【技术实现步骤摘要】
本说明书涉及光学制造领域，更具体地说，本申请涉及一种去除模型构建、光学元件面形仿真方法及相关设备。
技术介绍
1、基于ccos（computer controlled optical surfacing，计算机控制光学表面加工技术）原理的子口径抛光技术的共同特点是利用计算机控制的“小磨头”对光学元件表面进行抛光，每一时刻只对光学镜面的一个局部区域进行抛光，抛光的时间（即驻留时间）由该区域所需去除量确定。子口径抛光技术通过控制抛光工具在对应的位置停留相应的时间（驻留时间），达到抛光目的。
2、理想的ccos去除模型是线性的、时不变的，即ccos抛光过程是线性的、不随时空变化而变化的过程。但是，实际加工过程中，由于一些无法或难以消除的影响因素存在（如工具磨损、曲面效应等），去除函数存在时变和空变特性，基于现有线性成形理论和经典驻留时间算法计算所得材料去除量不是实际的去除量，从而影响元件加工效率和精度，不能满足确定性加工需求。
3、因此，为实现大口径光学元件高精度确定性抛光，针对大口径光学元件全面均匀去除的工艺需求，需...
【技术保护点】
1.一种去除模型构建方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的去除模型构建方法，其特征在于，所述畸变系数包括幅值畸变系数和宽度畸变系数、所述形状调整系数为第一方向调整系数和第二方向调整系数，所述第一方向和所述第二方向相交。
3.根据权利要求2所述的去除模型构建方法，其特征在于，还包括：
4.一种光学元件面形仿真方法，其特征在于，包括：
5.根据权利要求4所述的光学元件面形仿真方法，其特征在于，所述基于目标动态去除函数和脉冲迭代法计算驻留时间的目标解，包括：
6.根据权利要求5所述的光学元件面形仿真方法...
【技术特征摘要】
1.一种去除模型构建方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的去除模型构建方法，其特征在于，所述畸变系数包括幅值畸变系数和宽度畸变系数、所述形状调整系数为第一方向调整系数和第二方向调整系数，所述第一方向和所述第二方向相交。
3.根据权利要求2所述的去除模型构建方法，其特征在于，还包括：
4.一种光学元件面形仿真方法，其特征在于，包括：
5.根据权利要求4所述的光学元件面形仿真方法，其特征在于，所述基于目标动态去除函数和脉冲迭代法计算驻留时间的目标解，包括：
6.根据权利要求5所述的光学元件面形仿真方法，其特征在于，还包括：
7.根据权利要求5所述的光学元件面形...
【专利技术属性】
技术研发人员：钟波，张清华，雷鹏立，文中江，袁志刚，李洁，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：发明
国别省市：
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