一种釉料浓度调配机构及施釉装置制造方法及图纸

技术编号:36315681 阅读:55 留言:0更新日期:2023-01-13 10:50
本实用新型专利技术适用于施釉技术领域,公开了施釉装置,包括原釉供料机构、供水机构、釉料浓度调配机构和施釉机构,釉料浓度调配机构包括配釉桶、控制中心以及均与控制中心连接的原釉进料组件、进水组件、第一搅拌组件和浓度检测组件,只需要给定目标浓度,控制中心就可以根据给定目标浓度和配釉桶内的釉料浓度计算出需要添加的原釉容量和水容量,并将所需容量分别发送指令给原釉进料组件和进水组件,在原釉进料组件和进水组件加料后,发送指令给第一搅拌组件搅拌混合,然后再利用浓度检测组件检测混合后的釉料浓度,直至配釉桶内的釉料浓度达到目标浓度,从而实现自动配釉功能,并能够提高配釉效率。配釉效率。配釉效率。

【技术实现步骤摘要】
一种釉料浓度调配机构及施釉装置


[0001]本技术涉及施釉
,尤其涉及一种釉料浓度调配机构及施釉装置。

技术介绍

[0002]釉面砖是装修中最常见的砖种,由于色彩图案丰富,而且防污能力强,因此被广泛使用于墙面和地面装修。釉面砖在制作过程中,施釉是其中最重要的步骤之一,施釉的工艺质量能够最终决定瓷砖的成品质量。目前普遍应用的施釉方法有三种:喷釉、浸釉和淋釉。由于喷釉容易施釉不均,浸釉又容易导致釉层过厚,因此淋釉是普遍优选的实施方式。现有市面上的淋釉机、喷釉机和甩釉机虽然种类繁多,但是釉料浓度基本都是人工调配,需要经过多次调配测量才能够达到预设的调配精度,并且每次调配都需要手动取样检测,并估算原釉和水的量,调配效率低。

技术实现思路

[0003]本技术的第一个目的在于提供一种釉料浓度调配机构,其旨在解决现有的釉料浓度基本通过人工调配,需要经过多次调配测量才能够达到预设的调配精度,并且每次调配都需要手动取样检测,并估算原釉和水的量,调配效率低的技术问题。
[0004]为达到上述目的,本技术提供的方案是:
[0005]一种釉料浓度调配机构,包括配釉桶、原釉进料组件、进水组件、第一搅拌组件、浓度检测组件和控制中心,所述配釉桶设置有第一搅拌腔,所述原釉进料组件、所述进水组件、所述第一搅拌组件和所述浓度检测组件均与控制中心连接,所述原釉进料组件用于输送原釉至所述第一搅拌腔中,所述进水组件用于输送水至所述第一搅拌腔中,所述第一搅拌组件设于所述第一搅拌腔中,所述浓度检测组件用于检测抽取的釉料浓度。r/>[0006]优选地,所述原釉进料组件包括进釉管、原釉控制阀、原釉执行器和原釉流量传感器,所述进釉管的入口端用于与原釉供料机构连接,所述进釉管的出口端位于所述第一搅拌腔的上方,所述原釉控制阀和所述原釉流量传感器沿所述进釉管的流动方向依次设置在进釉管上,所述原釉执行器和所述原釉控制阀连接,用于控制所述原釉控制阀的开闭,所述原釉执行器和所述原釉流量传感器均与所述控制中心连接。
[0007]优选地,所述进水组件包括进水管、进水控制阀、进水执行器和进水流量传感器,所述进水管的入口端用于与供水机构连接,所述进水管的出口端位于所述第一搅拌腔的上方,所述进水控制阀和所述进水流量传感器沿所述进水管的流动方向依次设置在所述进水管上,所述进水执行器和所述进水控制阀连接,并用于所述控制进水控制阀的开闭,所述进水执行器和所述进水流量传感器与所述控制中心连接。
[0008]优选地,所述浓度检测组件包括储液罐、在线密度计、抽样管和第一回流管,所述抽样管一端与所述储液罐连接,另一端用于从所述第一搅拌腔中抽取釉料,所述第一回流管一端与所述储液罐连接,另一端设于所述第一搅拌腔内,所述在线密度计设置在所述储液罐上,并用于检测釉料的浓度。
[0009]优选地,所述控制中心包括控制柜和设置在所述控制柜内的控制器,所述控制柜设置有控制面板,所述原釉进料组件、所述进水组件、所述第一搅拌组件和所述浓度检测组件均与所述控制器连接。
[0010]优选地,还包括超声波组件,所述超声波组件与所述控制中心连接,所述超声波组件用于检测所述配釉桶内釉料的容量。
[0011]优选地,所述配釉桶设置有分流管、出釉管、第二回流管和第三回流管,所述分流管的进口端与所述第一搅拌腔连通,所述分流管上设置有第一出口端、第二出口端、第三出口端和第四出口端,所述出釉管安装在第一出口端,且所述出釉管的出口端位于振动筛机构上方,所述浓度检测组件与所述第二出口端连接,所述第二回流管一端与所述第三出口端连接,另一端穿过所述配釉桶伸入所述第一搅拌腔中,所述第三回流管一端与所述第四出口端连接,另一端穿过所述配釉桶伸入所述第一搅拌腔中。
[0012]优选地,所述第一搅拌组件包括驱动件、转轴、旋转叶片、叶片外罩和法兰,所述配釉桶底壁开设有与所述第一搅拌腔连通的安装孔,所述叶片外罩安装在所述配釉桶的外底壁,并与所述配釉桶围合形成叶片腔,所述旋转叶片悬空设置在所述叶片腔内,所述法兰轴向贯穿设置有安装腔,所述法兰安装在所述配釉桶的内底壁,且所述安装腔与所述叶片腔连通,所述法兰径向设置有与所述第一搅拌腔连通的进料口,所述转轴穿过所述安装腔与所述旋转叶片连接,所述驱动件安装在所述法兰的顶部,且所述驱动件的输出端与所述转轴远离所述旋转叶片的一端连接,所述驱动件用于驱动所述转轴旋转。
[0013]本技术的第二个目的在于提供一种及施釉装置,包括原釉供料机构、供水机构、釉料浓度调配机构和施釉机构,所述釉料浓度调配机构采用如上所述的釉料浓度调配机构,所述原釉供料机构与所述原釉进料组件连接,所述供水机构与所述进水组件连接,所述施釉机构包括釉料仓、淋釉钟罩和设置在所述淋釉钟罩下方的传送带组件,所述釉料仓的下端出口正对所述淋釉钟罩,所述传送带组件用于输送瓷砖,所述配釉桶的出釉管用于给所述釉料仓输送釉料。
[0014]优选地,所述施釉装置还包括搅拌机构和回收管,所述施釉机构还包括接釉槽,所述接釉槽设于所述淋釉钟罩的落釉位置,并位于所述传送带组件的下方,所述搅拌机构包括搅拌桶和设置在所述搅拌桶上的第二搅拌组件,所述搅拌桶设置有第二搅拌腔,所述第二搅拌腔与釉料仓连通,所述配釉桶的出釉管用于给所述第二搅拌腔输送釉料,所述回收管的进料端与所述接釉槽连接,所述回收管的出料端设于所述搅拌桶上方,所述搅拌组件用于将回收的釉料和所述配釉桶输送的釉料搅拌混合。
[0015]本技术提供的釉料浓度调配机构设置有控制中心以及均与控制中心连接的原釉进料组件、进水组件、第一搅拌组件和浓度检测组件,只需要给定目标浓度,通过上述各组件与控制中心的配合,可以实现自动配釉功能,并且由于其是通过机械自动配置,能够提高调配效率和调配精度。
[0016]本技术提供的施釉装置由于设置有釉料浓度调配机构,自动化程度高,能够提高釉料调配效率和调配精度,并能够有效减少工人的劳动强度。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例
或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0018]图1是本技术实施例提供的施釉装置结构示意图;
[0019]图2是本技术实施例提供的釉料浓度调配机构的结构示意图;
[0020]图3是本技术实施例提供的釉料浓度调配机构的局部示意图;
[0021]图4是本技术实施例提供的釉料浓度调配机构的局部剖视图;
[0022]图5是本技术实施例提供的驱动件、法兰和旋转叶片的组合示意图;
[0023]图6是本技术实施例提供的搅拌机构的结构示意图。
[0024]附图标号说明:
[0025]10、原釉供料机构;20、釉料浓度调配机构;21、配釉桶;211、第一搅拌腔本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种釉料浓度调配机构,其特征在于,包括配釉桶、原釉进料组件、进水组件、第一搅拌组件、浓度检测组件和控制中心,所述配釉桶设置有第一搅拌腔,所述原釉进料组件、所述进水组件、所述第一搅拌组件和所述浓度检测组件均与控制中心连接,所述原釉进料组件用于输送原釉至所述第一搅拌腔中,所述进水组件用于输送水至所述第一搅拌腔中,所述第一搅拌组件设于所述第一搅拌腔中,所述浓度检测组件用于检测抽取的釉料浓度。2.如权利要求1所述的釉料浓度调配机构,其特征在于,所述原釉进料组件包括进釉管、原釉控制阀、原釉执行器和原釉流量传感器,所述进釉管的入口端用于与原釉供料机构连接,所述进釉管的出口端位于所述第一搅拌腔的上方,所述原釉控制阀和所述原釉流量传感器沿所述进釉管的流动方向依次设置在进釉管上,所述原釉执行器和所述原釉控制阀连接,用于控制所述原釉控制阀的开闭,所述原釉执行器和所述原釉流量传感器均与所述控制中心连接。3.如权利要求1所述的釉料浓度调配机构,其特征在于,所述进水组件包括进水管、进水控制阀、进水执行器和进水流量传感器,所述进水管的入口端用于与供水机构连接,所述进水管的出口端位于所述第一搅拌腔的上方,所述进水控制阀和所述进水流量传感器沿所述进水管的流动方向依次设置在所述进水管上,所述进水执行器和所述进水控制阀连接,并用于所述控制进水控制阀的开闭,所述进水执行器和所述进水流量传感器与所述控制中心连接。4.如权利要求1所述的釉料浓度调配机构,其特征在于,所述浓度检测组件包括储液罐、在线密度计、抽样管和第一回流管,所述抽样管一端与所述储液罐连接,另一端用于从所述第一搅拌腔中抽取釉料,所述第一回流管一端与所述储液罐连接,另一端设于所述第一搅拌腔内,所述在线密度计设置在所述储液罐上,并用于检测釉料的浓度。5.如权利要求1所述的釉料浓度调配机构,其特征在于,所述控制中心包括控制柜和设置在所述控制柜内的控制器,所述控制柜设置有控制面板,所述原釉进料组件、所述进水组件、所述第一搅拌组件和所述浓度检测组件均与所述控制器连接。6.如权利要求1所述的釉料浓度调配机构,其特征在于,还包括超声波组件,所述超声波组件与所述控制中心连接,所述超声波组件用于检测所述配釉桶内釉料的容量。7.如权利要求1所述的釉料浓度调配机构,其特征在于,所述配釉桶...

【专利技术属性】
技术研发人员:许涛蔡芳君何文敏
申请(专利权)人:佛山东海诺德科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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