均匀大面积常压射频冷等离子体发生器制造技术

一种均匀大面积常压射频冷等离子体发生器，包括一个射频电源、供气源和等离子体发生器，温度控制系统和支架等，等离子体发生器设有两个相对的表面彼此平行的电极，一个与射频电源连接叫射频电极，另一个与地连接叫地电极，该射频电极固定在可以上下移动的支架上，通过移动支架，使该射频电极与该地电极之间的间距可以调节，在该射频电极与该地电极之间形成放电区间，在该射频电极的中间部位开有多个进气小孔，该多个进气小孔与进气导管相通，该进气导管与供气源连通，该地电极可由电机带动自转，在该地电极下面设有加热器，该地电极表面的温度可以通过控制加热器来控制。（*该技术在2014年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种均匀大面积常压射频冷等离子体发生器，尤指电极形状为圆盘形，在两个电极的间隙之间产生均匀大面积放电的射频冷等离子体发生器。
技术介绍
等离子体技术是在近年才迅速发展起来的，并已得到广泛的应用，例如可用于(1)微电子工业硅片清洗，替代目前的酸和去离子水清洗。(2)清洗所有的生化污染表面，包括被生化武器污染的表面和空间。(3)替代湿化学法，可用于制药和食品行业原位消毒。(4)用于医疗器件消毒和皮肤病的治疗。(5)用于清洗放射性材料表面，试验证明等离子体技术是目前唯一可行的手段，而目前世界上的废弃放射性材料只能填埋处理。(6)食品保鲜杀菌。(7)薄膜材料的制备。(8)纺织企业衣料改性。(9)刻蚀金属、半导体和电介质材料等。在空气中，要使气体击穿电离产生大面积冷等离子体需要几千伏的高压。目前生成大面积等离子体主要有两种方式一种是利用电弧产生等离子体，电弧放电时气体温度将高达3000℃以上，产生的直流热平衡等离子体炬，可用于金属的切割、焊接和表面喷涂。但高温的等离子体炬也限制了它的用途，因为它会烧毁所有面对的物品。另一种方式是介质阻挡放电产生冷等离子体，但介质阻挡放电是在几千伏的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种均匀大面积常压射频冷等离子体发生器，包括一个射频电源、供气源和等离子体发生器，温度控制系统和支架等，其特征在于：等离子体发生器设有两个相对的表面彼此平行的电极，一个与射频电源连接叫射频电极，另一个与地连接叫地电极，该射频电极固定在可以上下移动的支架上，通过移动支架，使该射频电极与该地电极之间的间距可以调节，在该射频电极与该地电极之间形成放电区间，在该射频电极的中间部位开有多个进气小孔，该多个进气小孔与进气导管相通，该进气导管与供气源连通，该地电极可由电机带动自转，在该地电极下面设有加热器，该地电极表面的温度可以通过控制加热器来控制。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王守国，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]