。堆栈式CIS(CMOS image sensor,CMOS图像传感器)由80nm级别发展到60nm级别,甚至40nm级别。CIS的线路分布越来越薄、间距越来越小,对于封装而言,堆栈芯片的焊盘结构分布有多层,厚度在100nm左右,很薄且很脆弱。
[0003]现有技术中,在芯片的封装过程中会产生应力,第一,缓冲层会对芯片焊盘产生应力,在冷热环境冲击之下,容易造成焊盘破裂;第二,封装结构中的金属层主要材质包含Ni金属,Ni本身应力较大,也很容易造成焊盘破裂。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于提供一种芯片封装结构,以减小封装过程中的应力问题,提高信耐性。
[0005]为实现上述专利技术目的,本专利技术提供一种芯片封装结构,包括:
[0006]芯片,所述芯片具有设置有焊盘的 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种芯片封装结构,其特征在于,包括:芯片,所述芯片具有设置有焊盘的下表面和与所述下表面相背的上表面,所述芯片上表面相对所述焊盘位置处设置第一凹槽,所述第一凹槽暴露出所述焊盘上表面;第一绝缘层,所述第一绝缘层设置于所述芯片上表面侧和所述第一凹槽的侧表面;第一金属层,所述第一金属层设置于所述第一绝缘层表面,并延伸覆盖至所述焊盘上表面;第二绝缘层,所述第二绝缘层设置于所述第一金属层表面,所述第二绝缘层部分区域设置第二凹槽,所述第二凹槽暴露出所述第一金属层;焊接凸起,所述焊接凸起设置于所述第二凹槽内,所述焊接凸起通过所述第一金属层与所述焊盘电性连接。2.根据权利要求1所述的芯片封装结构,其特征在于,所述第一金属层材料为Al和/或Cu。3.根据权利要求1所述的芯片封装结构,其特征在于,所述第一绝缘层和所述第一金属层之间部分区域处还设置缓冲层,所述缓冲层设置于所述第二凹槽正下方。4.根据权利要求3所述的芯片封装结构,其特征在于,所述缓冲层截面面积大于所述第二凹槽的截面面积。5.根据权利要求1所述的芯片封装结构,其特征在于,所述焊接凸起和所述第一金属层之间还设置第二金属层,所述第二金属层为Ni、Au、Pd中的一种材料或几种材料的合金,所述第二金属层厚度为1~2μm。6.根据权利要求1所述的芯片封装结构,其特征在于,所述第一绝缘层和所述第二绝缘层...
【专利技术属性】
技术研发人员:李瀚宇,
申请(专利权)人:苏州晶方半导体科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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