光学监控机构及镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种光学监控机构及镀膜设备，所述光学监控机构包括：监控板与转轴，所述监控板开设有第一监控孔及第二监控孔，所述第一监控孔与所述第二监控孔在所述监控板上间隔设置，且所述第一监控孔到所述监控板圆心的距离与所述第二监控孔到所述监控板圆心的距离不相等，所述第一监控孔与所述第二监控孔用于供光线穿过；所述转轴与所述监控板的圆心连接，所述转轴用于驱使所述监控板转动。通过两路光线能够检测镀膜基板不同半径位置的光强变化，以此得到两个位置的膜厚度变化，从而实现双路监控，并通过设置多个监控孔，能够实现多光路对镀膜的监控，监控板与镀膜基板同轴旋转，可保证光控采样信号的稳定与重复性，从而提高镀膜品质。而提高镀膜品质。而提高镀膜品质。

【技术实现步骤摘要】
光学监控机构及镀膜装置


[0001]本技术涉及光学镀膜设备
，特别是涉及一种光学监控机构及镀膜装置。

技术介绍

[0002]光学薄膜在近代光学发展中有着极为重要的作用。现有镀膜设备，包含电子枪蒸发镀膜设备，离子溅射镀膜设备以及磁控溅射镀膜设备在镀膜过程中，膜厚实时监控方式主要包涵时间控制，晶控以及光学监控。而对于光通信、生物医疗等一些对监控精度要求较高的产品，光学监控是膜厚监控系统中必备的要求。
[0003]传统技术中，光学监控方式多为单光路监控，只能实时读取一个位置的光控信号变化，也就只能反映出监控位置同等半径下的膜厚变化，就会导致整个镀膜过程无法了解其他未知的膜厚变化。对于一些镀制膜层多，总厚度较厚的产品，由于单炉镀膜时间太长，在整个镀膜过程中，无论是蒸发设备还是溅射设备，都无法完全保证整个过程中镀膜区域内的膜厚均匀性保持不变，尤其是离子溅射镀膜设备，随着镀膜时间的增长，栅网上会有较厚的膜层沉积，导致栅网变形，因此会导致产品的合格区域不受控，进而导致镀膜产能不受控。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要提供一种本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学监控机构，其特征在于，所述光学监控机构包括：监控板，所述监控板开设有第一监控孔及第二监控孔，所述第一监控孔与所述第二监控孔在所述监控板上间隔设置，且所述第一监控孔到所述监控板圆心的距离R1与所述第二监控孔到所述监控板圆心的距离R2不相等，所述第一监控孔与所述第二监控孔用于供光线穿过；转轴，所述转轴与所述监控板的圆心连接，所述转轴用于驱使所述监控板转动。2.根据权利要求1所述的光学监控机构，其特征在于，所述监控板还开设有第三监控孔，所述第三监控孔与所述第一监控孔、所述第二监控孔均间隔设置，且所述第三监控孔到所述监控板圆心的距离R3与所述第一监控孔到所述监控板圆心的距离R1及所述第二监控孔到所述监控板圆心的距离R2均不相等，所述第三监控孔用于供光线穿过。3.根据权利要求2所述的光学监控机构，其特征在于，沿所述第一监控孔的轴向对所述第一监控孔做截面获取第一截面，所述第一截面轮廓为矩形，且所述第一监控孔分别与监控板的高度方向的相对两侧面垂直设置。4.根据权利要求3所述的光学监控机构，其特征在于，沿所述监控板的径向对所述第一监控孔及所述第三监控孔做截面分别获取第二截面及第三截面，所述第一截面与所述第三截面均为矩形，且所述第二截面的面积大于所述第三截面的面积。5.根据权利要求2所述的光学监控机构，其特征在于，所述第二监控孔的孔壁设有第一反射面与第二反射面，所述第一反射面与所述监控板呈夹角α1设置，所述第二反射面与...

【专利技术属性】
技术研发人员：张殷，孙紫娟，余桂龙，李景会，
申请(专利权)人：苏州岚创科技有限公司，
类型：新型
国别省市：