【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于多站式半导体处理室中的均匀流体输送的装置
通过引用并入
[0001]PCT申请表作为本申请的一部分与本说明书同时提交。本申请要求在同时提交的PCT申请表中确定的权益或优先权的每份申请均出于所有目的通过引用整体并入本文。
技术介绍
[0002]在半导体处理操作期间，衬底通常被承载在处理室内的基座上并且处理气体流入腔室中以便将一层或多层材料沉积到衬底上，或从衬底移除一层或多层材料。在商业规模的制造中，每个基板或晶片都包含正在制造的特定半导体器件的许多副本，并且需要许多衬底来实现所需的器件体积。半导体处理操作的商业可行性在很大程度上取决于工艺条件的晶片内均匀性和晶片到晶片的可重复性，以及站到站的均匀性。因此，努力确保给定晶片的每个部分和被处理的每个晶片暴露于相同的工艺条件。工艺条件和半导体处理工具的变化会引起沉积条件的变化，从而导致整个过程和产品的不可接受的变化。需要使过程变化最小化的设备。
[0003]本文所包含的背景和上下文描述仅出于一般呈现本公开的背景的目的。本公开的大部分介绍了专利技术人的工作，仅仅因为此类工作在背景部分...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种系统，所述系统包括：半导体处理室，所述半导体处理室具有多个处理站，每个处理站包括站入口；多个歧管干线，其中每个歧管干线与相应处理站流体连接，并且包括：出口，所述出口与相应处理站的所述站入口流体连接，公共流路，所述公共流路与所述出口流体连接，多个干线入口，所述多个干线入口与所述公共流路流体连接，使得流体经由所述公共流路从每个干线入口流到所述出口，多个孔口，每个孔口具有孔口主体和延伸穿过所述孔口主体的孔，并且每个孔口与相应干线入口流体连接，使得每个干线入口流体插入在相应孔口和所述公共流路之间，以及多个阀接口，每个阀接口对应于所述歧管干线的每个孔口，多个阀，每个阀与每个歧管干线的相应阀接口连接，以及多个流体歧管，其中：每个流体歧管具有与多个支路流体连接的公共输入部，对于每个流体歧管而言，每个支路：与其他支路相比，与所述歧管干线中的不同歧管干线流体连接，并且具有在所述歧管干线中的每一个处与相应孔口流体连接的终止点，使得所述相应孔口流体插入在所述终止点和所述相应歧管入口之间，并且每个阀被配置成调节一个相应支路和所述相应孔口之间的流体流动。2.根据权利要求1所述的系统，其中所述歧管干线中的一个歧管干线还包括孔板，其中：所述孔板包括一个孔口和所述歧管干线的一个阀接口，所述阀中的一个与所述孔板的所述阀接口连接，并且所述孔板插入在一个阀和对应于所述一个孔口的所述干线入口之间。3.根据权利要求2所述的系统，其中每个歧管干线还包括多个孔板，其中：每个孔板包括一个相应的孔口和所述歧管干线的一个相应阀接口，每个阀与相应孔板的所述阀接口连接，并且每个孔板插入在每个相应阀和对应于所述相应孔口的所述干线入口中的一个干线入口之间。4.根据权利要求2所述的系统，其中所述孔口被陷型模锻到所述孔板中。5.根据权利要求2所述的系统，其中所述孔板可移除地连接到所述歧管干线。6.根据权利要求1所述的系统，所述孔口主体包括红宝石。7.根据权利要求1所述的系统，其中：每个歧管支路包括具有内径的输送管线，并且每个孔口的每个孔具有的直径小于所述内径的40％。8.根据权利要求7所述的系统，其中每个孔口的每个孔具有的直径小于所述内径的20％。9.根据权利要求1所述的系统，其中：每个阀接口为表面安装接口，并且每个阀为表面安装阀。
10.根据权利要求1所述的系统，其中：每个歧管支路终止于相应阀处，并且所述相应阀与所述孔口流体连接。11.根据权利要求1所述的系统，其中每个歧管支路终止于相应阀接口处。12.根据权利要求1所述的系统，其中所述歧管干线定位于所述处理室外部。13.根据权利要求1所述的系统，其中每个歧管的所述支路的长度基本上相同。14.根据权利要求1所述的系统，其中：所述半导体处理室包括第一处理站和第二处理站，所述多个歧管干线包括第一歧管干线和第二歧管干线，所述多个歧管包括第一歧管和第二歧管，每个歧管具有两个支路，所述第一歧管干线与所述第一处理站的第一站入口流体连接，所述第二歧管干线与所述第二处理站的第二站入口流体连接，所述第一歧管的第一支路与所述第一歧管干线的第一干线入口流体连接使得所述第一歧管干线的第一孔口流体插入在所述第一歧管干线的第一干线入口和所述第一歧管的第一支路的终止点之间，所述第一歧管的第二支路与所述第二歧管干线的第一干线入口流体连接使得所述第二歧管干线的第一孔口流体插入在所述第二歧管干线的第一干线入口和所述第一歧管的第二支路的终止点之间，所述第二歧管的第一支路与所述第一歧管干线的第二干线入口流体连接使得所述第一歧管干线的第二孔口流体插入在所述第一歧管干线的第二干线入口和所述第二歧管的第一支路的终止点之间，并且所述第二歧管的第二支路与所述第二歧管干线的第二干线入口流体连接使得所述第二歧管干线的第二孔口流体插入在所述第二歧管干线的第二干线入口和所述第二歧管的第二支路的终止点之间。15.根据权利要求14所述的系统，其中：所述半导体处理室还包括第三处理站和第四处理站，所述第一歧管和所述第二歧管各自具有四个支路，所述多个歧管干线还包括第三歧管干线和第四歧管干线，所述第三歧管干线与所述第三处理站的第三站入口流体连接，所述第四歧管干线与所述第四处理站的第...
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