本实用新型专利技术提供了一种激光微焦点等离子体Kα射线源，本实用新型专利技术包括真空靶室系统，由真空管道连接的机械泵、分子泵；机械泵作为前级，分子泵通过法兰口与靶室相连；所述电磁辐射屏蔽层为圆筒形聚四氟乙烯层,通过螺栓固定于真空靶室壁；所述激光束聚焦装置为一块F/3离轴抛物镜，放置于真空靶室内固定底座上。靶运动系统，由六维步进电机和靶架组成，靶架位于靶室中心,望远瞄准系统中轴线上。望远瞄准系统，由一台长焦距望远镜以及可见光CCD组成，通过转接法兰连接到真空靶室上。电子束偏转装置为一块环形稀土永磁铁，位于在靶架之后,样品台之前。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种超快高亮度微焦点Ka射线源，具体涉及基于高对比度飞秒或皮秒激光脉冲与金属纳米丝阵列复合靶相互作用的方式产生高亮度微焦点Ka射线源，它可以作为高性能X射线源用于高能量密度物理，材料动态冲击波加载以及生物医学等领域的探测、诊断。
技术介绍
超快微焦点激光与靶相互作用可以产生短脉冲X射线源，这种源具有时间束团尺寸小(与激光束腰直径相当，约数十微米左右)、发散度小(毫弧度量级)、能量可调(优化激光-靶参数的情况下，依需要可在数KeV到几MeV之间变化)等优点，因而在以下方面有十分巨大的应用前景:1)通过X射线短脉冲衍射探测物质受冲击波压缩时材料的晶格变化行为；2)探测时间分辨非常快的现象，对材料的物理、化学过程的瞬态动力学问题进行测量和研宄；3)观察物质的重新排列、化学变化或者结构变化时分子运动或分子团运动，如:冲击波压缩引起的相变、熔化；4)探测分子或者原子之间的距离，及其受加热、冲击时引起的变化；5)利用硬X射线能进入高Z材料的特点，通过X射线照相和吸收光谱等方式，探测高Z材料内部特性。这种新型的超快微焦点X射线源研宄引起了世界各国科学家的极大兴趣。在先技术:1999年美国里弗莫尔国家实验的M.D.Perry等人展示了利用大能量短脉冲激光与固体靶作用产生应用于稠密物质透视照相的短脉冲X射线束的可行性。在M.D.Perry等人的实验中，大能量短脉冲激光束(300焦，460飞秒，1054纳米)聚焦到厚度为0.5毫米的金靶上，在金靶中所产生的高能超热电子在金靶后的约2毫米厚的铜靶架内产生可用于闪光照相的X射线。从2009年开始，基于超高强激光等离子相互作用产生的X射线源在瞬态过程诊断方面已经开始得到初步的应用。在先技术:2009年，法国 LULI 实验室的E.Brambrink等人在Physical reviewE上面报道了利用激光驱动的X射线源对冲击波界面的瞬态测量实验。他们利用一束能量为400J的ns激光辐照在固体靶上产生冲击波，再利用一束40J的飞秒激光与等离子作用产生的超快微焦点X射线源对冲击波界面进行透视照相，获得了比较清晰的图像。在先技术:2010年，美国利弗莫尔国家实验室报道了他们在OMEGA EP装置上进行的康普顿背光照相实验结果。他们利用lkj，10ps的超短激光脉冲与固体靶作用产生的背光X射线源，获得了空间分辨为10微米的快点火压缩过程的背光图像。超高强激光与等离子体相互作用是一个复杂的多尺度的物理过程。在诸多激光等离子体参数中，由于激光脉冲压缩和聚焦过程并不是理想化的，因此激光预脉冲状态和聚焦情况存在很大的不确定性，在纵向和横向尺度上影响激光等离子体相互作用过程。其中，超强激光固有的预脉冲足以电离靶材料产生预等离子体，因此会造成主脉冲到达时等离子体状态的改变，进而影响X射线源的空间尺寸。另外，激光产生的超热电子束具有很大的发散角，因此，在靶内传输一段距离之后，将形成很大的X射线发射区，不利于高分辨照相过程。特别是，对于普通的X射线源所采用平面薄膜靶，超热电子被靶前后的鞘电场多次反射，也不利于微焦点X射线源的形成。为了更快地实现光源的实际应用，解决上述问题，研宄人员提出了各种方法，以提高源的亮度和源的空间尺寸，但是大多数情况下，高亮度和小尺寸不能同时满足。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种激光微焦点等离子体1(。射线源。本技术旨在产生超快高亮度微焦点X射线源，采用高对比度飞秒或者皮秒脉冲激光辐照金属纳米丝阵列靶。本技术要的激光微焦点等离子体Ka射线源，包括真空靶室系统，电磁辐射屏蔽层，激光束聚焦装，靶运动系统，望远瞄准系统，电子束偏转装置，样品台，成像记录设备。真空靶室系统，由真空管道连接的机械泵、分子泵组成，机械泵作为前级，分子泵通过法兰口与靶室相连；所述电磁辐射屏蔽层为圆筒形聚四氟乙烯层，通过螺栓固定于真空靶室壁；所述激光束聚焦装置为一块F/3离轴抛物镜，放置于真空靶室内固定底座上，离轴抛物镜的中心高度与光束中心高度相同，焦平面通过在靶运动系统所包含的靶架上。靶运动系统，由六维步进电机和靶架组成，靶架位于靶室中心，望远瞄准系统中轴线上。望远瞄准系统，由一台长焦距望远镜以及可见光CCD组成，通过转接法兰连接到真空靶室上，望远瞄准系统的中轴线与电子束偏转装置的中轴线垂直。电子束偏转装置为一块环形稀土永磁铁，位于在靶架之后，样品台之前，电子束偏转装置的中心线与激光传输方向成一定夹角，磁铁的中心高度与光束中心高度重合。样品台为三维电控平移台。成像记录设备安装在样品台后方的靶室上，通过法兰与靶室连接。靶架、磁铁、样品台、成像记录设备共轴。本技术的激光微焦点等离子体Ka射线源的工作过程为:激光脉冲经过聚焦系统到达靶面时，将在靶的趋肤深度内被大量吸收，通过共振加热、有质动力等机制加速电子，形成超热电子束团。该束团向靶内进一步传输，产生X射线。本技术中，如图1所示，高对比度的短脉冲强激光(相应的激光功率密度为1018-1019W/cm2，对比度18-1O9),进入真空靶室后经过聚焦系统聚焦于纳米丝阵列靶。激光与纳米丝结构相互作用产生大量的超热电子。由于激光的高对比度，纳米丝阵列结构在激光主脉冲到达之前可以保持较长时间而不被激光破坏。此时纳米丝阵列所具有的亚波长结构将增强纳米丝顶部的局域电磁场，增加激光的吸收。同时，纳米丝还具有增强的比表面积，从而增加X射线光子的数量，另一方面，纳米丝内部建立起一个强大的磁场，激光与吸收层相互作用所产生的大量超热电子将在电场和磁场的作用下将被束缚在纳米丝附近的真空中并沿着纳米丝的方向运动，形成准直性良好的超热电子束。该电子束沿着激光方向传播。超热电子与原子核外电子发生非弹性碰撞，原子核最内层的K壳层电子被打掉，变成自由电子。此时，位于高能级的L层电子有一定的概率向下跃迀，放出光子，考虑到L层有若干子能级，因此，将形成Ka，KeX射线。Kfi射线的跃迀几率比Ka小得多，因此将主要形成4 发射的单色Ka源。利用该性质，将电控样品台对靶进行旋转，放置在偏离激光传输方向的地方，避免轫致辐射产生硬X射线的影响。为了避免超热电子束直接打在样品上，在靶后处放置一个环形稀土永磁铁。被环形磁铁偏转的电子束由真空靶室的聚四氟乙烯辐射屏蔽层吸收，避免电子束在真空靶室内散射形成强电磁辐射。最终将激发出空间分布极小的微焦点射线源。获得的微焦点射线源可对样品台上的样品进行点投影照相。照相的放大倍率电控样品台进行调节。照相结果由放置在真空靶室外的记录介质进行记录(X射线CCD或IP板)。本技术具有如下特点:高亮度。金属纳米丝阵列复合靶的使用，能够明显提高激光的吸收效率，从而使得产生的1^光子的数量更高，有利于提高源的亮度。从实际测量的结果来看，亮度比先技术提高了 3-7倍；单色性。现有技术一中的X射线源利用的是电子轫致辐射发射的X射线，不具有单色性。本技术中的X射线主要来自于1线发射机制，因此具有天然的单色性。不同的光子能量可通过激光与不同的材料如金、银、铜等相互作用的方式进行选择；源尺寸小。点源投影照相的图像空间分辨率在很大程度上取决于源的大小。现有技术一中，X射线的产生来自于轫致辐射，因此要获得高亮度的X射线源，靶本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种激光微焦点等离子体Kα射线源，包括真空靶室系统、电磁辐射屏蔽层、激光束聚焦装置、靶运动系统、望远瞄准系统、电子束偏转装置、样品台、成像记录设备；其特征在于：所述真空靶室系统，由真空管道连接的机械泵、分子泵组成，其中机械泵作为前级，分子泵通过法兰口与靶室相连；所述电磁辐射屏蔽层为圆筒形聚四氟乙烯层,通过螺栓固定于真空靶室壁；所述激光束聚焦装置为一块F/3离轴抛物镜，放置于真空靶室内固定底座上，离轴抛物镜的中心高度与光束中心高度相同,焦平面通过在靶运动系统所包含的靶架上；所述靶运动系统，由六维步进电机和靶架组成，靶架位于靶室中心,望远瞄准系统中轴线上；所述望远瞄准系统，由一台长焦距望远镜以及可见光CCD组成，通过转接法兰连接到真空靶室上，望远瞄准系统的中轴线与电子束偏转装置的中轴线垂直；所述电子束偏转装置为一块环形稀土永磁铁，位于在靶架之后,样品台之前,电子束偏转装置的中心线与激光传输方向成一定夹角，磁铁的中心高度与光束中心高度重合；所述样品台为三维电控平移台；所述成像记录设备安装在样品台后方的靶室上，通过法兰与靶室连接；靶架、磁铁、样品台、成像记录设备共轴。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：渝秋，赵宗清，王剑，曹莉华，董克攻，吴玉迟，张天奎，朱斌，周维民，曹磊峰，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：新型
国别省市：四川;51
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