一种硅片清洗转运装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅片清洗转运装置，属于硅片清洗技术领域，包括底座，所述底座的顶部设置有活动座，本实用新型专利技术通过第一电机带动第一链条轮转动，然后第一链条轮通过链条带动第二链条轮转动，同时第二链条轮带动第一旋转轴转动，然后第一旋转轴带动第一齿轮转动，随后第一齿轮与硅片清洗机上的硅片载运设备连接对硅片进行输送，同时第二电机通过减速器带动第二旋转轴转动，然后第二旋转轴带动第二齿轮转动，然后第二齿轮在齿条板的表面转动，带动移动座在活动座的上方上下移动，调节移动座的高度，同时活动座在第一滑座的配合下在第一滑轨的表面进行左右移动，调节移动座的位置，使该装置适配于多数硅片清洗机，方便对硅片进行转运。片进行转运。片进行转运。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗转运装置


[0001]本技术涉及硅片清洗
，具体为一种硅片清洗转运装置。

技术介绍

[0002]半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
[0003]在硅片清洗时，需要对清洗后的硅片进行准运，硅片转运装置需要根据硅片清洗机的高度进行调节，传统的转运装置适配于某一种型号的硅片清洗机，根据硅片清洗机进行特制，无法适用于多种型号的硅片清洗机，导致多种硅片清洗机需要配备多种硅片转运装置，导致装置种类的繁多，同时增加采购支出。

技术实现思路

[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种硅片清洗转运装置，包括底座，所述底座的顶部设置有活动座，所述活动座在底座的顶部可左右滑动，所述活动座顶部的两侧均固定有齿条板，所述齿条板的表面活动连接有移动座，所述齿条板的顶部贯穿移动座并向上延伸，所述移动座的顶部设置有升降组本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗转运装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部设置有活动座(2)，所述活动座(2)在底座(1)的顶部可左右滑动，所述活动座(2)顶部的两侧均固定有齿条板(3)，所述齿条板(3)的表面活动连接有移动座(4)，所述齿条板(3)的顶部贯穿移动座(4)并向上延伸，所述移动座(4)的顶部设置有升降组件(5)，所述升降组件(5)与齿条板(3)的表面活动连接，所述移动座(4)的顶部固定有支架(6)，所述支架(6)的左侧固定有第一电机(7)，所述第一电机(7)的输出轴贯穿支架(6)并固定有第一链条轮(8)，所述移动座(4)顶部的两侧均固定有第一轴承座(9)，所述第一轴承座(9)的内腔通过轴承转动连接有第一旋转轴(10)，所述第一旋转轴(10)的表面固定有第二链条轮(11)，所述第一链条轮(8)与第二链条轮(11)通过链条传动连接，所述第一旋转轴(10)的两端均固定有第一齿轮(12)，装置移动座(4)的两侧均通过活动轴活动连接有支撑轮(13)。2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗转运装置，其特征在于：所述升降组件(5)包括固定在移动座(4)顶部两侧的第二轴承座(51)，所述第二轴承座(51)的内腔通过轴承转...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄淑虎，黄海波，刘智敏，
申请(专利权)人：江西玖匠科技有限公司，
类型：新型
国别省市：