气体分配器和包括气体分配器的设备制造技术

一种用于一等离子设备的气体分配器，其包括：一具有复数个注入孔的机体，所述机体相对于一中心表面被划分成一下部部分和一上部部分；和一连接到所述下部部分的机体支撑单元。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及使用等离子的设备，且更明确地说，涉及用于具有支撑构件的设备的气体分配器。
技术介绍
具有便携性和低功率消耗的平板显示(FPD)装置已成为当前信息时代中日益增加的研究中的一个课题。在各种类型的FPD装置中，因为液晶显示(LCD)装置的高分辨率、显示有色图像的能力和高质量图像显示，所以其一般用于笔记本和台式计算机。一般来说，半导体装置或LCD装置是通过重复在晶圆或玻璃衬底上形成薄膜的沉积步骤、暴露使用光敏材料的薄膜的某些部分的光刻步骤、移除暴露薄膜的图案化步骤、和消除残留材料的清洁步骤而制造的。制造过程的每个步骤在设备中、在每个步骤的最优条件下执行。图1为显示根据相关技术的用于半导体装置或LCD装置的等离子设备的示意性横截面图。在图1中，等离子设备100包括定义一反应空间的腔室110、上面具有衬底“S”的基座120和在基座120之上的气体分配器140。可称作喷头的气体分配器140包括复数个注入孔142。背衬板150安置在气体分配器140之上且充当射频(RF)电极。气体分配器140的边缘部分固定于背衬板150以定义一缓冲空间180。所述缓冲空间用于反应气体的均匀注入，使得本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于一等离子设备的气体分配器，其包含：一具有复数个注入孔的机体，所述机体相对于一中心表面被划分成一下部部分和一上部部分；和一连接到所述下部部分的机体支撑单元。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：康豪哲，
申请(专利权)人：周星工程股份有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]