【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种感光聚合物组合物的电泳沉积工艺，它用于在导电表面上产生一层粘的均匀的感光薄膜。特别是，本专利技术涉及一种电泳沉积感光聚合物组合物，它由一种含水的乳剂或溶液所构成，该乳剂或溶液中至少含有一种聚合物，该聚合物含有带电的载体基团，光增感剂和一个不饱和源，该不饱和源是用于在光化辐射曝光时，使所沉积的薄膜交联聚合。该组合物可以用电泳的方法沉积在导电表面形成一种均匀的，负作用的，可水溶液显影的薄膜，该薄膜可抗蚀强无机酸和溶水碱。本专利技术优先选用的方案是阳离子电泳沉积，水溶液显影，负光致抗蚀剂薄膜，该薄膜是由感光聚合物组合物所构成，其中至少包含一种聚合物，这种聚合物含有带正电的载体基团光增感剂和不饱和的多功能交联聚合单分子体。本专利技术涉及的范围是液态光致抗蚀剂，以及在导电表面沉积这种抗蚀剂薄膜的电泳工艺过程。光致抗蚀剂是一种感光薄膜，它能使图形转印到导电表面上，例如印刷电路板或平金属印刷板的金属表面。液态光致抗蚀剂的典型组成是由树脂或聚合物形成的薄膜与光敏化合物或光源感剂(溶解于或悬浮于如有机液之类的溶剂中)的组合。液态光致抗蚀剂可以是负作用型或正作...
【技术保护点】
在一导电表面形成一个聚合物图形的工艺过程包括：（ａ）在上述表面上采用感光聚合物组合物以电泳方式沉积一层均匀薄膜，该感光聚合物组合物包含一种含水的溶液或乳剂，该溶液或乳剂至少含有一种聚合物，该聚合物含有带电的载体组，一种光增感剂，以及一个 用于交联该聚合物的未饱和组的源，（ｂ）上述薄膜部分在一个光化辐射源下曝光，并且（ｃ）将经过曝光的薄膜用一种含水溶液显影，以便在上述表面上形成一种被交联聚合物图形，上述图象对于腐蚀剂或电镀溶液具有抗蚀性。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员：威廉姆戴维德埃蒙斯，马克罗伯特文克利，
申请(专利权)人：罗姆和哈斯公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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