【技术实现步骤摘要】
带有高度差的两片式同步整流封装结构
[0001]本技术涉及集成电路封装
,具体涉及带有高度差的两片式同步整流封装结构。
技术介绍
[0002]同步整流方法是由控制IC、功率MOSFET及其附属电路组成,从而实现低损耗整流的新技术。
[0003]中国专利CN207966978U公开了带封闭式缺口的两片式同步整流二极管,通过第二框架有两个外置引脚,第二框架上设有封闭式缺口,控制IC芯片固定在第二框架,内置电容的外接线端连接第二框架上,内接线端位于封闭式缺口处;第一框架设有一个外置引脚,MOSFET芯片固定在第一框架上;所述MOSFET芯片、控制IC芯片、内置电容之间通过键合线连接;简单来说,通过采用两片式封装的形式,定制两个带有基岛的框架,分别安装控制IC芯片和功率MOSFET芯片,然后通过键合的方式,实现电路的连接;
[0004]而采用上述的键合方式,由于需要定制两个框架,成本较高,且会导致整体的尺寸过大,且两者在不同的框架上,需要对不同的框架进行固定,然后再分别安装、键合、塑封、切单和电性检查等工序,然 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.带有高度差的两片式同步整流封装结构,包括引线框架,其特征在于,引线框架包括:第一基岛(4),通过第一引脚(2)安装在框架主体(1)上,并作为MOSFET芯片(7)的载体;第二基岛(5),通过第二引脚(3)安装在框架主体(1)上,并作为IC芯片(9)和内置电容(8)的载体;第一基岛(4)和第二基岛(5)具有高度差。2.根据权利要求1所述的带有高度差的两片式同步整流封装结构,其特征在于,第一基岛(4)顶面的高度低于第二基岛(5)顶面的高度。3.根据权利要求1所述的带有高度差的两片式同步整流封装结构,其特征在于,第一引脚(2)等间距设置有多个,第二引脚(3)等间距设置有多个。4.根据权利要求1所述的带有高度差的两片式...
【专利技术属性】
技术研发人员:李联勋,
申请(专利权)人:安徽积芯微电子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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