【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于软x射线一极紫外光学
中涉及的一种激光等离子体光源。二
技术介绍
在空间光学、天体物理、辐射计量等现代科学探索中,作为手段往往需要软x射线光源。在医学诊断、材料分析、投影光刻、显微镜技术等现 代高科技领域中,软x射线光源己经得到了较为广泛的应用。早期的激光等离子体软X射线光源是高功率密度的脉冲激光聚焦在金属耙面上,形成激光等离子体并产生软x射线一极紫外辐射,在激光等离子体形成的同时,产生的金属碎屑也会对临近光源的光学元件造成损坏或 降低其光学性能。为此,要对靶的材料进行改变,近年来出现了气体或液 体靶激光等离子体光源。与本专利技术最为接近的已有技术是中国科学院长春光学精密机械与物理研究所于2004年11月申请的专利技术专利,名称为"-种液体微流喷射耙激 光等离子体软X射线光源"。申请号为200410011194.1如图1所示包 括窗口 1、激光束2、聚光透镜3、真空靶室4、金属法兰5、外桶6、隔热 管7、液氮进口 8、隔热定位筒9、把手10、工作物质进口端11、液氮出 口 12、隔热板13、波纹管14、高压腔15、金属制冷管16、加热电阻丝1 ...
【技术保护点】
一种微流靶激光等离子体软X射线-极紫外光源,包括窗口、激光束、聚光透镜、真空靶室、金属法兰、金属制冷管、喷嘴、液体微流靶、真空泵;其特征在于还包括密封圈(25)、密封圈(26)、绝热壳体(27)、制冷器支架(28)、半导体制冷器(29)、入气口(30)、导热金属板(32)、螺栓(34)、真空靶室法兰(35)、螺母(36)、喷气阀门(37)、靶室壳体(42);该软X射线-极紫外光源的上部为制冷系统,下部为阀门和真空靶室系统,上部制冷系统由绝热壳体(27)包围成腔体,下部的真空阀门(37)位于真空靶室(40)内,被靶室壳体(42)包围,也是一个腔体,上、下两个腔体通过绝热壳体( ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:尼启良,陈波,
申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,
类型:发明
国别省市:82[中国|长春]
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