提供斜角屏蔽流喷射的等离子体弧气炬制造技术

这里描述的等离子体弧气炬包括气炬端头，该气炬端头装有改进的喷嘴，这个喷嘴可喷射出斜角的屏蔽流。具体地说，该喷嘴可使流体（例如保护气体）以斜角／锥角撞击流经等离子体弧气炬的离子化的等离子体气体流。这里描述的几个气炬端头包括有圆锥形外部形状的喷嘴，这种形状的喷嘴与具有相配的内部几何形状的屏蔽组合起来而使得形成斜角的流体流。结果，包括这种改进的喷嘴的等离子体弧气炬在使用中的优点是：离子化的等离子体气体流更加稳定，可增强喷嘴的冷却，以及提供防飞渣保护。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术总的涉及用于对金属进行切割、穿孔、在金属上做出标志的等离子体弧 气炬，尤其涉及给等离子体弧提供斜角(例如圆锥形)屏蔽流喷射的等离子体弧气 炬。
技术介绍
当前，等离子体弧气炬广泛地用于对金属材料(例如单质金属、金属合金等) 进行切割、穿孔和/或做出标志。等离子体弧气炬一般包括安装在气炬的本体(即， 气炬本体)内的电极、也是安装在气炬本体内的有出口喷孔的喷嘴、电连接件、用 于冷却流体、保护流体和弧控制流体的流体通路、控制形成在电极和喷嘴之间的等 离子体腔室里的流体流动形态的旋转环、以及电源。这种气炬可产生等离子体弧， 它是一种具有高温和高动量的被收縮的离子化的等离子体气体喷射流(也就是一种 离子化的等离子体气体流)。用在等离子体弧气炬中的气体可以是非氧化的气体(例 如氩气、氮气)或氧化的气体(例如氧气、空气)。在操作中，首先在电极(即阴极)和喷嘴(即阳极)之间产生引导电弧。可以 用连接于直流电源和等离子体弧气炬的高频高压信号或任何种类的接触触发方法 产生引导电弧。通常，电极、喷嘴、和流体通路构造成相互协同来提供用于切割、穿透、或标 志金属材料的等离子体弧。参照图1的一种已知本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于等离子体弧气炬的喷嘴，该喷嘴包括：　　　　喷嘴本体，该喷嘴本体包括基本空心的内部部分和基本锥形的外部部分，所述基本锥形的外部部分有喷嘴半锥角，该喷嘴半锥角选自约２０度到约６０度的第一范围，所述喷嘴本体限定设置在所述喷嘴的端面上的出口喷孔，所述出口喷孔由喷孔直径（Ｄ）、喷孔长度（Ｌ）、以及喷嘴端面直径（Φ１）所定义，其中，Ｌ／Ｄ的比值是大于或等于２．４，以及Φ１／Ｄ的比值是在约１．９到约２．５的第二范围内。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：端正，SM里尔伯德，AD布兰德特，
申请(专利权)人：海别得公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]