一种带有缝隙谐振天线结构的磁控溅射离子镀装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及磁控溅射离子镀技术领域，且公开了一种带有缝隙谐振天线结构的磁控溅射离子镀装置，包括底座，所述底座顶部固定连接有真空炉体，所述真空炉体顶部设置有功能机构，所述功能机构左侧固定连接有过滤机构，所述底座左侧固定连接有移动机构。该带有缝隙谐振天线结构的磁控溅射离子镀装置，通过设置功能机构，微波等离子比RF

【技术实现步骤摘要】
一种带有缝隙谐振天线结构的磁控溅射离子镀装置


[0001]本专利技术涉及磁控溅射离子镀
，具体为一种带有缝隙谐振天线结构的磁控溅射离子镀装置。

技术介绍

[0002]目前等离子辅助磁控溅射离子镀设备使用的离子辅助方式多是射频电源方式，称之为RF
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ICP(射频感应耦合)离子源，本专利技术采用微波等离子 (Microwave plasma)具有电离能力强、等离子体密度高(10～10"cm')、气压低(10”Pa量级)、性能稳定等特点。反应粒子活性高、离子能量低、无高能粒子损伤、没有污染、磁场约束、减少等离子体与反应室壁的相互作用。是一种低气压、高密度等离子体源，能够在较低的气压下产生大面积均匀的高密度等离子体，比RF
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ICP(射频感应耦合)离子源更有优势；但是微波等离子辅助方法在矩形的装置上容易存在均匀性问题，本专利在于设计缝隙谐振天线方式的机构，可以很方便去做大面积矩形离子源的均匀性调整。
[0003]现有的微波辅助离子源多使用于MPCVD方法沉积金刚石膜，而且都使用固定格式的波导(BJ26)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带有缝隙谐振天线结构的磁控溅射离子镀装置，包括底座(2)，其特征在于：所述底座(2)顶部固定连接有真空炉体(1)，所述真空炉体(1)顶部设置有功能机构(4)，所述功能机构(4)左侧固定连接有过滤机构(5)，所述底座(2)左侧固定连接有移动机构(3)；所述功能机构(4)包括功放器(406)，所述真空炉体(1)顶部设置有功放器(406)，所述功放器(406)右侧设置有微波监测器(410)，所述微波检测器右侧固定连接有弯波导(407)，所述弯波导(407)右侧设置有三销钉(408)，所述弯波导(407)底端固定连接有直波导(411)，所述直波导(411)底端固定连接有狭缝谐振天线组(409)，所述狭缝谐振天线组(409)底端固定连接有短路棒(405)。2.根据权利要求1所述的一种带有缝隙谐振天线结构的磁控溅射离子镀装置，其特征在于：所述真空炉体(1)左侧固定连接有插板阀一(403)，所述插板阀一(403)左侧固定连接有分子泵一(401)。3.根据权利要求1所述的一种带有缝隙谐振天线结构的磁控溅射离子镀装置，其特征在于：所述真空炉体(1)左侧固定连接有插板阀二(404)，所述插板阀二(404)左侧固定连接有分子泵二(402)。4.根据权利要求1所述的一种带有缝隙谐振天线结构的磁控溅射离子镀装置，其特征在于：所述真空炉体(1)前侧固定连接有溅射靶座，所述溅射靶座设置有两个，两个溅射靶座分别位于真空炉体(1)正面左右两侧。5.根据权利要求1所述的一种带有缝隙谐振天线结构的磁控溅射离子镀装置，其特征在于：所述移动机构(3)包括支架(301)，所述支架(301)固定连接于底座(2)左侧，所述支架(301)内侧开设有空腔(305)，所述空腔(305)内右侧固定连接有电动伸缩杆(309)，所述电动伸缩杆(309)左端固定连接有活动块(302)，所述活动块(302)左侧固定连接有推块(304)，所述支架(301)底部固定连接有支撑块(306)。6.根据权利要求5所述的一种带有缝隙谐振天线结构的磁控溅射离子镀装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈炳州，
申请(专利权)人：南通派锐泰特精密科技有限公司，
类型：发明
国别省市：