一种磁控溅射用导电钽酸锂靶材的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种磁控溅射用导电钽酸锂靶材的制备方法，涉及溅射靶材领域，旨在提供一种磁控溅射用导电钽酸锂靶材，其技术方案要点是：S1：配置C粉、Ta2O5粉末、Li2CO3粉末；S2：将粉末称重后加入到去离子水中形成浆液，进行砂磨破碎，离心喷雾造粒；S3：进行预烧结；S4：将预烧后的还原粉末与Li2CO3粉末称重后加入到去离子水中形成浆液，进行砂磨破碎，进行离心喷雾造粒；S5：对造粒后的粉末再次进行预烧结，得到还原粉末；S6：破碎后筛分；S7：预压，进行烧结；S8：真空退火；S9：退火完成后进行机加工完成产品所需要求。本发明专利技术的一种磁控溅射用导电钽酸锂靶材的制备方法可制备出高致密度、高纯度、细晶、近化学计量比的钽酸锂导电靶材。近化学计量比的钽酸锂导电靶材。近化学计量比的钽酸锂导电靶材。

【技术实现步骤摘要】
一种磁控溅射用导电钽酸锂靶材的制备方法


[0001]本专利技术涉及磁控溅射靶材领域，更具体地说，它涉及一种磁控溅射用导电钽酸锂靶材的制备方法。

技术介绍

[0002]钽酸锂(LiTaO3)是一种具有非线性光学、光电、压电、热电等特性的多功能材料；由于其居里温度高，热释电大系数低，介电常数低，与铁电性结合良好，机械和化学稳定性好，在非冷却红外探测器、电光调制器、光谐振滤波器、表面声波器件、小型电容器和非易失性存储器中有广泛的应用。然而，大块形式的LiTaO3在高性能系统中的应用有限，因为由大块制备的器件性能受到几何因素、尺寸和厚度的限制。薄膜形式的LiTaO3器件有许多优点在它的散装设备上。因此，高质量的钽酸锂薄膜将会增加其器件的潜在热释电应用。到目前为止，人们一直致力于改善通过采用不同的薄膜制备工艺，如 R.F.溅射、金属有机化学气相沉积、溶胶
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凝胶等。
[0003]射频磁控溅射是目前制备铁电薄膜最成熟的制备方法，正广泛用于制备各种铁电薄膜。该方法的主要优点有：（1）成膜温度较低，通常低于500℃；（2）与半导体工艺本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射用导电钽酸锂靶材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：按照化学计量比配置C粉、Ta2O5粉末、Li2CO3粉末；S2：将质量分数0.1%
‑
0.4%的C粉及Ta2O5粉末称重后加入到去离子水中形成浆液，所述浆液固含量10%
‑
40%；然后加入到砂磨机中进行砂磨破碎，砂磨结束后所得粉体细度0.3
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0.5μm；对砂磨后的浆液进行离心喷雾造粒；S3：对造粒后的粉末进行预烧结，使其原位反应得到还原粉末；S4：将预烧后的还原粉末与计量比的Li2CO3粉末称重后加入到去离子水中形成浆液，所述浆液固含量10%
‑
40%，然后加入到砂磨机中进行砂磨破碎，砂磨结束后所得粉体细度0.3
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0.5μm；对砂磨后的浆液进行离心喷雾造粒；S5：对造粒后的粉末再次进行预烧结，使其原位反应得到还原粉末；S6：将最终预烧结的还原粉末经过破碎后筛分得到10
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25μm的预烧粉末；S7：将预烧粉末按照产品尺寸计算出所需重量后装入热压石墨模具中，将石墨模具置于真空热压炉的压头正下方，对模具进行预压，然后设定烧结参数进行烧结；S8：将烧结后的毛坯靶放入真空退火炉中进行真空退火；S9：退火完成后进行机加工完成产品所需要求。2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用导电钽酸锂靶材的制备方法，其特征在于：在S1步骤中，C粉规格为D50=1
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10μm，纯度≥99.99%，片状形貌；Ta2O5粉末规格为D50=5
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15μm、纯度≥99.99%、不规则形貌；Li2CO3粉末规格为D50=10
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25μm、纯度≥99.99%、不规则形貌。3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用导电钽酸锂靶材的制备方法，其特征在于：在S2步骤中，砂磨破碎时的砂磨转速为1000
‑
2500r/min，砂磨时间1
‑
3h；球磨介质为0.3mm、0.5mm、1mm、2mm的氧化锆球的一种或多种，装载量为筒体容积的1/3
‑
1/2。4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用导电钽酸锂靶材的制备方法，其特征在于：在S2步骤中，离心喷雾造粒时进风口温度200
‑
300℃、出风口温度90
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150℃、雾化盘转速8000
‑
12000r/min...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱伟，廉博，
申请(专利权)人：基迈克材料科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：