一种湿压磁瓦外弧倒角模具结构制造技术

本发明专利技术公开了一种湿压磁瓦外弧倒角模具结构，包括上模本体、中模本体和下冲本体，上模本体的下端面开设有中间弧面，上模本体下端面的两侧对称开设有两个上模中弧面，中间弧面的上端面对称开设有两个上模外弧倒角，中模本体的上端面开设有中模型腔通槽，下冲本体的上端面设置有下冲弧面；本发明专利技术通过设置的非全弧面倒角设计，增加倒角平台和圆角过渡，从而解决磁瓦生坯成型裂纹及毛刺的问题，减少后续烧结、磨加工过程中掉块的情况，提高磨加工效率和成品率。和成品率。和成品率。

【技术实现步骤摘要】
一种湿压磁瓦外弧倒角模具结构


[0001]本专利技术涉及模具设计
，尤其涉及一种湿压磁瓦外弧倒角模具结构。

技术介绍

[0002]目前，众知的磁瓦产品模具只有内弧倒角，外弧没有倒角或倒角全部采用外弧到弦宽交接处全倒角设计，且倒角无过渡台阶。没有外弧倒角的模具，生产的磁瓦产品成型、烧结、磨加工过程中容易掉块，外弧全倒角、无过渡台阶模具设计，成型压制时容易产生刀口裂、滤纸滤布容易扎坏、产品外弧面毛刺大等缺陷，对模具加工精度及模具安装要求很高。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的问题，而提出的一种湿压磁瓦外弧倒角模具结构。
[0004]为达到上述目的，本专利技术采用了下列技术方案：
[0005]一种湿压磁瓦外弧倒角模具结构，包括上模本体、中模本体和下冲本体，其特征在于，所述上模本体的下端面开设有中间弧面，上模本体下端面的两侧对称开设有两个上模中弧面，中间弧面的上端面对称开设有两个上模凹槽，每个上模凹槽的内壁上均设置有上模外弧倒角，中模本体的上端面开设有中模型腔通槽，下冲本体的上端面设置有下冲弧面。
[0006]作为本专利技术的进一步技术方案，所述上模本体的下端面开设有抽水小槽，抽水小槽的内顶部开设有多个抽水孔，上模本体的上端面开设有排水槽，多个抽水孔均贯穿排水槽。
[0007]作为本专利技术的进一步技术方案，每个所述上模凹槽的内壁上均设置有上模过渡圆角，中间弧面与上模中弧面之间存在倒角。
[0008]作为本专利技术的进一步技术方案，每个所述上模中弧面的侧壁上均对称开设有两个上模侧弧面。
[0009]作为本专利技术的进一步技术方案，所述中模本体的上端面对称设置有两个中模中弧面，每个中模中弧面的侧壁上均对称设置有两个中模侧弧面，中模中弧面与中模侧弧面之间设置有中模过渡圆角。
[0010]作为本专利技术的进一步技术方案，所述中模型腔通槽的内壁上开设有注料口，注料口贯穿中模本体。
[0011]作为本专利技术的进一步技术方案，所述上模本体的下端面开设有两个上模定位销孔，中模本体的上端面开设有两个与上模定位销孔配合使用的中模定位销孔。
[0012]作为本专利技术的进一步技术方案，所述下冲弧面的侧壁上对称设置有两个凸起弧面，下冲弧面与对应的凸起弧面之间设置有下冲倒角，每个凸起弧面的顶部均设置有下冲平台。
[0013]作为本专利技术的进一步技术方案，每个所述下冲平台与对应的下冲倒角之间设置有
下冲过度圆角一，凸起弧面与下冲倒角之间设置有下冲过度圆角二，下冲本体的侧壁上开设有密封槽。
[0014]本专利技术的有益效果：
[0015]通过设置的非全弧面倒角设计，增加倒角平台和圆角过渡，从而解决磁瓦生坯成型裂纹及毛刺的问题，减少后续烧结、磨加工过程中掉块的情况，提高磨加工效率和成品率。
附图说明
[0016]图1为本专利技术的爆炸结构示意图；
[0017]图2为本专利技术的上模本体的外部结构示意图；
[0018]图3为本专利技术的上模本体的剖视图；
[0019]图4为本专利技术的中模本体的结构示意图；
[0020]图5为本专利技术的中模本体的剖视图；
[0021]图6为本专利技术的下冲本体的结构示意图；
[0022]图7为本专利技术的下冲平台的结构示意图。
[0023]图中：1、上模本体；11、上模中弧面；12、上模侧弧面；13、上模外弧倒角；14、抽水小槽；15、抽水孔；16、排水槽；17、上模过渡圆角；18、上模定位销孔；19、中间弧面；191、上模凹槽；2、中模本体；21、中模中弧面；22、中模侧弧面；23、中模过渡圆角；24、注料口；25、中模定位销孔；26、中模型腔通槽；3、下冲本体；31、下冲倒角；32、下冲平台；33、下冲过度圆角一；34、下冲过度圆角二；35、密封槽；36、下冲弧面。
具体实施方式
[0024]为更进一步阐述本专利技术为实现预定专利技术目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本专利技术的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
[0025]参照图1
‑
图7，一种湿压磁瓦外弧倒角模具结构，包括上模本体1、中模本体2和下冲本体3，上模本体1的下端面开设有中间弧面19，上模本体1下端面的两侧对称开设有两个上模中弧面11，中间弧面19的上端面对称开设有两个上模凹槽191，每个上模凹槽191的内壁上均设置有上模外弧倒角13，中模本体2的上端面开设有中模型腔通槽26，下冲本体3的上端面设置有下冲弧面36，上模中弧面11为凸起于中间弧面19的同心圆弧，两个上模外弧倒角13内侧距离要小于中模型腔通槽26尺寸1.5
‑
2.5mm，模具成型压制时，压制生成的生坯两端形成相应的0.75
‑
1.25mm平台，
[0026]上模本体1的下端面开设有抽水小槽14，抽水小槽14的内顶部开设有多个抽水孔15，上模本体1的上端面开设有排水槽16，多个抽水孔15均贯穿排水槽16，通过真空把产品水分排走。
[0027]每个上模凹槽191的内壁上均设置有上模过渡圆角17，中间弧面19与上模中弧面11之间存在倒角，倒角角度为20
°‑
45
°
，深度为0.6
‑
2mm,
[0028]每个上模中弧面11的侧壁上均对称开设有两个上模侧弧面12，
[0029]中模本体2的上端面对称设置有两个中模中弧面21，每个中模中弧面21的侧壁上均对称设置有两个中模侧弧面22，中模中弧面21与中模侧弧面22之间设置有中模过渡圆角
23，中模中弧面21与中模侧弧面22为同心圆，
[0030]中模型腔通槽26的内壁上开设有注料口24，注料口24贯穿中模本体2。
[0031]上模本体1的下端面开设有两个上模定位销孔18，中模本体2的上端面开设有两个与上模定位销孔18配合使用的中模定位销孔25，通过设置的上模定位销孔18与中模定位销孔25的配合，使模具安装时可以精确定位。
[0032]下冲弧面36的侧壁上对称设置有两个凸起弧面，下冲弧面36与对应的凸起弧面之间设置有下冲倒角31，每个凸起弧面的顶部均设置有下冲平台32。
[0033]每个下冲平台32与对应的下冲倒角31之间设置有下冲过度圆角一33，凸起弧面与下冲倒角31之间设置有下冲过度圆角二34，下冲本体3的侧壁上开设有密封槽35，用于安装密封圈。
[0034]本专利技术在使用时，将上模本体1、中模本体2和下冲本体3安装到指定位置后，通过注料口24往中模型腔通槽26内注料，此时在下冲本体3和上模本体1的配合下，压制成型所需的磁瓦生坯，在此过程中，由下冲弧面36配合压制生成磁瓦生坯的内弧，由下冲倒角31生成磁瓦生坯上的内湖倒角，由下冲平台32生成磁瓦生坯上的内弧倒角平台，且宽度为0.6
‑
1.2mm，中间弧面19配合压制生成磁瓦生坯的外弧，由上模外弧倒角13生成磁瓦生坯上的外本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种湿压磁瓦外弧倒角模具结构，包括上模本体(1)、中模本体(2)和下冲本体(3)，其特征在于，所述上模本体(1)的下端面开设有中间弧面(19)，上模本体(1)下端面的两侧对称开设有两个上模中弧面(11)，中间弧面(19)的上端面对称开设有两个上模凹槽(191)，每个上模凹槽(191)的内壁上均设置有上模外弧倒角(13)，中模本体(2)的上端面开设有中模型腔通槽(26)，下冲本体(3)的上端面设置有下冲弧面(36)。2.根据权利要求1所述的一种湿压磁瓦外弧倒角模具结构，其特征在于，所述上模本体(1)的下端面开设有抽水小槽(14)，抽水小槽(14)的内顶部开设有多个抽水孔(15)，上模本体(1)的上端面开设有排水槽(16)，多个抽水孔(15)均贯穿排水槽(16)。3.根据权利要求1所述的一种湿压磁瓦外弧倒角模具结构，其特征在于，每个所述上模凹槽(191)的内壁上均设置有上模过渡圆角(17)，中间弧面(19)与上模中弧面(11)之间存在倒角。4.根据权利要求1所述的一种湿压磁瓦外弧倒角模具结构，其特征在于，每个所述上模中弧面(11)的侧壁上均对称开设有两个上模侧弧面(12)。5.根据权利要求1所述的一种湿压磁瓦外弧倒角模具结构，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：魏小飞，
申请(专利权)人：安徽龙磁科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：