本申请提供一种金属连线电性测试结构，包括：测试主体，包括：至少一个第一金属连线，沿第一方向依次排列，所述第一金属连线的两端表面形成有第一通孔；至少一个第二金属连线，沿第二方向依次排列，所述第二金属连线的两端表面形成有第二通孔，所述至少一个第二金属连线与所述至少一个第一金属连线对应设置；第一焊垫，位于所述测试主体的一侧，通过第一金属连接结构与所述第一通孔或第二通孔电连接；第二焊垫，位于所述测试主体的另一侧，通过第二金属连接结构与所述第一通孔或第二通孔电连接。本申请通过巧妙的金属连线分布，利用最有时效性的电性测试，可以有针对性的测试相同结构和不同结构的金属连线之间的漏电情况。不同结构的金属连线之间的漏电情况。不同结构的金属连线之间的漏电情况。
【技术实现步骤摘要】
一种金属连线电性测试结构
[0001]本申请涉及半导体
，尤其涉及一种金属连线电性测试结构。
技术介绍
[0002]FINFET技术中，连接源漏的金属连线和连接栅极的金属连线为连接前后段的关键制程，制程特点为开口尺寸小，深度深。具体地，该制程的线宽和间隙为前段尺寸中最小值，且纵深比大于50，极其容易出现同结构之间的连接短路缺陷。同时，两种金属连线之间的间隙也是极限最小值，两者之间非常容易出现短路缺陷。
[0003]由于纵深比太高，开槽侧壁形貌复杂，导致制程监控能力比较差，无法有效监控到制程稳定性。目前对连接源漏的金属连线制程有了更高的要求，引入扩大开口的工艺，增加了工艺复杂程度，同时使开槽侧壁形貌更为复杂，制程监控更为艰难。目前的量测手段均无法准确测量，也不能监控金属连线的侧壁形貌。
[0004]因此，有必要提供更有效、更可靠的技术方案。
技术实现思路
[0005]本申请提供一种金属连线电性测试结构，可以有针对性的测试相同结构和不同结构的金属连线之间的漏电情况。
[0006]本申请提供一种金属连线电性测试结构，包括：测试主体，包括：至少一个第一金属连线，沿第一方向依次排列，所述第一金属连线的两端表面形成有第一通孔；至少一个第二金属连线，沿第二方向依次排列，所述第二金属连线的两端表面形成有第二通孔，所述至少一个第二金属连线与所述至少一个第一金属连线对应设置；第一焊垫，位于所述测试主体的一侧，通过第一金属连接结构与所述第一通孔或第二通孔电连接；第二焊垫，位于所述测试主体的另一侧，通过第二金属连接结构与所述第一通孔或第二通孔电连接。
[0007]在本申请的一些实施例中，测试相邻的所述第一金属连线的漏电情况时，所述第一焊垫通过所述第一通孔与第一金属连线电连接，所述第二焊垫通过所述第一通孔与第一金属连线电连接，与所述第一焊垫电连接的第一金属连线和与所述第二焊垫电连接的第一金属连线交替间隔分布。
[0008]在本申请的一些实施例中，测试相邻的所述第二金属连线的漏电情况时，所述第一焊垫通过所述第二通孔与第二金属连线电连接，所述第二焊垫通过所述第二通孔与第二金属连线电连接，与所述第一焊垫电连接的第二金属连线和与所述第二焊垫电连接的第二金属连线交替间隔分布。
[0009]在本申请的一些实施例中，测试所述第一金属连线和所述第二金属连线之间的漏电情况时，所述第一焊垫通过所述第一通孔与第一金属连线电连接，所述第二焊垫通过所述第二通孔与第二金属连线电连接。
[0010]在本申请的一些实施例中，所述至少一个第一金属连线的两侧还设置有第一伪金属连线，所述至少一个第二金属连线的两侧还设置有第二伪金属连线。
[0011]在本申请的一些实施例中，所述至少一个第一金属连线的数量与所述至少一个第二金属连线的数量相同。
[0012]在本申请的一些实施例中，所述至少一个第一金属连线与所述至少一个第二金属连线呈类L型排布。
[0013]在本申请的一些实施例中，所述第一方向与所述第二方向垂直。
[0014]在本申请的一些实施例中，所述结构还包括：第三焊垫和第四焊垫，所述第二焊垫与第三焊垫之间和所述第三焊垫与第四焊垫之间均设置有所述测试主体，其中，所述第一焊垫和所述第二焊垫与位于所述第一焊垫和所述第二焊垫之间的测试主体的第一金属连线电连接，与所述第一焊垫电连接的第一金属连线和与所述第二焊垫电连接的第一金属连线交替间隔分布；所述第二焊垫和所述第三焊垫与位于所述第二焊垫和所述第三焊垫之间的测试主体的第二金属连线电连接，与所述第二焊垫电连接的第二金属连线和与所述第三焊垫电连接的第二金属连线交替间隔分布；所述第三焊垫与位于所述第三焊垫和所述第四焊垫之间的测试主体的第一金属连线电连接，所述第四焊垫与位于所述第三焊垫和所述第四焊垫之间的测试主体的第二通孔金属连线电连接。
[0015]在本申请的一些实施例中，所述第一焊垫、所述第二焊垫、所述第三焊垫、所述第四焊垫沿同一条直线排列。
[0016]本申请提供一种金属连线电性测试结构，通过巧妙的金属连线分布，利用最有时效性的电性测试，可以有针对性的测试相同结构和不同结构的金属连线之间的漏电情况。
附图说明
[0017]以下附图详细描述了本申请中披露的示例性实施例。其中相同的附图标记在附图的若干视图中表示类似的结构。本领域的一般技术人员将理解这些实施例是非限制性的、示例性的实施例，附图仅用于说明和描述的目的，并不旨在限制本申请的范围，其他方式的实施例也可能同样的完成本申请中的专利技术意图。应当理解，附图未按比例绘制。
[0018]其中：
[0019]图1为本申请实施例所述的金属连线电性测试结构中测试主体的结构示意图；
[0020]图2为本申请实施例所述的金属连线电性测试结构中测试主体的第一截面示意图；
[0021]图3为本申请实施例所述的金属连线电性测试结构中测试主体的第二截面示意图；
[0022]图4为本申请实施例一所述的金属连线电性测试结构的结构示意图；
[0023]图5为本申请实施例二所述的金属连线电性测试结构的结构示意图；
[0024]图6为本申请实施例三所述的金属连线电性测试结构的结构示意图；
[0025]图7为本申请实施例四所述的金属连线电性测试结构的结构示意图。
具体实施方式
[0026]以下描述提供了本申请的特定应用场景和要求，目的是使本领域技术人员能够制造和使用本申请中的内容。对于本领域技术人员来说，对所公开的实施例的各种局部修改是显而易见的，并且在不脱离本申请的精神和范围的情况下，可以将这里定义的一般原理
应用于其他实施例和应用。因此，本申请不限于所示的实施例，而是与权利要求一致的最宽范围。
[0027]下面结合实施例和附图对本专利技术技术方案进行详细说明。
[0028]本申请的实施例提供一种金属连线电性测试结构，用于测试金属连线的漏电、短路情况。所述金属连线电性测试结构主要包括测试主体以及分别电连接所述测试主体的第一焊垫和第二焊垫。其中，所述测试主体为采用与实际线上工艺相同的工艺制作的金属连线结构，所述测试主体中的金属连线结构的布局可以根据需要测试的实际结构来对应设置。本申请的实施例以FINFET结构中连接源漏的第一金属连线和连接栅极的第二金属连线作为示范来进行说明。
[0029]图1为本申请实施例所述的金属连线电性测试结构中测试主体的结构示意图。
[0030]参考图1所示，本申请所述的一种金属连线电性测试结构包括测试主体100。所述测试主体100包括：至少一个第一金属连线110，沿第一方向依次排列，所述第一金属连线110的两端表面形成有第一通孔111。所述至少一个第一金属连线110的两侧还设置有第一伪金属连线112。
[0031]所述测试主体100还包括：至少一个第二金属连线120，沿第二方向依次排列，所述第二金属连线120的两端表面形成有第二通孔121，所述至少一个第二金属连线120与所本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种金属连线电性测试结构，其特征在于，包括：测试主体，包括：至少一个第一金属连线，沿第一方向依次排列，所述第一金属连线的两端表面形成有第一通孔；至少一个第二金属连线，沿第二方向依次排列，所述第二金属连线的两端表面形成有第二通孔，所述至少一个第二金属连线与所述至少一个第一金属连线对应设置；第一焊垫，位于所述测试主体的一侧，通过第一金属连接结构与所述第一通孔或第二通孔电连接；第二焊垫，位于所述测试主体的另一侧，通过第二金属连接结构与所述第一通孔或第二通孔电连接。2.如权利要求1所述的电性测试结构，其特征在于，测试相邻的所述第一金属连线的漏电情况时，所述第一焊垫通过所述第一通孔与第一金属连线电连接，所述第二焊垫通过所述第一通孔与第一金属连线电连接，与所述第一焊垫电连接的第一金属连线和与所述第二焊垫电连接的第一金属连线交替间隔分布。3.如权利要求1所述的电性测试结构，其特征在于，测试相邻的所述第二金属连线的漏电情况时，所述第一焊垫通过所述第二通孔与第二金属连线电连接，所述第二焊垫通过所述第二通孔与第二金属连线电连接，与所述第一焊垫电连接的第二金属连线和与所述第二焊垫电连接的第二金属连线交替间隔分布。4.如权利要求1所述的电性测试结构，其特征在于，测试所述第一金属连线和所述第二金属连线之间的漏电情况时，所述第一焊垫通过所述第一通孔与第一金属连线电连接，所述第二焊垫通过所述第二通孔与第二金属连线电连接。5.如权利要求1所述的电性测试结构，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨勇，
申请(专利权)人：中芯南方集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：
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