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本实用新型公开了一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置，包括真空仓、磁控溅射靶、磁控辅助靶、仓门以及工装总成。磁控溅射靶呈纵向地设于真空仓侧壁面。磁控辅助靶呈横向地设于真空仓的上壁面和/或下壁面。仓门可转动地安装于真空仓的开口处。工装总成包括驱动...
该专利属于上海哈呐技术装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海哈呐技术装备有限公司授权不得商用。

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