【技术实现步骤摘要】
一种具有缓释效果的铜抗氧化剂及其制备方法
[0001]本专利技术属于抗氧化剂
,尤其涉及一种具有缓释效果的铜抗氧化剂及其制备方法。
技术介绍
[0002]随着半导体技术的进步,各式电子产品不断推陈出新。半导体电子元器件引脚/框架是电子工业的重要部件之一,其中作为导电部件的铜材料表面在使用过程中极易氧化,而其氧化后,会直接元器件引脚/框架的应用性能大幅度的降低,因此,需要对其进行处理,来降低其氧化现象。
[0003]申请号为CN201410283566.X的中国专利技术专利公开了一种铜抗氧化剂及其制备方法,旨在提供一种防护性好,时间不腐蚀、不退色的铜抗氧化剂及其制备方法,其技术要点是:该铜抗氧剂每升含下述组分:羟基乙叉二膦酸50
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100g,乙醇50
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100g,过氧化氢80
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15缓蚀剂20
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40g,异硫氰酸酯10
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20g,烷基硫酸盐8
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15g,钼酸钠10
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20g,三磷酸钠8
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12g,余量为水;该铜抗氧化剂的制备方法:1)称取各个组分;2)步骤1)称取的组分放入反应器,加水至1L,然后在40
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50℃搅拌20
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60分钟得铜抗氧化剂;上述专利制备的铜抗氧化剂仍存在较多的问题,尤其是缓释效果不突出,无法有效阻碍氧化进程。
技术实现思路
[0004]本专利技术目的就是为了弥补已有技术的缺陷,提供一种具有缓 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种具有缓释效果的铜抗氧化剂,其特征在于,由以下质量分数的原料制成:中空介孔二氧化硅负载苯并三氮唑6
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10wt%、非离子表面活性剂4
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5wt%、六偏磷酸钠0.3
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0.8wt%、复合缓蚀剂5
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8wt%、硫代二丙酸二月桂酯0.2
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0.5wt%、肌醇六磷酸1.2
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1.8wt%、有机溶剂28
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32wt%,余量为去离子水。2.根据权利要求1所述的一种具有缓释效果的铜抗氧化剂,其特征在于,所述中空介孔二氧化硅负载苯并三氮唑制备方法为:(1)将十六烷基三甲基氯化铵添加到乙醇溶液中,调节温度至35
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45℃,然后搅拌20
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40min,得到混合液;(2)向混合液中添加氨水,再滴加正硅酸乙酯,边滴加边搅拌,待正硅酸乙酯滴完之后,再继续搅拌1
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3h,然后进行离心分离、清洗、干燥,得到纳米二氧化硅;(3)将上述得到的纳米二氧化硅进行介孔刻蚀处理:将制备得到的纳米二氧化硅粒子均匀分散到去离子水中,调节温度至70
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80℃,保温搅拌25
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35h,然后进行离心,静置20
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40min,过滤,洗涤,干燥,得到中空介孔纳米二氧化硅;(4)将苯并三氮唑均匀分散到N,N
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二甲基甲酰胺中,调节温度至80
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90℃,然后再添加上述制备得到的中空介孔纳米二氧化硅,进行超声波处理5
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10min,然后进行抽滤,清洗,干燥,得到中空介孔二氧化硅负载苯并三氮唑。3.根据权利要求2所述的一种具有缓释效果的铜抗氧化剂,其特征在于,所述十六烷基三甲基氯化铵、乙醇溶液混合质量比为1
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3:30;所述乙醇溶液质量分数为40
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50%;所述混合液、氨水、正硅酸乙酯混合质量比为10
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15:4
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7:2
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4;所述氨水为饱和氨水。4.根据权利要求1所述的一种具有缓释效果的铜抗氧化剂,其特征在于,所述纳米二氧化硅粒子、去离子水混合质量比为1:22
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28;所述苯并三氮唑、N,N
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二甲基甲酰胺、中空介孔纳米二氧化硅混合质量比为3
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5:33
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36:5
‑
8。5.根据权利要求1所述的一种具有缓释效果的铜抗氧化剂,其特征在于,所述非离子表面活性剂为聚氧乙烯烷基胺...
【专利技术属性】
技术研发人员:董珂,李增强,
申请(专利权)人:青岛固锝电子有限公司,
类型:发明
国别省市:
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