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本发明公开了一种磁控溅射用导电钽酸锂靶材的制备方法，涉及溅射靶材领域，旨在提供一种磁控溅射用导电钽酸锂靶材，其技术方案要点是：S1：配置C粉、Ta2O5粉末、Li2CO3粉末；S2：将粉末称重后加入到去离子水中形成浆液，进行砂磨破碎，离心喷...
该专利属于基迈克材料科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过基迈克材料科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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