【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于液晶显示器制造工艺，尤其涉及一种基板等离子除静电工艺。
技术介绍
在液晶显示器制造工艺中，由于基板在制造过程中不可避免地会产生摩擦，和/或在带有电荷的溶液中进行蚀刻和清洗，达到一定程度，基板上就带有大量的静电荷。而这些基板由于带有大量的静电荷，从而影响后一步工艺，所以基板上的电荷必须除去。 现有技术中的干刻设备通常使用等离子除静电工艺处理基板上的静电。等离子除静电工艺为在O2气流量800标准毫升分下，RF(射频)功率500瓦下，压力6.67帕下，支撑销高度为20mm下，用带正电的陶瓷电极对三层CVD/Cr/PR/D-WE基板[该基板为先经过三层化学气相沉积(CVD)，再进过Cr处理，接着进行光阻(PR)处理，最后经蚀刻(D-WE)处理的基板]进行处理5秒钟。由于支撑销是从四周将基板顶起悬空进行除电，基板中心由于无支撑销不能完全悬空脱离下部电极表面(四周销上升高度20mm)，从而有静电破坏现象发生，影响后一部工序，最终影响产品合格率。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术中除静电不充分而造成静电破坏问题，提供一种基板等离子除静电工艺，在该工艺中，支撑销从四周将基板顶起悬空进行除电，其特征在于该支撑销的高度调节至40mm。 本专利技术通过改变支撑销的高度来有效充分地将基板中所带静电除去，以解决除静电不充分而造成静电破坏问题。 本专利技术的积极进步效果在于通过改善等离子除电工序中支撑销高度，以避免基板未进行充分除电而造成静电破坏，提高产品的合格率。具体实施方式实施例1在O2气流量为800标准毫升分下，RF功率500瓦下，压力6.67帕下，支...
【技术保护点】
一种基板等离子除静电工艺，在该工艺中，支撑销从四周将基板顶起悬空进行除电，其特征在于该支撑销的高度调节至４０ｍｍ。
【技术特征摘要】
1.一种基板等离子除静电工艺，在该工艺中，支撑销从四周将基...
【专利技术属性】
技术研发人员：汪建平，
申请(专利权)人：上海广电NEC液晶显示器有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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