【技术实现步骤摘要】
一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置
[0001]本技术涉及镀膜机
，尤指一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置。
技术介绍
[0002]镀膜机是一种全自动加热丝蒸散镀膜设备。其用于在真空状态下，将注塑物，例如PC、PBT、ABS及BMC等表层镀上金属膜，并在该金属膜表面再镀氧化保护膜，例如二氧化硅硅胶膜。镀膜机可在真空内自动且连续进行低真空排气、电弧离子轰击前处理、高真空排气、铝蒸散、防氧化膜镀膜等工序。其中，供待镀膜产品安装的工位可自转及公转，且旋转速度可进行调节。
[0003]现有技术中，磁控溅射镀膜装置仅在真空仓内壁两侧设有垂直方向的一组或若干组磁控溅射靶，待镀膜产品安装于仓门的支架上。在磁控溅射靶溅射的过程中，靶原子需要克服其自重，且待镀膜产品端部位置相较于其中间部位的靶基距较大，故当待镀膜产品端部具有弧形或者其他立体的不规则形状时，能够溅射至端部的靶原子较少，端部位置的膜层均匀性和一致性较差，使端部较中间部位可能存在色差，导致产品镀膜的良品率较低，影响生产效率和生产成本。
[0004]因此，如何对现有...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，包括：真空仓；磁控溅射靶，呈纵向地设于所述真空仓侧壁面；磁控辅助靶，呈横向地设于所述真空仓的上壁面和/或下壁面；仓门，可转动地安装于所述真空仓的开口处；工装总成，包括驱动组件、转轴和支架；所述转轴设于所述仓门上；所述支架设于所述转轴上，用以安装待镀膜产品；所述驱动组件用以在镀膜过程中驱动所述转轴带动所述支架转动，及所述磁控溅射靶和所述磁控辅助靶朝向待镀膜产品溅射靶原子，使靶原子在待镀膜产品上沉积形成厚度一致的膜层。2.根据权利要求1所述的一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述磁控辅助靶的数量为两个，对称设置于所述真空仓的上壁面和下壁面，且对应所述支架设置。3.根据权利要求2所述的一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，两所述磁控辅助靶自所述真空仓的内壁面朝向所述支架的方向倾斜延伸。4.根据权利要求2或3所述的一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置，其特征在于，所述驱动组件包括第一传动件、第二传动件和连接于所述第一传动件的驱动件；所述第一传动件设于所述真空仓的内壁面，所述第二传动件与所述转轴连接；所述第一传动件用以与所述第二传动件啮合；所述驱动件用以驱动所述第一传动件，使所述第一传动件带动所述第二传动件转动，实现所述支架以所述转轴为轴线转动。5.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员：周征华，夏伟，李花，朱显君，沈聚丰，李龙哲，
申请(专利权)人：上海哈呐技术装备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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