【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及作为设置在CRT和等离子体显示面板等的显示面前表面 的滤波器、计测设备的显示部等中采用的透光电磁波屏蔽材料的透明导 电膜及其制造方法，更详细地说，涉及具有屏蔽电磁波的功能、并且能 够透视电子测距仪和计测设备等的内部、CRT和等离子体显示面板等的 显示面的。
技术介绍
迄今作为能够维持充分的透光性，同时能够屏蔽电磁波的导电膜的制 造方法，己知有在透明的玻璃或塑料基板的表面上，通过蒸镀或溅射法 等例如形成铟一锡氧化物膜(ITO膜)等的透明导电膜、在透明的玻璃和 塑料基板的表面上，通过金属镀和蒸镀等，在整个表面上形成金属薄膜， 通过光刻法等对其进行加工，设置由微细的金属薄膜构成的网格等。但是，在透明基板上形成了 ITO膜的透明导电膜虽然透光性优异， 但是与具有网状金属薄膜的透明导电膜相比较，导电性差，不能得到充 分的电磁波屏蔽性。另一方面，在透明基板上形成金属薄膜，将其加工 成网状的方法虽然导电性好，但是因为除去了大部分的金属薄膜，所以 存在着浪费多生产成本高这样的缺点。为了改善这些问题，例如在特开昭62 — 57297号公报和特开平2 — 52499号...
【技术保护点】
一种透明导电膜的制造方法，其特征在于，包括：在透明膜的两个面或一个面上形成平均高度为０．１μｍ以下的多个凹凸的工序；在透明膜的有凹凸的面上形成与导电膜的导电部分相反的图案的抗蚀层的工序；在形成了抗蚀层的面上施加镀敷用催化剂的工序；剥离抗蚀层的工序；通过镀敷处理形成金属层的工序；黑化金属层的工序，并且，金属层的宽度Ｗ和金属层的高度Ｔ之比Ｗ／Ｔ为１≤Ｗ／Ｔ≤５００。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：山田耕平，盐见秀数，山田英幸，
申请(专利权)人：精炼株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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