一种用于激光打印作业区的真空底座模块制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于激光打印作业区的真空底座模块，该底座模块包括吸附框架、升降装置、驱动装置、挡块。在吸附框架底部设置可升降装置，使吸附装置能上升至指定位置与框架产品贴合，再通过真空吸附以实现对不同翘曲程度框架产品的有效吸附。程度框架产品的有效吸附。程度框架产品的有效吸附。

【技术实现步骤摘要】
一种用于激光打印作业区的真空底座模块


[0001]本技术涉及半导体框架产品封装
，具体涉及一种用于激光打印作业区的真空底座模块。

技术介绍

[0002]随着半导体行业内框架的种类不断的增加，各框架的翘曲程度不一。这对于打印机台的要求变得更高，需要提高对此类翘曲框架产品的作业能力。目前行业内大多使用两种方案：一种是使用BIV配合底部真空吸附进行定位作业，另一种是使用物理定位针进行定位作业。
[0003]由于各类框架的翘曲程度不同，上述第一种类型的定位方式——BIV定位精度更高，但因翘曲程度大的产品，真空吸附时产品会发生偏移，导致BIV定位失败，频繁报警。因此，每次作业产品时，需重新教导，产品间翘曲程度不同时，无法保证每次教导都起到作用，这样会大大降低作业效率。对于另一种物理定位针定位，则存在着戳破框架产品使框架变形的风险以及对于尺寸较小的框架产品，精度难以达到要求，偏移量难以精确控制，各框架间定位孔位置不同，增加改机难度等问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种用于激光打印作业区的真空底座模块，以解本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于激光打印作业区的真空底座模块，其特征在于：包括吸附框架、升降装置、驱动装置、挡块和底座；所述升降装置和驱动装置设于底座上；所述吸附框架上设有贯穿其上、下表面的偶数排真空孔，所述吸附框架按框架产品在导轨运动方向分为近端和远端，所述挡块设于吸附框架的所述远端；所述吸附框架底部设有所述升降装置，升降装置包括两个螺杆和移动块，所述移动块上设有两个螺纹孔，所述两个螺杆分别穿设于所述两个螺纹孔与所述移动块螺纹连接；所述移动块内设有一空腔，所述空腔的前后两侧沿导轨运动方向分别设有滑槽；所述移动块上设有一连接柱，连接柱远离所述移动块的一端与所述吸附框架固定连接，所述连接柱靠近所述移动块的一端设有通孔，通孔与所述滑槽相对应，所述通孔内设有滑动件，所述滑动件能带动所述连接柱于所述滑槽上滑动；所述驱动装置用于驱动所述升降装置。2.如权利要求1所述的真...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐浩宇，金玉梅，刘涛，
申请(专利权)人：江苏柒捌玖电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：