图案的形成方法及其装置、器件的制造方法、电光学装置制造方法及图纸

提供一种在贮存格端部也能顺利配置液滴，形成具有所需形状的膜图案的图案形成方法。本发明专利技术的图案形成方法，是通过在基板上配置功能液的液滴形成膜图案（３３）的方法，其中具有在基板上形成与膜图案（３３）对应的贮存格Ｂ的工序；在贮存格Ｂ、Ｂ间沟槽部（３４）的端部（３６）、（３８）配置液滴的工序；和在端部（３６）、（３８）配置液滴后，在沟槽部（３４）中端部（３６）、（３８）以外位置上配置液滴的工序。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在基板上设置功能液滴形成图案的图案形成方法和图案形成装置、器件及其制造方法、电光学装置及电子仪器、以及有源矩阵基板的制造方法。
技术介绍
作为过去半导体集成电路等具有微细配线图案(膜图案)的器件的制造方法虽然大多采用光刻法，但是采用液滴喷出法的区间制造方法却备受注目。这种液滴喷出法具有在功能液的消耗上浪费少、容易控制在基板上设置的功能液的量或位置等优点。在以下专利文献中公开了有关液滴喷出法的技术。专利文献1特开平11-274671号公报专利文献2特开2000-216330号公报然而近年来，构成器件的电路逐渐推进高密度化，关于配线图案进一步要求微细化和细线化，但是要形成微细配线图案的情况下，特别是要保证配线线宽的精度极为困难。因此有人提出，在基板上设置作隔离部件用的贮存格，在此贮存格间的沟槽部配置功能液的方案。然而据查明，在贮存格间的沟槽部配置液滴时，在沟槽部，特别是在端部液滴往往不能充分湿润扩展。另一方面，采用光刻法形成上述贮存格成本虽高但却是可能。所以也有人提出事先将在基板上形成的疏液区域和亲液区域图案化，将液滴选择性地配置在亲液区域的方法。采用这种方法，有可能使本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图案形成方法，是通过在基板上配置功能液的液滴形成膜图案的图案形成方法，其特征在于，具有：在所述的基板上以所定图案形状形成贮存格的工序；在所述的贮存格间沟槽部的端部配置液滴的工序；和在所述的端部配置液滴后，在所述的 沟槽部中所述的端部以外位置上配置液滴的工序。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：长谷井宏宣，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]