【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及磁屏蔽室，特别是，涉及一种具有一个开口部分，通过该开口部位可以装入或取出晶片及其类似物的磁屏蔽室。通常地，作为在如晶片或掩模等的样品上形成保护层图形的装置，使用的是EB(电子束)曝光单元，它使用电子束在光刻胶上绘制图形。此种EB曝光单元有一个问题，即，电子束的照射点因外部磁场的影响而变化，导致在所绘的图形中产生不应有的扰动。为了防止这个问题，此种EB曝光单元被安装于一个磁屏蔽室中来操作，这样就屏蔽了外部的磁场。对于将被EB曝光单元处理的晶片或者掩模，通常将多个晶片或掩模放进一个盒子中，作为一个单元来处理。因此，EB曝光单元包含一个装载部分，用来从盒子中取出作为处理对象的晶片或者掩模，并且将之提供给处理室；和一个卸载部分，用来将处理过的晶片或掩模装入盒子。并且，还需要一种装置，能够将盒子安装到装载部分并从上卸载下来。在此种装载部分和卸载部分被安装在磁屏蔽室的情况下，所述盒子通常由操作员通过一个进/出端口人工地进行装载和卸载，所述进/出端口形成在磁屏蔽室上并通常有一个可关闭的门。当门开启允许操作者进入或离开时，EB曝光单元会受到外部磁场的影响。所以...
【技术保护点】
一种磁屏蔽设备，其特征在于包含：一个磁屏蔽室（１０１），用来屏蔽外部磁场，有一个开口（１２０）；一个管状部件（１０４），用磁屏蔽材料制成，连接在所述开口上，从所述磁屏蔽室伸出一个第一预定长度；和一个凸缘部分（１０５，２０５，３０ ５），用磁屏蔽材料制成，在所述管状部件的远端部环绕形成，其宽度为一个第二预定长度。
【技术特征摘要】
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