提供一种能够充分地抑制向腔室的热传导并抑制应力的发生的反射器单元及成膜装置。反射器单元具备：圆筒状的第1反射器零件，在外周侧设有用来被成膜腔室支承的第1卡合部，在内周侧设有第1搭载部；以及圆筒状的第2反射器零件，配置在第1反射器零件的内侧，在外周侧设有用来在第1搭载部上卡合而被第1反射器零件支承的第2卡合部。承的第2卡合部。承的第2卡合部。
【技术实现步骤摘要】
反射器单元及成膜装置
[0001]相关申请
[0002]本申请主张以日本专利申请2021－131789号(申请日：2021年8月12日)为基础申请的优先权。本申请通过参照该基础申请而包含基础申请的全部内容。
[0003]本技术涉及反射器单元及成膜装置。
技术介绍
[0004]以往，在功率器件等的半导体元件的制造工序中，使用在基板上使单结晶薄膜(例如SiC)气相生长而成膜的外延生长技术。在用于外延生长技术的成膜装置中，将基板载置到被保持为常压或减压的腔室的内部，一边使该基板旋转且加热，一边向腔室内供给原料气体及掺杂气体。由此，在基板的表面发生原料气体的热分解反应及氢还原反应，在基板上成膜出外延膜。
[0005]如果将连接着原料气体的导入部并构成腔室上部的环状的顶板通过辐射热或传导热加热，则在腔室中发生较大的应力。为了抑制这样的向腔室的应力施加，在顶板的内周设有反射器单元。
[0006]气体导入部附近的构造抑制辐射及导热等的同时，为了该构造的维持而将腔室开放的维护等较容易也是重要的。但是，根据反射器、腔室的形状及将它们固定的方法，受到来自部件的热传导及其自身的温度分布的影响，在腔室上发生较大的应力。
技术实现思路
[0007]本技术的目的是提供一种能够充分地抑制向腔室的热传导、抑制应力的发生的反射器单元及成膜装置。
[0008]本技术方案的反射器单元具备：圆筒状的第1反射器零件，在外周侧设有用来被成膜腔室支承的第1卡合部，在内周侧设有第1搭载部；以及圆筒状的第2反射器零件，配置在上述第1反射器零件的内侧，在外周侧设有用来在上述第1搭载部上卡合而被上述第1反射器零件支承的第2卡合部。
[0009]此外，也可以是，上述第1卡合部其铅垂方向的位置及水平方向的相位中的至少某个与上述第2卡合部不同。
[0010]此外，也可以是，上述第1卡合部、上述第1搭载部及上述第2卡合部中的至少某个在周向上局部地大致均等配置在至少3处。
[0011]此外，也可以是，在上述第2反射器零件上，还在内周侧设有第2搭载部，反射器单元具备圆筒状的第3反射器零件，上述第3反射器零件配置在上述第2反射器零件的内侧，在外周侧设有用来在上述第2搭载部上卡合而被上述第2反射器零件支承的第3卡合部。
[0012]此外，也可以是，还具备设在上述第1搭载部与上述第2卡合部之间的第1隔热部。
[0013]此外，也可以是，还具备配置在上述第1反射器零件与上述第2反射器零件之间的
空间并具有大致圆筒形的第2隔热部。
[0014]本技术方案的成膜装置具备：腔室，在上部具有有开口的顶板，收容基板而进行成膜处理；气体供给部，设在上述腔室的上方，经由上述顶板的上述开口向上述基板上供给原料气体；加热器，将上述基板加热；以及上述的反射器单元，设置在上述顶板的上述开口。
[0015]此外，也可以是，上述反射器单元与上述顶板卡合而被固定。
[0016]此外，也可以是，上述反射器单元被固定在安装于上述气体供给部的安装部上。
[0017]根据这样的本技术方案的反射器单元及成膜装置，能够充分地抑制向腔室的热传导，抑制应力的发生。
附图说明
[0018]图1是表示第1实施方式的成膜装置的结构例的剖视图。
[0019]图2是表示反射器单元及其周边的结构例的剖视图。
[0020]图3是表示第1反射器单元的结构例的剖视图。
[0021]图4是表示反射器零件的结构例的俯视图。
[0022]图5是沿着图4的B－B线的剖视图。
[0023]图6是表示反射器零件的结构例的侧视图。
[0024]图7是表示其他的反射器零件的结构例的俯视图。
[0025]图8是沿图7的B－B线的剖视图。
[0026]图9是表示其他的反射器零件的结构例的侧视图。
[0027]图10是表示第2实施方式的第1反射器单元的结构例的剖视图。
[0028]图11是表示第1实施方式的变形例的第1反射器单元的结构例的剖视图。
[0029]图12是表示第3实施方式的第1反射器单元的结构例的剖视图。
[0030]图13是表示第1反射器单元的更详细的结构例的剖视图。
[0031]图14是表示第1支承部件的结构例的图。
[0032]图15是表示第1支承部件的结构例的图。
[0033]图16是表示第1支承部件的结构例的图。
[0034]图17是表示第2支承部件的结构例的图。
[0035]图18是表示第2支承部件的结构例的图。
[0036]图19是表示被结合的第1及第2支承部件的结构例的立体图。
[0037]图20是表示被结合的第1及第2支承部件的另一结构例的剖视图。
[0038]图21是表示被结合的第1及第2支承部件的另一结构例的俯视图。
具体实施方式
[0039]以下，参照附图说明有关本技术的实施方式。本实施方式不是限定本技术的。附图是示意性或概念性的，各部分的比率等并不一定与现实相同。在说明书和附图中，对于与关于已出现的图叙述过的要素相同的要素赋予相同的附图标记，将详细的说明适当省略。
[0040](第1实施方式)
[0041]图1是表示第1实施方式的成膜装置10的结构例的剖视图。成膜装置10具备腔室
13、内衬(liner)20、冷却部31、32、35、气体供给部12、排气部50、接受器60、支承部70、旋转机构80、下部加热器90、上部加热器95和反射器单元100。
[0042]腔室13由大致圆筒形的金属构成，例如是不锈钢制。腔室13的内部能够由连接在排气部50上的未图示的真空泵进行压力调整。
[0043]在腔室13的上方的气体供给部12，设有用来供给气体的喷嘴N及第1冷却部31、第2冷却部32。从喷嘴N供给的包括原料气体、载气、掺杂气体在内的工艺气体被第1冷却部31、第2冷却部32抑制温度上升。
[0044]腔室13能够收容基板W，进行成膜处理。在腔室13中，设有接受器60、旋转机构80、下部加热器90及上部加热器95等。从喷嘴N供给的气体在被加热的基板W的表面上反应，在基板W上形成外延膜。该外延膜例如是SiC膜等。
[0045]内衬20是对腔室13的内壁进行覆盖并保护的中空筒状的部件，例如是SiC覆层而成的碳制。内衬20抑制在腔室13的内壁上堆积副生成物。
[0046]冷却部31、32设在气体供给部12上，例如为冷却剂(例如水)的流路。通过冷却剂在流路中流动，冷却部31、32在气体供给部12内及气体供给部12的喷嘴N的周围抑制由来自上部加热器95或下部加热器90的热带来的气体的温度上升。
[0047]冷却部35设在腔室13中，与冷却部31、32同样例如为冷却剂(例如水)的流路。冷却部35设置为，使来自上部加热器95或下部加热器90的热不将腔室13加热。
[00本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种反射器单元，其特征在于，具备：圆筒状的第1反射器零件，在外周侧设有用来被支承于成膜腔室的第1卡合部，在内周侧设有第1搭载部；以及圆筒状的第2反射器零件，配置在上述第1反射器零件的内侧，在外周侧设有用来在上述第1搭载部上卡合而被上述第1反射器零件支承的第2卡合部。2.如权利要求1所述的反射器单元，其特征在于，上述第1卡合部的铅垂方向的位置及水平方向的相位中的至少某个与上述第2卡合部不同。3.如权利要求1所述的反射器单元，其特征在于，上述第1卡合部、上述第1搭载部及上述第2卡合部中的至少某个在周向上局部地大致均等配置在至少3处。4.如权利要求1所述的反射器单元，其特征在于，在上述第2反射器零件上，还在内周侧设有第2搭载部，上述反射器单元具备圆筒状的第3反射器零件，上述第3反射器零件配置在上述第2反射器零件的内侧，在外周侧设有用来在上述...
【专利技术属性】
技术研发人员：梅津拓人，矢岛雅美，铃木邦彦，
申请(专利权)人：纽富来科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。